【技术实现步骤摘要】
一种通过荧光成像测量面温度场的方法
本专利技术涉及温度的光学测量
,具体涉及一种通过荧光成像测量面温度场的方法。
技术介绍
光测温度技术的典型优点包括免疫电磁干扰、可以无线远程测量等。工程应用中光测温度技术采用的原理主要有光纤光栅透射或反射光的频移、斯托克斯/反斯托克斯拉曼谱线强度比、荧光寿命随温度猝灭而缩短等。利用荧光材料发光的温度敏感性作温度场分析的优点是较容易获得很高的空间分辨力,最小达到纳米级。一种荧光法温度场测量技术--基于时间相关单光子计数的时域荧光寿命成像系统,它的每一个像素单元都集成一个时间数字转换(Time-to-DigitalConverter,TDC),所有像素点同时工作,从像素单元输出的数据中提取出荧光寿命,进而得到温度场分布(时域荧光寿命成像结构及寿命测试获取方法,中国201610578033.3)。这种方法的缺点是响应速度较慢、测量的实时性差。本专利技术给出的荧光成像测量温度场的方法,拍摄被测物体表面上涂覆的荧光材料的真彩荧光像,通过荧光像中每个像素的红/绿/蓝(R/G/B)三种成分的强度比例与温度的关系来作温度传感,荧光像中的像 ...
【技术保护点】
一种通过荧光成像测量面温度场的方法,它包括数码成像设备中各像素的温度传感函数的标定方法以及制备温度敏感荧光涂层、荧光成像、计算温度场的流程,其特征在于方法步骤如下:步骤一、根据温度敏感荧光材料的发光特性,选用合适的激发光激发出材料荧光;步骤二、拍摄记录不同温度下材料的荧光数码图像,确定数码像中各像素点R/G/B分量的强度比例与温度之间的关系,并将该关系作为被测面温度场中各对应像素点的温度传感函数;具体步骤如下:步骤2‑1. 在一定温度范围内渐次设置改变荧光材料所处的环境温度;步骤2‑2. 用数码图像拍摄装置记录步骤2‑1所述各个温度下荧光材料在暗背景中的数码图像;步骤2‑3 ...
【技术特征摘要】
1.一种通过荧光成像测量面温度场的方法,它包括数码成像设备中各像素的温度传感函数的标定方法以及制备温度敏感荧光涂层、荧光成像、计算温度场的流程,其特征在于方法步骤如下:步骤一、根据温度敏感荧光材料的发光特性,选用合适的激发光激发出材料荧光;步骤二、拍摄记录不同温度下材料的荧光数码图像,确定数码像中各像素点R/G/B分量的强度比例与温度之间的关系,并将该关系作为被测面温度场中各对应像素点的温度传感函数;具体步骤如下:步骤2-1.在一定温度范围内渐次设置改变荧光材料所处的环境温度;步骤2-2.用数码图像拍摄装置记录步骤2-1所述各个温度下荧光材料在暗背景中的数码图像;步骤2-3.读取步骤2-2所述数码图像中各像素点的R、G、B强度分量,计算分量R/G/B的数值比例;步骤2-4.拟合得到各像素点的R/G/B分量强度比例与温度的关系函数;步骤三、将所述荧光材料涂覆于待测温度分布的物体表面形成敏感层,用步骤一所用的激发光激发暗背景中的荧光材料,使用步骤二的数码图像拍摄装置记录敏感层的荧光图像,计算出图像像素阵列中各像素点的R/G/B分量强度...
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