像素界定层及其制备方法和应用技术

本发明专利技术一种像素界定层及其制备方法和应用，制备方法包括如下步骤：提供基板，采用旋涂工艺于所述基板上涂覆光刻胶，所述光刻胶中添加有纳米颗粒；所述旋涂工艺的控制参数为：以95‑105转/min速度持续9‑11s，再以650‑750转/min速度持续9‑11s；采用分步曝光的方法蚀刻去除像素区域的光刻胶，即得所述像素界定层。上述像素界定层的制备方法在不改变现有工艺的条件下，对Bank溶液进行参杂改性使得在旋涂完毕后，单个子像素内Bank边缘亲疏液呈现差异的形式来调整同一子像素内墨水在不同边缘处的挥发速率，从而改善并优化成膜效果，达到增加器件制作良率、增强器件效果的作用。

【技术实现步骤摘要】
像素界定层及其制备方法和应用
本专利技术涉及发光器件
，特别是涉及一种像素界定层及其制备方法和应用。
技术介绍
随着显示技术的逐渐发展，OLED因为其优良的显示性能得到各方的关注。LG、三星和BOE等企业逐渐增大其在OLED显示技术上的投资。常规蒸镀方式制作OLED面临材料利用率低等问题，为进一步降低OLED屏幕生产成本，以印刷方式制作OLED也被各大厂商逐渐提上研发和生产日程。在现有工艺中，在以打印方式制作OLED时，需要对印刷的像素区域制作像素界定层(PDL)，也叫Bank。Bank为一墨水槽，在印刷时，打印的功能层墨水在Bank中逐层沉积干燥，并最后通过蒸镀电极形成器件。现有Bank底部边缘为平滑形貌，同时为使得墨水的良好铺展，Bank底面一般为亲液性质。在实际制作过程中，因为打印完的基板由内基板中心到基板边缘上方溶剂蒸汽压不同，致使打印完后的墨水在干燥成膜时速率存在差异，甚至在单个子像素内，因为其左右挥发速率的不同导致成膜由内到外呈现梯度性不均匀现象。该成膜不均直接导致印刷制备的器件中心部分和边缘部分轻则呈现亮度、色域和寿命的上的差异，重责可直接导致器件短路、甚至击穿(本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种像素界定层的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：提供基板，采用旋涂工艺于所述基板上涂覆光刻胶，所述光刻胶中添加有纳米颗粒；所述旋涂工艺的控制参数为：以95‑105转/min速度持续6‑20s，再以650‑750转/min速度持续6‑20s；采用分步曝光的方法蚀刻去除像素区域的光刻胶，即得所述像素界定层。

【技术特征摘要】
1.一种像素界定层的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：提供基板，采用旋涂工艺于所述基板上涂覆光刻胶，所述光刻胶中添加有纳米颗粒；所述旋涂工艺的控制参数为：以95-105转/min速度持续6-20s，再以650-750转/min速度持续6-20s；采用分步曝光的方法蚀刻去除像素区域的光刻胶，即得所述像素界定层。2.根据权利要求1所述的像素界定层的制备方法，其特征在于，所述旋涂工艺的控制参数为：以95-105转/min速度持续9-11s，再以650-750转/min速度持续9-11s。3.根据权利要求1所述的像素界定层的制备方法，其特征在于，所述纳米颗粒选自氮化硅或含氟聚合物；所述纳米颗粒的尺寸为10-30nm。4.根据权利要求1所述的像素界定层的制备方法，其特征在于，所述光刻胶中所述纳米颗粒的浓度小于10w...

【专利技术属性】
技术研发人员：李耘，
申请(专利权)人：广东聚华印刷显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44