一种大行程微纳加工装置制造方法及图纸

一种大行程微纳加工装置，它涉及电子加工设备技术领域；泵浦与飞秒激光振荡器连接，飞秒激光振荡器的一侧通过光闸设置有第一反射镜，第一反射镜的下方设置有第二反射镜，第二反射镜的一侧设置有第三反射镜，第三反射镜的一侧依次设置有第一透镜、第二透镜和转镜，转镜的一侧依次设置有第三透镜、第四透镜和电介质镜，电介质镜的上方设置有显微镜头，显微镜头上设置有盖玻片，盖玻片上设置有光刻胶，盖玻片设置在三维移动平台上；所述的电介质镜的下方设置有第四反射镜，第四反射镜的一侧依次设置有第五透镜和CCD扫描仪。本实用新型专利技术无需掩膜板，加工结构一次成型，避免了多次曝光带来的掩膜板对齐误差和生产周期的延长。

A large stroke micro / nano machining device

Micro nano processing device of a large stroke, which relates to the technical field of electronic processing equipment; the pump is connected with the femtosecond laser oscillator, femtosecond laser oscillator light through the side gate is provided with a first reflector, a second reflector is arranged below the first reflector, second side mirror is provided with third side mirror, third mirror are provided with a first lens, a second lens and mirror, one side mirror is provided with a third lens, the fourth lens and the dielectric mirror, a lens arranged above the dielectric mirror of the microscope head is arranged on the cover glass, glass is arranged on the photoresist, coverslips arranged on a three-dimensional mobile platform; fourth mirror the dielectric mirror is arranged below the fourth side mirror is provided with a fifth lens and a CCD scanner. The utility model does not need to mask the film plate, and the processing structure is formed in one time, which avoids the alignment error of the mask plate and the prolongation of the production cycle.

【技术实现步骤摘要】
一种大行程微纳加工装置
本技术涉及电子加工设备
，具体涉及一种大行程微纳加工装置。
技术介绍
随着平板显示、微电子器件和激光全息行业的快速发展和技术进步，对激光微纳加工装置的性能提出了更高的要求。随着激光光源技术的不断发展，激光加工制造技术逐步的渗透到高新科技领域，促进了高新科技的实用化和产业化发展，而这反过来又对激光加工技术提出了更高的要求，这其中，如何提高加工精度是首要面临的问题。传统的光刻技术需要制作掩膜板，特别是结构越复杂，往往需要越多的掩膜板，而掩膜板越多，就意味着曝光次数越多，同时也带来了每次曝光时掩膜板都需要精准对齐的困难，这使生产复杂度和误差都大大增加，延长了生产周期。
技术实现思路
本技术的目的在于针对现有技术的缺陷和不足，提供一种结构简单、设计合理、使用方便的大行程微纳加工装置。为实现上述目的，本技术采用的技术方案是：它包含泵浦、飞秒激光振荡器、光闸、第一反射镜、第二反射镜、第三反射镜、第一透镜、第二透镜、转镜、第三透镜、第四透镜、电介质镜、显微镜头、盖玻片、光刻胶、三维移动平台、第四反射镜、第五透镜、CCD扫描仪；所述的泵浦与飞秒激光振荡器连接，飞秒激光振荡器的一侧通过光闸设置有第一反射镜，第一反射镜的下方设置有第二反射镜，第二反射镜的一侧设置有第三反射镜，第三反射镜的一侧依次设置有第一透镜、第二透镜和转镜，转镜的一侧依次设置有第三透镜、第四透镜和电介质镜，电介质镜的上方设置有显微镜头，显微镜头上设置有盖玻片，盖玻片上设置有光刻胶，盖玻片设置在三维移动平台上；所述的电介质镜的下方设置有第四反射镜，第四反射镜的一侧依次设置有第五透镜和CCD扫描仪。作为优选，所述的三维移动平台包含上压电陶瓷、载样平台、下压电陶瓷、微悬臂、滑块、移动平台；所述的上压电陶瓷的下方设置有载样平台，载样平台的下方设置有下压电陶瓷，下压电陶瓷的下方设置有滑块，滑块由电机驱动，滑块的下方设置有两个移动平台；所述的盖玻片设置在载样平台上，微悬臂与盖玻片连接。作为优选，所述的飞秒激光振荡器与光闸之间设置有衰减片。作为优选，所述的光闸、转镜、三维移动平台和CCD扫描仪与计算机线路连接。作为优选，所述的显微镜头的上方设置有照明灯。本技术的工作原理为：飞秒激光由飞秒激光振荡器射出后经衰减片功率降至合适值，光闸在合适的时间通断激光束，经过三个反射镜后，激光光束由一个无焦望远镜进行阔束，由电脑控制转镜通过反射激光光束实现二维扫描。在经过两个相同透镜后，激光光束被反射入具有高数值孔径的显微镜头并被聚焦在光刻胶中引发双光电子吸收光致聚合。载有光刻胶的盖玻片置于载样平台上，由下压电陶瓷驱动载样平台做X\Y方向的运动，配合转镜控制的水平方向的二维运动，电机带动滑块产生Z向运动，电机使两个移动平台在X、Y向大范围运动，从而实现激光光电相对于光刻胶的三维运动。采用上述结构后，本技术产生的有益效果为：本技术所述的一种大行程微纳加工装置，无需掩膜板，加工结构一次成型，避免了多次曝光带来的掩膜板对齐误差和生产周期的延长，本技术具有结构简单、设置合理、制作成本低等优点。附图说明图1是本技术的结构图；图2是本技术三维移动平台的结构图。附图标记说明：泵浦1、飞秒激光振荡器2、光闸3、第一反射镜4、第二反射镜5、第三反射镜6、第一透镜7、第二透镜8、转镜9、第三透镜10、第四透镜11、电介质镜12、显微镜头13、盖玻片14、光刻胶15、三维移动平台16、第四反射镜17、第五透镜18、CCD扫描仪19、压电陶瓷20、载样平台21、下压电陶瓷22、微悬臂23、滑块24、移动平台25、衰减片26、计算机27、照明灯28。具体实施方式为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。参看如图1——图2所示，本具体实施方式采用如下技术方案：它包含泵浦1、飞秒激光振荡器2、光闸3、第一反射镜4、第二反射镜5、第三反射镜6、第一透镜7、第二透镜8、转镜9、第三透镜10、第四透镜11、电介质镜12、显微镜头13、盖玻片14、光刻胶15、三维移动平台16、第四反射镜17、第五透镜18、CCD扫描仪19；所述的泵浦1与飞秒激光振荡器2连接，飞秒激光振荡器2的一侧通过光闸3设置有第一反射镜4，第一反射镜4的下方设置有第二反射镜5，第二反射镜5的一侧设置有第三反射镜6，第三反射镜6的一侧依次设置有第一透镜7、第二透镜8和转镜9，转镜9的一侧依次设置有第三透镜10、第四透镜11和电介质镜12，电介质镜12的上方设置有显微镜头13，显微镜头13上设置有盖玻片14，盖玻片14上设置有光刻胶15，盖玻片14设置在三维移动平台16上；所述的电介质镜12的下方设置有第四反射镜17，第四反射镜17的一侧依次设置有第五透镜18和CCD扫描仪19。作为优选，所述的三维移动平台16包含上压电陶瓷20、载样平台21、下压电陶瓷22、微悬臂23、滑块24、移动平台25；所述的上压电陶瓷20的下方设置有载样平台21，载样平台21的下方设置有下压电陶瓷22，下压电陶瓷22的下方设置有滑块24，滑块24由电机驱动，滑块24的下方设置有两个移动平台25；所述的盖玻片14设置在载样平台21上，微悬臂23与盖玻片14连接。作为优选，所述的飞秒激光振荡器2与光闸3之间设置有衰减片26。作为优选，所述的光闸3、转镜9、三维移动平台16和CCD扫描仪19与计算机27线路连接。作为优选，所述的显微镜头13的上方设置有照明灯28。本具体实施方式的工作原理为：飞秒激光由飞秒激光振荡器2射出后经衰减片功率降至合适值，光闸在合适的时间通断激光束，经过三个反射镜后，激光光束由一个无焦望远镜进行阔束，由电脑控制转镜通过反射激光光束实现二维扫描。在经过两个相同透镜后，激光光束被反射入具有高数值孔径的显微镜头并被聚焦在光刻胶中引发双光电子吸收光致聚合。载有光刻胶的盖玻片置于载样平台21上，由下压电陶瓷22驱动载样平台21做X\Y方向的运动，配合转镜控制的水平方向的二维运动，电机带动滑块24产生Z向运动，电机使两个移动平台25在X、Y向大范围运动，从而实现激光光电相对于光刻胶的三维运动。采用上述结构后，本具体实施方式产生的有益效果为：本具体实施方式所述的一种大行程微纳加工装置，无需掩膜板，加工结构一次成型，避免了多次曝光带来的掩膜板对齐误差和生产周期的延长，本具体实施方式具有结构简单、设置合理、制作成本低等优点。以上显示和描述了本技术的基本原理和主要特征以及本技术的优点。本行业的技术人员应该了解，本技术不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本技术的原理，在不脱离本技术精神和范围的前提下，本技术还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本技术范围内。本技术要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种大行程微纳加工装置，其特征在于：它包含泵浦、飞秒激光振荡器、光闸、第一反射镜、第二反射镜、第三反射镜、第一透镜、第二透镜、转镜、第三透镜、第四透镜、电介质镜、显微镜头、盖玻片、光刻胶、三维移动平台、第四反射镜、第五透镜、CCD扫描仪；所述的泵浦与飞秒激光振荡器连接，飞秒激光振荡器的一侧通过光闸设置有第一反射镜，第一反射镜的下方设置有第二反射镜，第二反射镜的一侧设置有第三反射镜，第三反射镜的一侧依次设置有第一透镜、第二透镜和转镜，转镜的一侧依次设置有第三透镜、第四透镜和电介质镜，电介质镜的上方设置有显微镜头，显微镜头上设置有盖玻片，盖玻片上设置有光刻胶，盖玻片设置在三维移动平台上；所述的电介质镜的下方设置有第四反射镜，第四反射镜的一侧依次设置有第五透镜和CCD扫描仪。

【技术特征摘要】
1.一种大行程微纳加工装置，其特征在于：它包含泵浦、飞秒激光振荡器、光闸、第一反射镜、第二反射镜、第三反射镜、第一透镜、第二透镜、转镜、第三透镜、第四透镜、电介质镜、显微镜头、盖玻片、光刻胶、三维移动平台、第四反射镜、第五透镜、CCD扫描仪；所述的泵浦与飞秒激光振荡器连接，飞秒激光振荡器的一侧通过光闸设置有第一反射镜，第一反射镜的下方设置有第二反射镜，第二反射镜的一侧设置有第三反射镜，第三反射镜的一侧依次设置有第一透镜、第二透镜和转镜，转镜的一侧依次设置有第三透镜、第四透镜和电介质镜，电介质镜的上方设置有显微镜头，显微镜头上设置有盖玻片，盖玻片上设置有光刻胶，盖玻片设置在三维移动平台上；所述的电介质镜的下方设置有第四反射镜，第四反射镜的一侧依次设置有第五透镜和...

【专利技术属性】
技术研发人员：李伶俐，
申请(专利权)人：安庆师范大学，
类型：新型
国别省市：安徽,34