基于原子力显微镜的检测平台制造技术

本发明专利技术公开了一种基于原子力显微镜的检测平台，该检测平台包括基台和腔体单元，基台用于放置待测样品，腔体单元包括环形壁，环形壁用于压设待测样品以使得待测样品压置定位于基台。通过上述方式，本发明专利技术不仅能够提高检测平台的通用性，也可以提高检测结果的准确度。

Detection platform based on atomic force microscope

The invention discloses a detection platform based on atomic force microscope (AFM). The detection platform includes the base platform and the cavity unit, the base platform is used to place the sample to be measured, the cavity unit includes the ring wall, and the ring wall is used to press the sample to be measured so as to enable the sample to be pressed and positioned at the base platform. Through the above way, the invention can not only improve the universality of the detection platform, but also improve the accuracy of the detection results.

【技术实现步骤摘要】
基于原子力显微镜的检测平台
本专利技术涉及检测设备
，特别是涉及一种基于原子力显微镜的检测平台。
技术介绍
在显示面板的制造过程中，每一制造程序对产品的性能均有着至关重要的影响。因此，监控每一制造程序中产品的质量是非常重要的。原子力显微镜是一种可用来研究包括绝缘体在内的固体材料表面结构的分析仪器。原子力显微镜通过检测待测样品表面和一个微型力敏感元件之间的极微弱的原子间相互作用力来研究物质的表面结构及性质。将一对微弱力极端敏感的微悬臂一端固定，另一端的探针接近样品，这时探针将与样品相互作用，作用力将使得微悬臂发生形变或运动状态发生变化。扫描样品时，利用传感器检测这些变化，就可获得作用力分布信息，从而以纳米级分辨率获得表面形貌结构信息及表面粗糙度信息。一般情况下，原子力显微镜的检测平台包括基台、样品固定支架以及定位销，待测样品的尺寸大于基台的入光孔的尺寸且小于定位销的尺寸，在待测样品置于基台，利用固定支架固定待测样品后，可用原子力显微镜进行检测。但是，在测试过程中，由于受到定位销和样品固定支架的限制，样品的大小一般为2cm×2cm的矩形，使原子力显微镜不能够检测尺寸较小或者较大的待测样品，导致检测平台的通用性较差；进一步地，由于将待测样品置于基台后，直接利用原子力显微镜检测，待测样品容易受到空气中的水分和气流的影响，进而使检测结果不准确。
技术实现思路
本专利技术主要是提供一种基于原子力显微镜的检测平台，旨在解决受限于待测样品的尺寸而导致检测平台的通用性较差以及样品受到空气中水分和气流的影响而导致检测结果不准确的问题。为解决上述技术问题，本专利技术采用的一个技术方案是：提供一种基于原子力显微镜的检测平台，该检测平台包括：基台，基台用于放置待测样品；腔体单元，腔体单元包括环形壁，环形壁用于压设待测样品以使得待测样品压置定位于基台。本专利技术的有益效果是：区别于现有技术的情况，本专利技术的检测平台包括基台和腔体单元，基台用于放置待测样品，腔体单元包括环形壁，环形壁用于压设待测样品以使得待测样品压置定位于基台。通过环形壁压设待测样品以使得待测样品压置定位于基台，可以使检测平台检测尺寸较大或较小的待测样品，提高了检测平台的通用性；进一步地，由于环形壁的设置，可以使环形壁内部的待测样品不受外部气流的影响，提高了检测结果的准确度。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图，其中：图1是本专利技术第一实施例检测平台的结构示意图；图2是本专利技术第二实施例检测平台的结构示意图；图3是本专利技术第三实施例检测平台的结构示意图；图4是本专利技术第四实施例检测平台的结构示意图；图5是本专利技术第五实施例检测平台的结构示意图；图6a-6c是本专利技术第五实施例中检测平台在A-A处的截面示意图；图7a-7c是本专利技术第五实施例中检测平台在B-B处的截面示意图；图8是本专利技术第六实施例检测平台的结构示意图；具体实施方式为使本专利技术的上述目的、特征和优点能够更为明显易懂，下面结合附图，对本专利技术的具体实施方式做详细的说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅用于解释本专利技术，而非对本专利技术的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本专利技术相关的部分而非全部结构。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本专利技术保护的范围。本专利技术中的术语“第一”、“第二”等是用于区别不同对象，而不是用于描述特定顺序。此外，术语“包括”和“具有”以及它们任何变形，意图在于覆盖不排他的包含。例如包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备没有限定于已列出的步骤或单元，而是可选地还包括没有列出的步骤或单元，或可选地还包括对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。在本文中提及“实施例”意味着，结合实施例描述的特定特征、结构或特性可以包含在本专利技术的至少一个实施例中。在说明书中的各个位置出现该短语并不一定均是指相同的实施例，也不是与其它实施例互斥的独立的或备选的实施例。本领域技术人员显式地和隐式地理解的是，本文所描述的实施例可以与其它实施例相结合。请参阅图1，图1是本专利技术第一实施例检测平台的结构示意图。本实施例的检测平台10包括基台11和腔体单元12。基台11设有入光孔111，待测样品100盖设于入光孔111，以使得在基台11远离待测样品100一侧的入射光通过入光孔111照射待测样品100。可选地，待测样品100的形状可以为正方形，在其它实施例中，待测样品100的形状可以为其它多边形或者圆形。应理解，本专利技术不对待测样品100的尺寸进行限定，用户可根据实际情况选择合适的尺寸。例如，在待测样品100为正方形时，正方形的边长可以为8-30mm之间的任一长度，例如，正方形的边长可以为8mm、20mm或者30mm。可选地，基台11的形状和尺寸也可以有多种选择，用户可根据实际情况进行确定，本专利技术对此不作限定。例如，在一种实施例中，基台11的形状可以为圆形，该圆形的直径可以为50mm。入光孔111可以设置在基台11的中心。可选地，入光孔111的形状可以为圆形。可选地，入光孔111的直径可以为2～5mm。例如，入光孔111的直径可以为2mm、3mm或者5mm。通过将待测样品100盖设于入光孔111，使得在基台11远离待测样品100一侧的入射光通过入光孔111照射待测样品100，便于用户观察能够被光照射到的待测样品100。腔体单元12包括环形壁121，环形壁121用于压设待测样品100以使得待测样品100压置定位于基台11。可以理解的，环形壁121在压设于待测样品100时，能够完全压置待测样品100，也即环形壁121靠近待测样品100一端的内侧壁在待测样品100上的投影完全落入待测样品100上。可选地，环形壁围设于入光孔。进一步的，在环形壁121压置定位待测样品100后，原子力显微镜的扫描头从环形壁121远离基台11的一侧伸入到环形壁121的内部对待测样品100进行检测。可选地，环形壁121从远离基台11的一端至基台11的方向上，截面面积可保持不变、逐渐减小或逐渐增大。请参阅图1，图1是本专利技术第一实施例检测平台10的结构示意图。在本实施例中，环形壁121从远离基台11的一端至基台11的方向上，截面面积保持不变。请参阅图2，图2是本专利技术第二实施例检测平台10的结构示意图。在本实施例中，环形壁121从远离基台11的一端至基台11的方向上，截面面积逐渐减小。请参阅图3，图3是本专利技术第三实施例检测平台10的结构示意图。在本实施例中，环形壁121从远离基台11的一端至基台11的方向上，截面面积逐渐增大。在实际应用中，不同实施例中的环形壁121能够适用不同尺寸的待测样品100，比如当待测样品100的尺寸较小时，例如待测样品100的尺寸小于扫描头的尺寸时，为了同时满足环形壁121远离基台11的一端能够使得扫描头伸入环形壁121的内部以及环形壁121靠近基台11的一端能够完全压置待测样品100，则可以使用如图2所示的截面面积逐渐减小的环形壁121；同理，当本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基于原子力显微镜的检测平台，其特征在于，所述检测平台包括：基台，所述基台用于放置待测样品；腔体单元，所述腔体单元包括环形壁，所述环形壁用于压设所述待测样品以使得所述待测样品压置定位于所述基台。

【技术特征摘要】
1.一种基于原子力显微镜的检测平台，其特征在于，所述检测平台包括：基台，所述基台用于放置待测样品；腔体单元，所述腔体单元包括环形壁，所述环形壁用于压设所述待测样品以使得所述待测样品压置定位于所述基台。2.根据权利要求1所述的测试平台，其特征在于，所述基台设有入光孔，所述待测样品盖设于所述入光孔，以使得在所述基台远离所述待测样品一侧的入射光通过所述入光孔照射所述待测样品。3.根据权利要求2所述的测试平台，其特征在于，所述环形壁包括第一环形子壁及第二环形子壁，所述第一环形子壁用于在所述待测样品的尺寸大于或等于预设尺寸时压置所述待测样品，所述第二环形子壁至少部分位于所述第一环形子壁内，以在所述待测样品的尺寸小于所述预设尺寸时，压置所述待测样品。4.根据权利要求3所述的测试平台，其特征在于，所述第二环形子壁从远离所述基台的一端至所述基台的方向上，截面面积...

【专利技术属性】
技术研发人员：张维维，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44