【技术实现步骤摘要】
属于冶金类，真空冶金领域。
技术介绍
，轻金属冶炼学。第十八章；有碳素非真空热还原法；硅素真空热还原法；铝素真空热还原法；碳化钙真空热还原法。本专利技术的目的，在于降低生产成本。要求保护的本专利技术的技术方案是真空还原炉用碳作为还原剂。本专利技术与
技术介绍
相比，所具有的有益效果是与硅法相比，可降低生产成本吨镁1万元，降低还原炉的工作温度，延长炉子和还原管的使用寿命，并可提高生产率。实现本专利技术的最好方式是在硅法的基础上，改用碳作为还原剂；改进部份是改变配料，不用硅铁的和氟化钙；而直接用焙烧白云石加白煤或焦粉；另，真空泵抽出气应集中排放，或者回收，并控制炉温1000-1100度。权利要求本专利技术的技术特征1、真空还原生产镁的技术中，以碳为还原剂。真空中2.改24小时生产贰周期为叁周期。(还原管真空法)3.在真空中用氢氧化镁或氧化镁以碳为还原剂生产镁。真空中4.还原管内远红外热辐射内涂层技术。5.还原炉内远红外热辐射内涂层技术。全文摘要本专利技术属冶金类，真空冶金领域。需要解决的技术问题是把真空泵抽出的CO气集中排放或者回收。主要技术特征是镁生产的真空还原法，用碳做...
【技术保护点】
本专利技术的技术特征：１、真空还原生产镁的技术中，以碳为还原剂。＊＊＊２、改２４小时生产贰周期为叁周期。（还原管真空法）３、在真空中用氢氧化镁或氧化镁以碳为还原剂生产镁。＊＊＊４、还原管内远红外热辐射内涂层技术。５、 还原炉内远红外热辐射内涂层技术。
【技术特征摘要】
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