一种高反射分划板及其制作方法技术

本发明专利技术公开了一种高反射分划板及制备方法，其特征在于，包括：承载体，所述承载体包括第一表面以及与第一表面相对设置的第二表面；分划线，所述分划线位于所述承载体的第一表面，且所述分划线由金属构成；保护结构，所述保护结构包覆所述分划线；其中，所述承载体以及保护结构的透过率大于90%；覆盖层，所述覆盖层设于所述保护结构表面，且所述覆盖层由聚合物构成。本发明专利技术的有益效果：本发明专利技术提供一种高反射分划板及其制作方法采用磁控溅射技术形成银，得到的双面高反射银膜，在保证膜层达到了双面高反射率的同时，增加了银膜与玻璃基体之间的粘附力。

【技术实现步骤摘要】
一种高反射分划板及其制作方法
本专利技术涉及分划板
，尤其涉及一种高反射分划板及其制作方法。
技术介绍
分划板一般安装在望远镜的右目镜焦平面上，它是一块极簿的表面刻有分划密位线的薄玻璃，由于这块薄玻璃理论上讲也参与了成像，延长了物镜的焦距，会对右目镜的长度有或多或少的影响。分划板对洁净度要求极高，任何微小的灰尘都会在观测时产生很大的黑点，同时分划板的安装位置精度要求极高，因此，尽量不要拆卸，如果拆卸，一定要按原样复原。民用方面：分划板主要是用于显微镜、放大镜、经纬仪等光学检测、测量、测绘仪器中作为测量校准光学部件。比如工程项目中的测绘仪器都需要使用。军用方面：分划板主要应用于各种枪支，望远镜，肩扛式导弹等的瞄准镜的光学部件。现有技术中，分划板采用电镀或蒸镀铬金属，这种结构的分划板首先电镀或蒸镀铬的分划板对于光的敏感性不是很好，使用时需要借助外界的光源，在一些特殊领域，这样的分划板将不能达到预期的目标；第二，采用镀银的分划板附着力不能达到和好的要求，容易脱落，并且容易氧化，使其不能正常使用；第三，在大面积制备分划板的时候，需要将大面积的的分划板切割成独立的分划板，在切割的过程中容易出现崩裂；基于上述这些技术问题亟待提供一种高反射（反射率＞90%）分划板及其制作方法技术方案。
技术实现思路
基于此，有必要提供一种高反射分划板及其制作方法以解决上述的技术问题。本专利技术的一个技术方案是：一种高反射分划板，其特征在于，包括：承载体，所述承载体包括第一表面以及与第一表面相对设置的第二表面；分划线，所述分划线位于所述承载体的第一表面，且所述分划线由金属构成；保护结构，所述保护结构包覆所述分划线；其中，所述承载体以及保护结构的透过率大于90%；覆盖层，所述覆盖层设于所述保护结构表面，且所述覆盖层由聚合物构成。在其中一实施例中，所述承载体、所述保护结构以及所述覆盖层之间存在折射率差，且任意两种之间所述折射率差绝对值小于0.5。在其中一实施例中，所述承载体为玻璃。在其中一实施例中，所述分划线由银构成，且所述银采用磁控溅射方式形成于所述承载体的第一表面。在其中一实施例中，所述保护结构为AZO薄膜，所述AZO薄膜通过蒸镀或磁控溅射方式形成于所述分划线表面。在其中一实施例中，所述聚合物为UV胶，且所述厚度不大于20μm。一种高反射分划板制作方法，其特征在于，包括以下步骤：S1、提供一承载体，所述承载体包括第一表面以及与第一表面相对设置的第二表面，在所述承载体第一表面设有金属膜；S2、将步骤S1中的金属膜图形化形成分划线；S3、在步骤S2中所述分划线表面设有保护结构；其中，所述承载体以及保护结构的透过率大于90%；S4、在所述步骤S3中保护结构表面设有覆盖层，且所述覆盖层由聚合物构成。在其中一实施例中，所述步骤S1中金属膜采用磁控溅射方式形成。在其中一实施例中，所述步骤S3中保护结构采用蒸镀或磁控溅射方式形成，其中所述保护结构由AZO薄膜材料构成。在其中一实施例中，所述承载体、所述保护结构以及所述覆盖层之间存在折射率差，且任意两种之间所述折射率差绝对值小于0.5。本专利技术的有益效果：本专利技术提供一种高反射分划板及其制作方法采用磁控溅射技术形成银，得到的双面高反射银膜，在保证膜层达到了双面高反射率的同时，增加了银膜与玻璃基体之间的粘附力，膜层本身的致密性以及耐腐蚀性能，在腐蚀的过程中，可得到单边侧蚀＜1μm、线条陡直、边缘无毛刺缺口的银基图形分划板；在银基分划板上，采用蒸镀或磁控溅射技术形成一层具有一定厚度的AZO薄膜膜，增强了银基分划板的耐磨性和抗氧化能力，同时没有降低银膜双面的高反射率，并且采用所述AZO薄膜膜成本更加的低，热稳定性好，对于分划板更好；再者，所述AZO薄膜膜表面设有UV胶层，所述UV胶经过紫外固化，透过率达到90%以上，这样没有降低银膜的高反射率，同时在大面积切割的过程中不易崩裂。附图说明图1为本专利技术一种大面积高反射分划板的结构示意图；图2为本专利技术一种高反射分划板另一种的结构示意图；图3为本专利技术一种高反射分划板又一种结构示意图；图4为本专利技术一种高反射分划板又一种结构示意图；图5为本专利技术一种高反射分划板又一种结构示意图；图6为本专利技术一种高反射分划板又一种结构示意图；图7为本专利技术一种高反射分划板制备方法流程示意图。具体实施方式为了便于理解本专利技术，下面将参照相关附图对本专利技术进行更全面的描述。附图中给出了本专利技术的较佳实施方式。但是，本专利技术可以通过许多不同的形式来实现，并不限于下面所描述的实施方式。相反地，提供这些实施方式的目的是使对本专利技术的公开内容理解的更加透彻全面。需要说明的是，当元件被称为“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本专利技术的
的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本专利技术的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施方式的目的，不是旨在于限制本专利技术。本文所使用的术语“和／或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。本专利技术提供的一种高反射分划板，其特征在于，包括：承载体，所述承载体包括第一表面以及与第一表面相对设置的第二表面；所述承载体首选玻璃，玻璃可以更好的使用在高端的仪器上；分划线，所述分划线位于所述承载体的第一表面，且所述分划线由金属构成，所述金属可以通过磁控溅射的方式形成于所述承载体表面，采用磁控溅射的方式使得金属与玻璃的接触的更牢固；保护结构，所述保护结构包覆所述分划线，由于分划板更多用于精密仪器或高端仪器上，所以分划线使用金属容易被氧化，通过蒸镀或者磁控溅射的方式在分划线表面形成保护结构，以防止分划线被氧化；其中，为了保证所述分划板的良好透过率，所述承载体以及保护结构的透过率大于90%；覆盖层，所述覆盖层设于所述保护结构表面，且所述覆盖层由聚合物构成，在大面积制备分划板，最后要切割成单个分划板，在其表面设有覆盖层，这样切割面会非常的整齐，也不会出现崩裂的情况，并且所述覆盖层采用软聚合物层，可以更好防止崩裂。在其中一实施例中，所述承载体、所述保护结构以及所述覆盖层之间存在折射率差，且任意两种之间所述折射率差绝对值小于0.5，这样可以很好的保证分划板的透过率更好，并且任意两种之间所述折射率差绝对值小于0.5，保证了层与层之间不会出现明显的光学视差。在其中一实施例中，所述分划线由银构成，且所述银采用磁控溅射方式形成于所述承载体的第一表面，采用银作为分划线材料，这样制备的分划线反射率更高，并且采用磁控溅射的方式，更加提高分划线的反射效果，这样分划板在使用的过程中分划线更加清晰。在其中一实施例中，所述保护结构为AZO薄膜，所述AZO薄膜通过蒸镀或磁控溅射方式形成于所述分划线表面，采用AZO薄膜对于分划线保护性更好，并且AZO薄膜成本也低，热稳定性好，更加符合分划线的保护要求，AZO薄膜指在ZnO体系中掺杂Al得到ZnO：Al透明薄膜。在其中一实施例中，由于要保证分划板的透过率，所以覆盖层的厚度要有一定本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种高反射分划板，其特征在于，包括：承载体，所述承载体包括第一表面以及与第一表面相对设置的第二表面；分划线，所述分划线位于所述承载体的第一表面，且所述分划线由金属构成；保护结构，所述保护结构包覆所述分划线；其中，所述承载体以及保护结构的透过率大于90%；覆盖层，所述覆盖层设于所述保护结构表面，且所述覆盖层由聚合物构成。

【技术特征摘要】
1.一种高反射分划板，其特征在于，包括：承载体，所述承载体包括第一表面以及与第一表面相对设置的第二表面；分划线，所述分划线位于所述承载体的第一表面，且所述分划线由金属构成；保护结构，所述保护结构包覆所述分划线；其中，所述承载体以及保护结构的透过率大于90%；覆盖层，所述覆盖层设于所述保护结构表面，且所述覆盖层由聚合物构成。2.根据权利要求1所述的一种高反射分划板，其特征在于，所述承载体、所述保护结构以及所述覆盖层之间存在折射率差，且任意两种之间所述折射率差绝对值小于0.5。3.根据权利要求1所述的一种高反射分划板，其特征在于，所述承载体为玻璃。4.根据权利要求1所述的一种高反射分划板，其特征在于，所述分划线由银构成，且所述银采用磁控溅射方式形成于所述承载体的第一表面。5.根据权利要求1所述的一种高反射分划板，其特征在于，所述保护结构为AZO薄膜；所述AZO薄膜通过蒸镀或磁控溅射方式形成于所述分划线表面。6.根据权利要求1所述的一种高反射分划板，...

【专利技术属性】
技术研发人员：李弋舟，陈曦，易赛强，
申请(专利权)人：长沙韶光铬版有限公司，
类型：发明
国别省市：湖南,43