喷头支撑结构制造技术

本公开内容的实施方式大体提供用于在处理腔室中支撑气体分配喷头的设备和方法。在一个实施方式中，用于真空腔室的气体分配喷头包括：矩形主体，所述矩形主体具有四个侧面、第一主表面和与第一主表面相对的第二主表面、在第一主表面和第二主表面之间的在纵向方向上穿过主体形成的多个气体通道；中心支撑构件，所述中心支撑构件耦接至在其中心区域中的主体；和中间支撑构件，所述中间支撑构件耦接至在中心区域和侧面之间的主体。

Nozzle support structure

The embodiments of the disclosure generally provide an apparatus and method for supporting gas distribution sprinklers in a processing chamber. In an implementation, the gas distribution nozzle for the vacuum chamber includes a rectangular body, which has four sides, a first main surface and a second main surface relative to the first main surface, a plurality of gas channels formed through the main body between the first main surface and the second main surface in the longitudinal direction; The central support member is coupled to the main body in its central area and the middle support member coupled to the main body between the central region and the side.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】喷头支撑结构
本公开内容的实施方式总体大体涉及在等离子体腔室内支撑气体分配喷头。更具体地，本公开内容涉及允许气体经由气体分配喷头流向腔室的支撑结构。
技术介绍
等离子体增强化学气相沉积(PECVD)是用来将处理气体经由气体分配喷头引入处理腔室内的沉积方法。喷头被电偏置以将处理气体点燃成等离子体。与喷头相对地安置的基座电接地并且充当阳极。当处理气体流入喷头和基座之间的处理空间中时，喷头扩散处理气体。PECVD近来普遍用于在大面积基板上沉积材料。大面积基板可具有大于约1平方米的表面积。大面积基板可用于平板显示器(FPD)、太阳能电池板(solarpanel)、有机发光显示器(OLED)和其他应用。这些工艺要求大面积基板经受300℃至400℃或更高的温度，并且在沉积期间维持在相对于喷头的固定位置以确保沉积层均匀性。喷头通常是以间隔关系被支撑在大面积基板上方的多孔板，大面积基板适合用于分散处理气体并且一般具有与待处理基板实质上相同的面积。喷头一般由铝制成并且当在PECVD处理期间承受温度时经受膨胀和收缩。通常围绕边缘和中心支撑喷头以维持基板和喷头之间的处理空间。然而，典型的喷头支撑体系可能会本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于真空腔室的气体分配喷头，所述气体分配喷头包括：矩形主体，所述矩形主体具有四个侧面、第一主表面和与所述第一主表面相对的第二主表面、和在所述第一主表面和第二主表面之间的在纵向方向上穿过所述主体形成的多个气体通道；多个中心支撑构件，所述多个中心支撑构件耦接至在其中心区域中的所述主体；和多个中间支撑构件，所述多个中间支撑构件耦接至在所述中心区域和所述侧面之间的所述主体。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.09.22 US 62/222,1731.一种用于真空腔室的气体分配喷头，所述气体分配喷头包括：矩形主体，所述矩形主体具有四个侧面、第一主表面和与所述第一主表面相对的第二主表面、和在所述第一主表面和第二主表面之间的在纵向方向上穿过所述主体形成的多个气体通道；多个中心支撑构件，所述多个中心支撑构件耦接至在其中心区域中的所述主体；和多个中间支撑构件，所述多个中间支撑构件耦接至在所述中心区域和所述侧面之间的所述主体。2.如权利要求1所述的气体分配喷头，其中所述中心支撑构件和所述中间支撑构件的一者或两者的至少一部分包括悬架特征结构，所述悬架特征结构设置在所述气体分配喷头的所述多个气体通道的气体通道中。3.如权利要求2所述的气体分配喷头，其中所述多个气体通道的每一者包括形成在所述第一主表面中的第一孔，所述第一孔通过孔口流体地耦接至形成在所述第二主表面中的第二孔。4.如权利要求3所述的气体分配喷头，其中第一替代气体通道以相对于所述气体通道的纵向方向的倾斜角度穿过所述主体形成，所述第一替代气体通道与所述气体通道的所述第一孔相交。5.如权利要求1所述的气体分配喷头，其中所述中心支撑构件和所述中间支撑构件的一者或两者的至少一部分包括提供所述主体的横向运动的枢转结构。6.如权利要求5所述的气体分配喷头，其中所述中心支撑构件和所述中间支撑构件的一者或两者的至少一部分包括耦接至悬架特征结构的槽/键装置，所述悬架特征结构设置在所述气体分配喷头的所述多个气体通道的气体通道中。7.如权利要求6所述的气体分配喷头，其中所述悬架特征结构包括与所述气体分配喷头耦接的接口主体和紧固件。8.如权利要求6所述的气体分配喷头，其中...

【专利技术属性】
技术研发人员：罗宾·L·蒂纳，艾伦·K·劳，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：发明
国别省市：美国,US