一种光催化还原氧化石墨烯用复合膜的制备方法技术
Preparation method of composite membrane for photocatalytic reduction of graphene oxide
The invention provides a preparation method of a composite film for photocatalytic reduction of graphene oxide, including the following steps: first, using acetone to carry out ultrasonic cleaning of the base band of NiW alloy. The base band of the alloy after cleaning is placed in a tubular furnace, and the NiO /WO3 composite film is obtained by heat treatment in the atmosphere of low oxygen partial pressure; two. In propionic acid, the stable copper precursor was obtained; the copper precursor was coated on the NiO/WO3 composite membrane obtained in step 1 and then placed in a tubular furnace. The surface of the NiO/WO3/Cu2O composite membrane was obtained under the protection of the reduced gas. In the NiO/WO3/Cu2O composite film prepared by the invention, the Cu2O is mainly (111) orientation, and the surface is smooth and has high photocatalytic reduction effect on the graphene oxide. This method is suitable for the large-scale production of NiO/WO3/Cu2O composite film, and also easy to realize rapid continuous photocatalytic reduction of graphene oxide.
【技术实现步骤摘要】
一种光催化还原氧化石墨烯用复合膜的制备方法
本专利技术属于光催化复合膜制备
，具体涉及一种光催化还原氧化石墨烯用复合膜的制备方法。
技术介绍
石墨烯由于具有超大比表面积、高导电性、良好的导热性以及高机械性能等特点而在诸多领域，包括航空、储能、散热器、显示器等具有重要的应用前景，因此备受关注。而快速制备高质量石墨烯是其实现其大规模应用的关键所在。在目前已经发展出的众多制备技术中，最适合大规模制备的技术主要包括化学氧化还原法和化学气相沉积(CVD)法两大类，前者主要用于制备石墨烯的粉体材料，后者则主要用于制备石墨烯薄膜。事实上，由于化学氧化还原石墨烯法制备工艺简单，成本较低，故被认为是最适合大规模生产石墨烯的方法，因此得到人们的广泛重视。然而，在氧化石墨烯还原过程中，人们最初采用水合肼做为还原剂，尽管其还原效果较好，但是由于其具有一定的毒性，容易对环境造成污染，因此人们又相继探索了多种可能的环保型还原剂以及还原方法来实现对氧化石墨烯的还原。其中光催化还原法由于具有安全、环境友好、易于操作以及高效等优点而受到人们的关注。尽管人们已经探索了多种可能的光催化还原剂，但...
【技术保护点】
一种光催化还原氧化石墨烯用复合膜的制备方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：步骤一、首先采用丙酮对NiW合金基带进行超声清洗，然后将表面清洗洁净的NiW合金基带置于管式炉中，在低氧分压气体气氛下以5℃/min～20℃/min的升温速率升温至900℃～1100℃后保温0.5h～1h，然后以2℃/min～10℃/min的降温速率降温至25℃室温，得到表面粗糙的NiO/WO3复合膜；步骤二、将醋酸铜溶解于丙酸中，得到浓度为0.1mol/L～0.8mol/L的铜前驱液，然后将所述铜前驱液涂覆在步骤一中得到的NiO/WO3复合膜上，再置于管式炉中，在还原性气体保护下，以1℃/min～...
【技术特征摘要】
1.一种光催化还原氧化石墨烯用复合膜的制备方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：步骤一、首先采用丙酮对NiW合金基带进行超声清洗，然后将表面清洗洁净的NiW合金基带置于管式炉中，在低氧分压气体气氛下以5℃/min～20℃/min的升温速率升温至900℃～1100℃后保温0.5h～1h，然后以2℃/min～10℃/min的降温速率降温至25℃室温，得到表面粗糙的NiO/WO3复合膜；步骤二、将醋酸铜溶解于丙酸中，得到浓度为0.1mol/L～0.8mol/L的铜前驱液，然后将所述铜前驱液涂覆在步骤一中得到的NiO/WO3复合膜上，再置于管式炉中，在还原性气体保护下，以1℃/min～5℃/min的升温速率升温至900℃～1000℃后保温0.5h～1h，再以5℃/min～20℃/min的降温速率降温至25℃室温，最后得到表面平整的NiO/WO3/Cu2O复合膜。2.根据权利要求1所述的一种光催化还原氧化石墨烯用复合膜的制备方法，其特征在于，步骤一中所述低氧分压气体由氧气和氩气混合而成，或者由氧气和氮气混合而成，所述低氧分压气体中氧气的体...
【专利技术属性】
技术研发人员：王耀，金利华，李成山，冯建情，梁明，张平祥，
申请(专利权)人：西北有色金属研究院，
类型：发明
国别省市：陕西,61
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