蒸镀掩模制造技术

本发明专利技术提供蒸镀掩模，在使蒸镀掩模紧密贴合于被蒸镀基板时，能够抑制在该蒸镀掩模上产生皱褶。蒸镀掩模(20)具备：构成面对被蒸镀基板的一侧的面的第1面(20a)；和构成第1面(20a)的相反侧的面的第2面(20b)，蒸镀掩模具有形成有多个贯通孔(25)的有效区域(22)，具有长度方向(dL)，并沿长度方向(dL)排列有1个以上的有效区域(22)，且翘曲成至少在长度方向(dL)的中央部的与长度方向(dL)垂直的截面中凸向第1面(20a)侧。

【技术实现步骤摘要】
蒸镀掩模
本专利技术涉及在使蒸镀材料以所期望的图案蒸镀至有机EL基板等被蒸镀基板上时所使用的蒸镀掩模。
技术介绍
近年，对于在智能手机或平板电脑等可移动设备中使用的显示装置，要求高精细化，例如要求像素密度为500ppi以上。另外，即使对于可移动设备，应对超高清(UHD)的需要也在不断高涨，这种情况下，要求显示装置的像素密度为例如800ppi以上。在显示装置中，由于响应性良好、能耗低且对比度高，有机EL显示装置正在受到关注。作为形成有机EL显示装置的像素的方法，已知这样的方法：使用包含有以所希望的图案排列的贯通孔的蒸镀掩模，以所希望的图案形成像素。具体来说，首先，使蒸镀掩模紧密贴合于有机EL显示装置用的有机EL基板(被蒸镀基板)，接着，将紧密贴合的蒸镀掩模和有机EL基板一起放入蒸镀装置中，执行使有机材料(蒸镀材料)蒸镀到有机EL基板上的蒸镀工序。在使蒸镀掩模紧密贴合于被蒸镀基板时，例如，预先在被蒸镀基板的与蒸镀掩模相反的一侧的面上配置磁铁，通过使蒸镀掩模靠近被蒸镀基板，由此，能够借助来自磁铁的磁力将蒸镀掩模向该磁铁吸引而使其紧密贴合于被蒸镀基板。作为这样的蒸镀掩模，已知通过使用了光刻技术的蚀刻法而形成有多个贯通孔的蒸镀掩模(参照JP2015-214741A)。在JP2015-214741A所公开的蒸镀掩模中，从形成蒸镀掩模的金属板的一个面侧通过蚀刻形成第1凹部，从该金属板的另一个面侧通过蚀刻形成第2凹部，通过该第1凹部和第2凹部形成蒸镀掩模的各贯通孔。由此，能够得到这样的蒸镀掩模：沿着与蒸镀掩模的长度方向平行的方向排列有多个具有多个贯通孔的有效区域。在使用蒸镀掩模来使蒸镀材料在被蒸镀基板上成膜的情况下，蒸镀材料不仅附着于基板上，也附着于蒸镀掩模上。例如，在蒸镀材料中，也存在沿着相对于蒸镀掩模的法线方向大幅地倾斜的方向朝向被蒸镀基板的蒸镀材料，但这样的蒸镀材料在到达被蒸镀基板之前到达并附着于蒸镀掩模的贯通孔的壁面上。这种情况下，在被蒸镀基板的位于蒸镀掩模的贯通孔的壁面附近的区域中，蒸镀材料难以附着，其结果是，可以想到：附着的蒸镀材料的厚度比其它部分小，或者产生未附着蒸镀材料的部分。即，可以认为，蒸镀掩模的贯通孔的壁面附近的蒸镀变得不稳定。因此，在为了形成有机EL显示装置的像素而使用了蒸镀掩模的情况下，像素的尺寸精度或位置精度低下，其结果是，存在有机EL显示装置的发光效率低下的担忧。为了抑制这样的不良情况的发生，要求通过减小蒸镀掩模整体的厚度来减小蒸镀掩模的贯通孔的壁面的高度，从而降低蒸镀材料中的附着于贯通孔的壁面上的部分的比率。可是，这样的减小了厚度的、即薄板化的蒸镀掩模在紧密贴合于被蒸镀基板时容易产生皱褶。特别是在蒸镀掩模具有长度方向且沿着该长度方向张紧的情况下，蒸镀掩模容易产生沿着其长度方向延伸的皱褶。对于这样的蒸镀掩模的皱褶，本专利技术的专利技术人们进行了认真的研究后发现：在蒸镀掩模内，在被配置于被蒸镀基板的与蒸镀掩模相反的一侧的磁铁的磁力向被蒸镀基板吸引的时刻，存在偏差。已知在两个物体间作用的磁力与这两个物体间的距离的平方成反比。在蒸镀掩模具有长度方向且沿着该长度方向被张紧的情况下，随着张紧而沿蒸镀掩模的宽度方向在该蒸镀掩模上产生微小的起伏。本专利技术的专利技术者们认为：由于在该蒸镀掩模的宽度方向上产生的微小的起伏，导致与磁铁之间的距离在蒸镀掩模的宽度方向上产生偏差，由此，该蒸镀掩模在被向被蒸镀基板吸引的时刻产生偏差。即，可以认为：蒸镀掩模内的与磁铁之间的距离小的部位比与磁铁之间的距离大的部位先紧密贴合于被蒸镀基板。在蒸镀掩模和被蒸镀基板紧密贴合的部位，摩擦力起作用，由于该摩擦力，在该部位处，蒸镀掩模在被蒸镀基板的板面方向上的移动受到阻碍。因此，对于蒸镀掩模中的位于先紧密贴合于被蒸镀基板上的两处部位之间的区域来说，由于该紧密贴合的部位处的蒸镀掩模在被蒸镀基板的板面方向上的移动受到阻碍，因此，上述区域无法紧密贴合于被蒸镀基板。与未进行薄板化的蒸镀掩模相比较，薄板化的蒸镀掩模在沿长度方向张紧时所产生的起伏相对变大。由此，可以认为：薄板化的蒸镀掩模在紧密贴合于被蒸镀基板时容易产生皱褶。
技术实现思路
本专利技术是考虑了这样的问题而完成的，其目的在于，在使蒸镀掩模紧密贴合于被蒸镀基板时抑制在该蒸镀掩模上产生皱褶。本专利技术的蒸镀掩模在蒸镀材料向被蒸镀基板的蒸镀中被使用，并具备：第1面，其构成所述蒸镀掩模的面对所述被蒸镀基板的一侧的面；和第2面，其构成所述蒸镀掩模的与所述第1面相反的一侧的面，其中，所述蒸镀掩模具有形成有多个贯通孔的有效区域，所述蒸镀掩模具有长度方向，且沿着所述长度方向排列有1个以上的所述有效区域，所述蒸镀掩模翘曲成至少在所述长度方向的中央部的与所述长度方向垂直的截面中凸向所述第1面侧。在本专利技术的蒸镀掩模中，可以是，所述蒸镀掩模具有包围所述有效区域的周围区域，在配置于所述周围区域中的靠所述有效区域的宽度方向的一侧的位置处的1个以上的总间隔标记中，将最接近所述长度方向的中央部的总间隔标记作为第1总间隔标记，在配置于所述周围区域中的靠所述有效区域的所述宽度方向的另一侧的位置处的1个以上的总间隔标记中，将与所述第1总间隔标记相对应的总间隔标记作为第2总间隔标记，设将所述蒸镀掩模以所述第1面朝向上方的方式载置于水平的平坦面上时的所述第1总间隔标记与所述第2总间隔标记之间的沿所述宽度方向的距离为D1(mm)，设将所述蒸镀掩模以所述第1面朝向上方的方式载置于水平的平坦面上并从上方对所述蒸镀掩模施加载荷而使所述蒸镀掩模平坦化时的、所述第1总间隔标记与所述第2总间隔标记之间的沿所述宽度方向的距离为D2(mm)，此时，所述距离D2与所述距离D1之差(D2-D1)的值大于0mm且小于0.05mm。在本专利技术的蒸镀掩模中，可以是，在最接近所述蒸镀掩模的宽度方向的一侧的端缘的1个以上的所述贯通孔中，将最接近所述长度方向的中央部的贯通孔作为第1贯通孔，在最接近所述蒸镀掩模的所述宽度方向的另一侧的端缘的1个以上的所述贯通孔中，将与所述第1贯通孔之间的沿所述长度方向的分离距离最小的贯通孔作为第2贯通孔，设将所述蒸镀掩模以所述第1面朝向上方的方式载置于水平的平坦面上时的所述第1贯通孔与所述第2贯通孔之间的沿所述宽度方向的距离为D1(mm)，设将所述蒸镀掩模以所述第1面朝向上方的方式载置于水平的平坦面上并从上方对所述蒸镀掩模施加载荷而使所述蒸镀掩模平坦化时的、所述第1贯通孔与所述第2贯通孔之间的沿所述宽度方向的距离为D2(mm)，此时，所述距离D2与所述距离D1之差(D2-D1)的值大于0mm且小于0.05mm。根据本专利技术，在使蒸镀掩模紧密贴合于被蒸镀基板时，能够有效地抑制在该蒸镀掩模上产生皱褶。附图说明图1是用于说明本专利技术的一个实施方式的图，并且是示出含有蒸镀掩模的蒸镀掩模装置的一例的概略俯视图。图2是用于说明使用图1所示的蒸镀掩模装置使蒸镀材料蒸镀于被蒸镀基板上的方法的图。图3是示出图1所示的蒸镀掩模的立体图。图4是在与图3的IV-IV线对应的截面中示出蒸镀掩模的图。图5是示出图3的蒸镀掩模的俯视图。图6是示出图1所示的蒸镀掩模的部分俯视图。图7是沿着图6的蒸镀掩模的VII-VII线的剖视图。图8是沿着图6的蒸镀掩模的VIII-VIII线的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种蒸镀掩模，其在蒸镀材料向被蒸镀基板的蒸镀中被使用，并具备：第1面，其构成所述蒸镀掩模的面对所述被蒸镀基板的一侧的面；和第2面，其构成所述蒸镀掩模的与所述第1面相反的一侧的面，其特征在于，所述蒸镀掩模具有形成有多个贯通孔的有效区域，所述蒸镀掩模具有长度方向，且沿着所述长度方向排列有1个以上的所述有效区域，所述蒸镀掩模翘曲成至少在所述长度方向的中央部的与所述长度方向垂直的截面中凸向所述第1面侧。

【技术特征摘要】
2016.11.18 JP 2016-2254351.一种蒸镀掩模，其在蒸镀材料向被蒸镀基板的蒸镀中被使用，并具备：第1面，其构成所述蒸镀掩模的面对所述被蒸镀基板的一侧的面；和第2面，其构成所述蒸镀掩模的与所述第1面相反的一侧的面，其特征在于，所述蒸镀掩模具有形成有多个贯通孔的有效区域，所述蒸镀掩模具有长度方向，且沿着所述长度方向排列有1个以上的所述有效区域，所述蒸镀掩模翘曲成至少在所述长度方向的中央部的与所述长度方向垂直的截面中凸向所述第1面侧。2.根据权利要求1所述的蒸镀掩模，其特征在于，所述蒸镀掩模具有包围所述有效区域的周围区域，在配置于所述周围区域中的靠所述有效区域的宽度方向的一侧的位置处的1个以上的总间隔标记中，将最接近所述长度方向的中央部的总间隔标记作为第1总间隔标记，在配置于所述周围区域中的靠所述有效区域的所述宽度方向的另一侧的位置处的1个以上的总间隔标记中，将与所述第1总间隔标记相对应的总间隔标记作为第2总间隔标记，设将所述蒸镀掩模以所述第1面朝向上方的方式载置于水平的平坦面上时的所述第1总间隔标记与所述第2总间隔标记之间的沿所述宽度方向的距离为D1mm，设将所述蒸镀掩模以所述第1...

【专利技术属性】
技术研发人员：池永知加雄，
申请(专利权)人：大日本印刷株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP