一种放射性去污高强度可剥离膜、其制备方法及应用技术

本发明专利技术公开了一种放射性去污高强度可剥离膜、其制备方法及应用，目的在于解决现有的剥离型压制去污剂主要用于大面积放射性沉降物的压制和清除，而用于松散污染的去除，具有一定局限性的问题。其采用如下重量百分比的原料制备而成：聚异戊二烯50%‑70%，硫磺0.3%‑3%，纳米白炭黑0.25%‑3%，促进剂ZDC 0.3%‑2%，防老剂D 0.5%‑2%，氧化锌0.1%‑1%，酪素0.05%‑1.0%，EDTA 0.5%‑2%，分散剂BX 0.02%‑0.5%，水20%‑40%等。本发明专利技术对聚异戊二烯基料进行硫化改性，并与其他组分复配，得到一种放射性去污高强度可剥离膜，其有效克服了原可剥离膜成膜强度不够，不易剥离的缺点。经实际验证，本发明专利技术的可剥离去污剂成膜强度高，拉伸强度可达110 kg/cm

A radioactivity decontamination high strength stripping film, preparation method and application thereof

The invention discloses a radioactive decontamination high strength peeling film, the preparation method and application of the present invention. The aim is to solve the existing peeling type suppressing detergents mainly used for the suppression and removal of large area radioactive precipitates, and for the removal of loose pollution, which has some limitations. It uses the following weight percentage of raw materials: polyisoprene 50%, sulphur 0.3%, 3%, nanometer white carbon black 0.25% 3%, accelerator ZDC 0.3% 2%, antioxidant D 0.5% 2%, Zinc Oxide 0.1% 1%, casein 0.05% 0.05% 1%, EDTA dispersants BX. The invention has the advantages of vulcanization and modification of polyisoprene base material and combined with other components, and a kind of radioactive decontamination high strength peeling film is obtained, which effectively overcomes the shortcoming of insufficient film forming strength of the original peeling film and not easy to peel off. It is proved by practice that the peeling and degrading agent of the invention has high film forming strength and tensile strength up to 110 kg/cm.

【技术实现步骤摘要】
一种放射性去污高强度可剥离膜、其制备方法及应用
本专利技术涉及化学领域，尤其是化学去污领域，具体为一种放射性去污高强度可剥离膜、其制备方法及应用。
技术介绍
国内外已进行的核设施退役工作表明，去污在核设施退役中起着相当大作用，其不仅可以降低退役作业中职业受照剂量，减少退役作业防护费用，而且可以极大地减少放射性废物的产生量，实现去污后物料的回收、再利用，进而降低后续处理、运输、贮存和处置费用。由于可剥离膜放射性去污剂具有二次废物量少，不产生交叉污染，适合大面积去污，设备简单，操作方便，适用范围广等特点，越来越受到人们的关注，有望广泛应用于放射性物质去污领域。可剥离膜去污剂的去污机理如下：1)成膜剂(即可剥离膜去污剂)中加入了络合剂，离子态的放射性污染物质在与成膜剂接触时，发生化学接合，并随干燥后的涂膜去除；2)对于固态污染物来说，液态的成膜剂能够渗透到松散的粒子之间，将粒状物质包住，固定于膜上；3)涂膜的吸附作用使牢固沾染在表面的放射性物质脱离表面，进而实现去污的目的。可剥离膜去污剂的防污作用主要是形成了薄膜，阻断了污染物与物体表面的接触，并有效防止液态物质的渗透。而可剥离去污剂的吸附本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种放射性去污高强度可剥离膜，其特征在于，采用如下重量百分比的原料制备而成：聚异戊二烯 50%‑70%，硫磺 0.3%‑3%，纳米白炭黑 0.25%‑3%，促进剂ZDC 0.3%‑2%，防老剂D 0.5%‑2%，氧化锌 0.1%‑1%，酪素 0.05%‑1.0%，EDTA 0.5%‑2%，分散剂BX 0.02%‑0.5%，水 20%‑40%。

【技术特征摘要】
1.一种放射性去污高强度可剥离膜，其特征在于，采用如下重量百分比的原料制备而成：聚异戊二烯50%-70%，硫磺0.3%-3%，纳米白炭黑0.25%-3%，促进剂ZDC0.3%-2%，防老剂D0.5%-2%，氧化锌0.1%-1%，酪素0.05%-1.0%，EDTA0.5%-2%，分散剂BX0.02%-0.5%，水20%-40%。2.根据权利要求1所述放射性去污高强度可剥离膜，其特征在于，所述硫磺的含量为1.0-2.0wt%。3.根据权利要求1或2所述放射性去污高强度可剥离膜，其特征在于，所述纳米白炭黑的含量为1.0%-2.0%。4.根据权利要求3所述放射性去污高强度可剥离膜，其特征在于，所述EDTA的含量为1.0%-2.0%。5.根据权利要求1-4任一项所述放射性去污高强度可剥离膜，其特征在于，还包括原料质量0.3~8.0%的丙三醇。6.根据权利要求1-5任一项所述放射性去污高强度可剥离膜的制备方法，其...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵东，田青青，黄鹤翔，董文静，彭晓霞，周晓波，林桢辉，武俊红，黄磊，谢长红，
申请(专利权)人：中国工程物理研究院材料研究所，
类型：发明
国别省市：四川,51