一种N型单面电池的制作方法技术

技术编号:17997510 阅读:110 留言:0更新日期:2018-05-19 14:23
本发明专利技术公开了一种N型单面电池的制作方法,包括:提供一衬底;在所述衬底的正面形成P

【技术实现步骤摘要】
一种N型单面电池的制作方法
本专利技术涉及太阳能电池
,更具体地说,尤其涉及一种N型单面电池的制作方法。
技术介绍
随着科学技术的不断发展,太阳能电池已广泛应用于人们的日常生活以及工业中,目前市场上流行的是P型多晶电池片,但是其效率并不高,逐渐无法满足市场需求。为了避免P型多晶电池片的问题,各个行业中出现了N型电池片的生产及应用,但是目前N型电池片均是N型双面电池,因为存在背光面反射少的问题,导致电池的短路电流较小。为了解决N型双面电池反射少,短路电流小的问题,N型单面电池应用而生,但是,现有技术中,N型单面电池的生产成本很高,且生产良率低。
技术实现思路
为解决上述问题,本专利技术提供了一种N型单面电池的制作方法,该制作方法有效降低N型单面电池的生产成本,提高生产良率。为实现上述目的,本专利技术提供如下技术方案:一种N型单面电池的制作方法,所述制作方法包括:提供一衬底;在所述衬底的正面形成P+层;在所述衬底的背面形成N+层;在所述P+层背离所述衬底的一侧依次形成第一钝化层以及第二钝化层;在所述N+层背离所述衬底的一侧形成第三钝化层;在所述第三钝化层背离所述N+层的一侧通过丝网印刷本文档来自技高网...
一种N型单面电池的制作方法

【技术保护点】
一种N型单面电池的制作方法,其特征在于,所述制作方法包括:提供一衬底;在所述衬底的正面形成P

【技术特征摘要】
1.一种N型单面电池的制作方法,其特征在于,所述制作方法包括:提供一衬底;在所述衬底的正面形成P+层;在所述衬底的背面形成N+层;在所述P+层背离所述衬底的一侧依次形成第一钝化层以及第二钝化层;在所述N+层背离所述衬底的一侧形成第三钝化层;在所述第三钝化层背离所述N+层的一侧通过丝网印刷的方式形成银浆薄膜层。2.根据权利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述衬底为N型衬底。3.根据权利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述在所述衬底的正面形成P+层包括:对所述衬底的正面进行碱制绒处理;当碱制绒处理完成后,在所述衬底的正面进行硼扩散,形成P+层;刻蚀去除所述衬底背面上经过硼扩散形成的pn结和正面上经过硼扩散形成的硼硅玻璃。4.根据权利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述制作方法还包括:当P+层形成后,在所述P+层背离所述衬底的一侧形成掩膜层;其中,所述掩膜层为SiON层,且所述掩膜层的厚度为40nm-120nm,包括端点值...

【专利技术属性】
技术研发人员:王金艺徐冠群包健张昕宇金浩
申请(专利权)人:浙江晶科能源有限公司晶科能源有限公司
类型:发明
国别省市:浙江,33

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