The invention relates to a method for the production of a medical molding body of lithium silicate glass ceramics. In order to improve its strength, it is suggested that the surface compressive stress should be produced by using larger diameter alkali metal ions instead of lithium ions in the form of lithium silicate glass or in the form of lithium silicate glass. For this purpose, the forming body is covered with a paste containing alkali metal.
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】提高硅酸锂玻璃陶瓷成型体的强度的方法专利技术背景本专利技术涉及一种提高包含硅酸锂玻璃陶瓷的医用成型体的强度的方法,所述成型体优选为牙科成型体的形式,或者该体的一部分,特别是桥、牙冠、顶盖、嵌体、高嵌体或贴面。因为它们的光-光学特性以及它们的强度和生物相容性,硅酸锂玻璃陶瓷坯料在牙科技术中用于生产牙科修复体的使用已经被证明。热处理导致玻璃陶瓷的最终结晶,以产生良好的光学品质和特别是足够的化学稳定性。相应的方法公开于例如DE19750794A1或DE10336913B4中。为了获得高强度同时具有良好的半透明性,将至少一种选自氧化锆、氧化铪或其混合物,特别是氧化锆的稳定剂加入到碳酸锂、石英、氧化铝等形式的原始原料,即通常的起始组分。这里注意例如DE102009060274A1,WO2012/175450A1,WO2012/175615A1,WO2013/053865A2或EP2662342A1。这些含有氧化锆的硅酸锂的机械加工也可以在最终的结晶状态下进行。I.L.Denry等,EnhancedChemicalStrengtheningofFeldspathicDentalPorcelain,JDentRes,October1993,第1429-1433页,和R.R.Seghi等,EffectsofIonExchangeonHardnessandFractureToughnessofDentalCeramics,TheInternationalJournalofProsthodontics,Volume5,No.4,1992,第309-314页的出版物公开了由长石玻 ...
【技术保护点】
提高硅酸锂玻璃陶瓷的医用成型体(10)强度的方法,所述医用成型体优选牙科成型体或所述牙科成型体的一部分,特别是桥、牙冠、顶盖、嵌体、高嵌体或贴面,其特征在于通过用更大直径的碱金属离子代替锂离子,在硅酸锂玻璃陶瓷的成型体(10)中产生表面压缩应力,其中成型体用包含碱金属的糊剂(12)覆盖,在温度T下成型体与糊剂接触时间t,然后将糊剂从成型体上除去。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.05.22 DE 102015108171.71.提高硅酸锂玻璃陶瓷的医用成型体(10)强度的方法,所述医用成型体优选牙科成型体或所述牙科成型体的一部分,特别是桥、牙冠、顶盖、嵌体、高嵌体或贴面,其特征在于通过用更大直径的碱金属离子代替锂离子,在硅酸锂玻璃陶瓷的成型体(10)中产生表面压缩应力,其中成型体用包含碱金属的糊剂(12)覆盖,在温度T下成型体与糊剂接触时间t,然后将糊剂从成型体上除去。2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于成型体(10)用作为糊剂(12)的含有碱金属离子的盐的粘性溶液或分散液涂覆。3.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于通过喷射到成型体(10)上,将糊剂(12)施加到成型体上。4.根据上述权利要求中至少一项所述的方法,其特征在于为了得到糊剂(12),将盐与至少一种物质混合,所述物质选自1,4-丁二醇、己三醇或这两种物质的混合物。5.根据上述权利要求中至少一项所述的方法,其特征在于优选将糊剂(12)施加到成型体(10)的所有表面上,特别是具有不小于0.5mm的厚度D,特别是其中1mm<D<3mm。6.根据前述权利要求中至少一项所述的方法,其特征在于使用Na、K、Cs和/或Rb离子,特别是Na或K离子,或者Na和K离子作为碱金属离子来产生表面压缩应力。7.根据前述权利要求中至少一项所述的方法,其特征在于成型体(10)用含有钾离子的糊剂(14),特别是用含有KNO3、KCl或K2CO3的糊剂,或含有钠离子的糊剂,特别是用含有NaNO3、乙酸钠或有机酸的钠盐的糊剂,或用含有钾离子和钠离子的混合物的糊剂,特别是以50:50摩尔百分比的比例,优选用含有NaNO3和KNO3的糊剂覆盖。8.根据上述权利要求中至少一项所述的方法,其特征在于在T≥300℃,特别是350℃≤T≤600℃,优选430℃≤T≤530℃的温度T下,使成型体(10)与糊剂接触时间t,特别是其中t≥5分钟,优选0.1h≤t≤0.5h,特别优选15-20分钟。9.根据上述权利要求中至少一项所述的方法,其特征在于由至少含有以下成分作为起始组分的玻璃熔体制备成型体(10)或由其制造成型体的坯料:SiO2、Al2O3、Li2O、K2O、至少一种成核剂如P2O5和至少一种稳定剂如ZrO2。10.根据至少权利要求9所述的方法,其特征在于玻璃熔体含有至少一种着色金属氧化物,如CeO2和/或Tb4O7。11.根据至少权利要求9所述的方法,其特征在于成型体(10)或由其制造成型体的坯料由含有以下重量百分比组分的玻璃熔体制备:SiO250-80,优选地52-70,特别优选56-61,成核剂,例如P2O5,0.5-11,优选地3-8,特别优选4-7Al2O30-10,优选地0.5-5,特别优选1.5-3.2Li2O10-25,优选地13-22,特别优选14-21K2O0-13,优选地0.5-8,特别优选1.0-2.5Na2O0-1,优选地0-0.5,特别优选0.2-0.5ZrO20-20,优选地4-16,特别是6-14,特别优选8-12CeO20-10,优选地0.5-8,特别优选1.0-2.5Tb4O70-8,优选地0.5-6,特别优选1.0-2.0任选地,一种或多种碱土金属的一种或多种氧化物,所述碱土金属选自镁、钙、锶、钡,0-20,优选地0-10,特别优选0-5,任选地,选自B2O3、MnO2、Fe2O3、V2O5、TiO2、Sb2O3、ZnO、SnO2和氟化物的一种或多种添加剂,0-6,优选地0-4,任选地,原子序数为57、59-64、66-71的稀土金属,特别是镧、钇、镨、铒、铕的一种或多种氧化物,0-5,优选地0-3。12.根据至少权利要求9所述的方法,其特征在于该玻璃熔体包含以下重量百分比的成分作为起始组分。13.根据至少权利要求9所述的方法,其特征在于在冷却期间或在冷却到室温后由玻璃熔体形成坯料,然后在温度TW1下对所述坯料进行至少一次第一热处理W1,持续时间tW1,其中620℃≤TW1≤800℃,特...
【专利技术属性】
技术研发人员:M普勒普斯特,M福尔曼,
申请(专利权)人:登士柏西诺德公司,德固萨有限责任公司,
类型:发明
国别省市:美国,US
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