线性蒸发源及连续式蒸镀设备制造技术

本发明专利技术公开了一种线性蒸发源，包括：坩埚，用于对材料进行第一次蒸发；第一加热器，用于加热坩埚；喷射管，喷射管与坩埚连通，用于对材料进行第二次蒸发，喷射管包括管本体以及若干个喷嘴，若干个喷嘴沿管本体的长度方向排列于管本体上；第二加热器，用于对喷射管进行加热。本发明专利技术还公开一种连续式蒸镀设备，包括若干个相互连通的真空镀膜腔、传送机构和线性蒸发源，传送机构用于传输待蒸镀样品，线性蒸发源设置于真空镀膜腔内，喷嘴朝向待蒸镀样品。在线性蒸发源中通过设置两个加热器可控制蒸发量和蒸发速率，设置若干个喷嘴实现大面积喷涂。在连续式蒸镀设备中通过设置传送机构使得多个待蒸镀样品在各个真空蒸镀腔内连续移动，实现连续蒸镀。

Linear evaporation source and continuous evaporation equipment

The invention discloses a linear steam source including a crucible for the first evaporation of the material; the first heater is used for heating the crucible; the ejector tube and the ejector pipe are connected to the crucible for second evaporation of the material. The ejector pipe includes the tube body and a number of nozzles, and the length of the nozzle is along the length of the tube. The second heater is used for heating the spray pipe. The invention also discloses a continuous steam plating equipment, including several interconnected vacuum coating cavity, transmission mechanism and linear steam source. The transmission mechanism is used to transmit the sample to be steamed, and the linear evaporation source is set in the vacuum coating cavity, and the nozzle faces the sample to be steamed. By setting two heaters in a linear evaporation source, evaporation and evaporation rate can be controlled, and a number of nozzles are set up to achieve large area spraying. In continuous evaporating equipment, a plurality of evaporated samples are moved continuously in each vacuum evaporation chamber by setting up a transmission mechanism to realize continuous evaporation.

【技术实现步骤摘要】
线性蒸发源及连续式蒸镀设备
本专利技术涉及镀膜设备领域，更具体地说，涉及一种线性蒸发源及连续式蒸镀设备。
技术介绍
镀膜在现在生活中越来越常见，例如为了防止手机、平板电脑和智能手表等电子产品的触摸屏上留下指纹，需要在触摸屏上堵上一层具有疏油、疏水的防指纹膜。一般地，防指纹膜可以使用涂覆法或者真空蒸镀法进行制备。单体真空腔体蒸镀法是目前商业大规模应用的方案。在使用该蒸镀发是，待蒸镀成防指纹膜的高分子材料蒸发源被制备封装成小坩埚样式置于真空腔体中，通过电子束轰击加热蒸发源将高分子材料蒸发到玻璃或者其他基底上，可通过玻璃基底的旋转来提高均匀性。蒸发源一般为一次性耗材，蒸完后通过打开单体的真空腔体更换新一批材料来进行下一轮的蒸镀。单体真空腔体蒸镀法的缺点是蒸发源原材料制备复杂，成本高；并且电子束蒸发对于大面积基底的均匀性控制能力有限；同时，单体式腔体需要不断升降温及开闭降低了生产效率，同时也增加了腔体污染的几率。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题在于克服现有技术的不足，提供一种蒸发量和蒸发速率可控且可实现大面积蒸镀的线性蒸发源。为了实现上述的目的，本专利技术采用了如下的技术方案：一种线本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种线性蒸发源，其特征在于，包括：坩埚(10)，用于容纳材料并对所述材料进行第一次蒸发；第一加热器(20)，用于加热所述坩埚(10)；喷射管(30)，所述喷射管(30)与所述坩埚(10)连通，用于对所述材料进行第二次蒸发，且所述喷射管(30)包括管本体(32)以及若干个喷嘴(31)，所述若干个喷嘴(31)沿所述管本体(32)的长度方向排列于所述管本体(32)上，所述喷嘴(31)用于将经过第二次蒸发的所述材料喷出；第二加热器(40)，用于对所述喷射管(30)进行加热。

【技术特征摘要】
1.一种线性蒸发源，其特征在于，包括：坩埚(10)，用于容纳材料并对所述材料进行第一次蒸发；第一加热器(20)，用于加热所述坩埚(10)；喷射管(30)，所述喷射管(30)与所述坩埚(10)连通，用于对所述材料进行第二次蒸发，且所述喷射管(30)包括管本体(32)以及若干个喷嘴(31)，所述若干个喷嘴(31)沿所述管本体(32)的长度方向排列于所述管本体(32)上，所述喷嘴(31)用于将经过第二次蒸发的所述材料喷出；第二加热器(40)，用于对所述喷射管(30)进行加热。2.根据权利要求1所述的线性蒸发源，其特征在于，所述坩埚(10)包括坩埚本体和坩埚盖，所述坩埚本体的一端开设有敞口，所述坩埚盖盖设于所述敞口上，所述坩埚盖开设有通孔，所述管本体(32)为一端封闭且另一端开口的圆柱体管道，所述管本体(32)的开口与所述坩埚盖的通孔对接。3.根据权利要求2所述的线性蒸发源，其特征在于，所述线性蒸发源还包括一端封闭且另一端开口的第一屏蔽罩(50)，所述坩埚(10)设置于所述第一屏蔽罩(50)内，所述第一加热器(20)设置于所述坩埚(10)与所述第一屏蔽罩(50)之间。4.根据权利要求2所述的线性蒸发源，其特征在于，所述线性蒸发源还包括第二屏蔽罩(60)，所述第二屏蔽罩(60)的两端开口且沿长度方向上开设有第一长槽(61)，所述管本体(32)设置于所述第二屏蔽罩(60)内，且所述喷嘴(31)伸出于所述第...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨世航，刘壮，张撷秋，崔骏，李霖，
申请(专利权)人：深圳先进技术研究院，
类型：发明
国别省市：广东,44