沉积掩模、沉积装置及制造显示装置的方法制造方法及图纸

公开了沉积掩模、沉积装置及制造显示装置的方法，该沉积掩模包括第一区域、凹部区域和图案部分，其中：第一区域限定夹持部分，夹持部分位于沉积掩模的端部处并且被施加力以在沉积掩模的长度方向上使沉积掩模延伸；凹部区域与第一区域邻近并且限定位于端部处的凹部；图案部分包括沉积材料穿行经过的多个图案孔。沿着长度方向，多个第一图案部分布置在第一区域中以及多个第二图案部分布置在凹部区域中。施加的力使第一区域延伸，并且不使凹部区域延伸。力未施加限定图案部分的未延伸位置，并且对于第一图案部分和第二图案部分的未延伸位置，相邻第一图案部分之间的第一距离小于相邻第二图案部分之间的第二距离。

Deposition mask, deposition device and method of making display device

Open the deposition mask and deposition device and method of manufacturing display device, the deposition mask includes a first region, concave area and a pattern part, wherein the first region defining a clamping part, clamping part at the end of the deposition mask and is applied to the power deposition mask in the length direction of the deposition mask extension; concave region and the first region adjacent and defines a recess at the end point of the pattern; part comprises a plurality of holes through the material deposition pattern. Along the length direction, a plurality of first pattern parts are arranged in the first area and a plurality of second pattern parts are arranged in the concave region. The exerted force extends the first region and does not extend the concave region. The force does not apply the non extended position of the limited pattern portion, and for the non extended position of the first pattern part and the second pattern part, the first distance between the adjacent first pattern parts is smaller than the second distance between the adjacent second pattern parts.

【技术实现步骤摘要】
沉积掩模、沉积装置及制造显示装置的方法相关交叉引用本申请要求于2016年9月22日提交的第10-2016-0121518号韩国专利申请的优先权及由其产生的所有权益，该韩国专利申请的公开内容通过引用以其整体并入本文中。
一个或多个实施方式涉及沉积掩模、使用沉积掩模的沉积装置以及使用沉积装置制造显示装置的方法。
技术介绍
基于其移动性的电子设备已被广泛使用。作为便携式电子设备，平板个人计算机(“PC”)以及诸如移动电话的相对小的电子设备正被广泛使用。这样的便携式电子设备包括用于支持各种功能以及用于向用户提供诸如图像或视频的视觉信息的显示装置。随着用于驱动便携式显示装置的部件的尺寸的减小，便携式显示装置在整个电子设备中的重要性逐渐增大。对于便携式电子设备和显示装置，已经发展了能够从平坦状态以预定角度弯曲的结构。在显示装置的结构内的有机材料或用作显示装置内的电极的金属可在真空环境下沉积在显示装置的基板上，以通过真空沉积方法形成相对薄的膜。真空沉积方法通过以下执行：将其上待形成有机薄膜的(目标)基板定位在真空腔室中；将沉积掩模附接到定位的基板，该沉积掩模具有与待形成的有机薄膜的图案对应的沉积图案；以及通过使用沉积源使有机材料蒸发或升华，使得有机材料可沉积在基板上以在其上形成有机薄膜。
技术实现思路
一个或多个实施方式包括沉积掩模和沉积装置以及制造显示装置的方法。额外的特征将部分地在以下的描述中阐述，并且部分地将从描述而明显，或通过对所呈现的实施方式的实践而习得。根据一个或多个实施方式，沉积掩模包括第一区域、凹部区域和图案部分，其中：第一区域在沉积掩模的长度方向上延长以限定夹持部分，夹持部分位于沉积掩模在长度方向上的相对端部处并且该夹持部分被施加力以在沉积掩模的长度方向上使沉积掩模延伸，第一区域通过施加至夹持部分的力而在长度方向上延伸；凹部区域在沉积掩模的宽度方向上设置成与第一区域邻近，该凹部区域在沉积掩模的长度方向上延长以限定位于沉积掩模的相对端部中的每个端部处的凹部，该凹部区域不通过施加至夹持部分的力在长度方向上延伸；图案部分包括多个沉积图案孔，沉积材料穿行经过该多个沉积图案孔到达沉积材料沉积于其上的目标。图案部分设置成多个，包括沿着长度方向布置在第一区域中的多个第一图案部分和沿着长度方向布置在凹部区域中的多个第二图案部分。力未施加至夹持部分限定多个图案部分的未延伸位置，并且对于多个图案部分的未延伸位置，相邻第一图案部分之间的第一距离小于相邻第二图案部分之间的第二距离。图案部分中的每个可具有包括矩形形状、圆形形状和椭圆形形状之一的平面形状。图案部分中的每个可具有矩形形状并且包括圆拐角。多个第一图案部分可分别在相邻第一图案部分之间限定多个第一距离，以及多个第二图案部分可分别在相邻第二图案部分之间限定多个第二距离。第一距离和第二距离可以分别是恒定的。第二距离可从沉积掩模的中心部分朝沉积掩模的相对端部逐渐增大。根据一个或多个实施方式，用于沉积薄膜的沉积装置包括掩模框架组件和沉积源，其中，掩模框架组件设置成面对其上沉积薄膜的基板并且沉积材料穿行经过该掩模框架组件到达基板，沉积源设置成面对掩模框架组件并且沉积材料能够从沉积源朝掩模框架组件注射。掩模框架组件包括沉积掩模和框架，其中，沉积材料穿行经过该沉积掩模到达基板并且沉积掩模能够在其长度方向上延伸，在沉积掩模的长度方向上延伸的沉积掩模接合至框架，该框架包括位于其中心部分中的开口。沉积掩模包括第一区域、凹部区域和图案部分，其中：第一区域在长度方向上延长以限定夹持部分，夹持部分位于沉积掩模在长度方向上的相对端部处，并且夹持部分被施加力以在沉积掩模的长度方向上使沉积掩模延伸，第一区域通过施加至夹持部分的力而在长度方向上延伸；凹部区域设置成与第一区域邻近，凹部区域在沉积掩模的长度方向上延长以限定位于沉积掩模的相对端部中的每个端部处的凹部，凹部区域不通过施加至夹持部分的力在长度方向上延伸；图案部分包括沉积材料穿行经过的多个沉积图案孔。图案部分设置成多个，包括沿着长度方向布置在第一区域中的多个第一图案部分和沿着长度方向布置在凹部区域中的多个第二图案部分。力未施加至夹持部分限定多个图案部分的未延伸位置，并且对于多个图案部分的未延伸位置，相邻第一图案部分之间的第一距离小于相邻第二图案部分之间的第二距离。图案部分中的每个可具有包括矩形形状、圆形形状和椭圆形形状之一的平面形状。图案部分中的每个可具有矩形形状并且包括圆拐角。多个第一图案部分可分别在相邻第一图案部分之间限定多个第一距离，以及多个第二图案部分可分别在相邻第二图案部分之间限定多个第二距离。第一距离和第二距离可以分别是恒定的。第二距离可从沉积掩模的中心部分朝沉积掩模的相对端部逐渐增大。接合至框架的沉积掩模可不包括夹持部分。力施加至夹持部分限定多个图案部分的已延伸位置，并且对于多个图案部分的已延伸位置，第一距离等于第二距离。根据一个或多个实施方式，制造显示装置的方法包括：制备包括沉积掩模和框架的掩模框架组件，其中沉积掩模在其长度方向上拉伸，并且拉伸的沉积掩模接合至框架；将掩模框架组件和其上沉积显示装置的薄膜的基板设置成在沉积腔室中互相邻近且面对；以及使沉积材料从沉积源通过掩模框架组件并沉积到基板上以形成薄膜。制备掩模框架组件包括：制备沉积掩模，包括限定沉积掩模的第一区域，该第一区域在长度方向上延长以限定夹持部分，夹持部分位于沉积掩模在长度方向上的相对端部处，并且夹持部分被施加力以在沉积掩模的长度方向上使沉积掩模延伸；限定沉积掩模的凹部区域，该凹部区域设置成与第一区域邻近，凹部区域在沉积掩模的长度方向上延长以限定位于沉积掩模的相对端部中的每个端部处的凹部；以及限定图案部分，图案部分包括沉积材料穿行经过的多个沉积图案孔，图案部分设置成多个，包括沿着长度方向布置在第一区域中的多个第一图案部分和沿着长度方向布置在凹部区域中的多个第二图案部分，力未施加至夹持部分限定多个图案部分的未延伸位置，并且对于多个图案部分的未延伸位置，相邻第一图案部分之间的第一距离小于相邻第二图案部分之间的第二距离；通过向位于沉积掩模的相对端部处的夹持部分施加力而在沉积掩模的长度方向上拉伸沉积掩模；拉伸沉积掩模包括：使第一区域延伸并限定相邻第一图案部分之间的延伸的第一距离，该延伸的第一距离大于未延伸位置的第一距离，并且不使沉积掩模的凹部区域延伸；以及将拉伸的沉积掩模附接至框架，该框架包括位于其中心部分中的开口。图案部分中的每个可具有包括矩形形状、圆形形状和椭圆形形状之一的平面形状。图案部分中的每个可具有矩形形状并且包括圆拐角。多个第一图案部分可分别在相邻第一图案部分之间限定多个第一距离，以及多个第二图案部分可分别在相邻第二图案部分之间限定多个第二距离。第一距离和第二距离可以分别是恒定的。第二距离可从沉积掩模的中心部分朝沉积掩模的相对端部逐渐地增大。将拉伸的沉积掩模附接至框架可包括：去除夹持部分。拉伸沉积掩模可限定多个图案部分的已延伸位置，并且对于多个图案部分的已延伸位置，第一距离可与第二距离对应。附图说明从以下结合附图对实施方式的描述，这些和/或其它特征将变得明显且更容易地理解，在附图中：图1是根据本专利技术的沉积掩模的实施方式的立体图；图2是图1的沉积掩模在其非本文档来自技高网...

【技术保护点】
沉积掩模，包括：第一区域，在所述沉积掩模的长度方向上延长以限定夹持部分，所述夹持部分位于所述沉积掩模在所述长度方向上的相对端部处，并且所述夹持部分被施加力以在所述沉积掩模的所述长度方向上使所述沉积掩模延伸，所述第一区域通过施加至所述夹持部分的所述力而在所述长度方向上延伸；凹部区域，在所述沉积掩模的宽度方向上设置成与所述第一区域邻近，所述凹部区域在所述沉积掩模的所述长度方向上延长，以限定位于所述沉积掩模的所述相对端部中的每个端部处的凹部，所述凹部区域不通过施加至所述夹持部分的所述力在所述长度方向上延伸；以及图案部分，包括多个沉积图案孔，沉积材料穿行经过所述多个沉积图案孔到达目标，所述沉积材料沉积在所述目标上，其中，所述图案部分设置成多个，包括：多个第一图案部分，沿着所述长度方向布置在所述第一区域中；以及多个第二图案部分，沿着所述长度方向布置在所述凹部区域中，所述力未施加至所述夹持部分限定多个所述图案部分的未延伸位置，以及对于所述多个所述图案部分的所述未延伸位置，所述多个第一图案部分中的相邻第一图案部分之间的第一距离小于所述多个第二图案部分中的相邻第二图案部分之间的第二距离。

【技术特征摘要】
2016.09.22 KR 10-2016-01215181.沉积掩模，包括：第一区域，在所述沉积掩模的长度方向上延长以限定夹持部分，所述夹持部分位于所述沉积掩模在所述长度方向上的相对端部处，并且所述夹持部分被施加力以在所述沉积掩模的所述长度方向上使所述沉积掩模延伸，所述第一区域通过施加至所述夹持部分的所述力而在所述长度方向上延伸；凹部区域，在所述沉积掩模的宽度方向上设置成与所述第一区域邻近，所述凹部区域在所述沉积掩模的所述长度方向上延长，以限定位于所述沉积掩模的所述相对端部中的每个端部处的凹部，所述凹部区域不通过施加至所述夹持部分的所述力在所述长度方向上延伸；以及图案部分，包括多个沉积图案孔，沉积材料穿行经过所述多个沉积图案孔到达目标，所述沉积材料沉积在所述目标上，其中，所述图案部分设置成多个，包括：多个第一图案部分，沿着所述长度方向布置在所述第一区域中；以及多个第二图案部分，沿着所述长度方向布置在所述凹部区域中，所述力未施加至所述夹持部分限定多个所述图案部分的未延伸位置，以及对于所述多个所述图案部分的所述未延伸位置，所述多个第一图案部分中的相邻第一图案部分之间的第一距离小于所述多个第二图案部分中的相邻第二图案部分之间的第二距离。2.根据权利要求1所述的沉积掩模，其中，所述图案部分中的每个具有包括矩形形状、圆形形状和椭圆形形状之一的平面形状。3.根据权利要求2所述的沉积掩模，其中，所述图案部分中的每个具有所述矩形形状并且包括圆拐角。4.根据权利要求1所述的沉积掩模，其中，所述多个第一图案部分分别在所述多个第一图案部分中的相邻第一图案部分之间限定多个第一距离，以及所述多个第二图案部分分别在所述多个第二图案部分中的相邻第二图案部分之间限定多个第二距离，以及对于所述多个所述图案部分的所述未延伸位置，所述多个第一距离和所述多个第二距离分别是恒定的。5.根据权利要求1所述的沉积掩模，其中，所述多个第一图案部分分别在所述多个第一图案部分中的相邻第一图案部分之间限定多个第一距离，以及所述多个第二图案部分分别在所述多个第二图案部分中的相邻第二图案部分之间限定多个第二距离，以及对于所述多个所述图案部分的所述未延伸位置，所述多个第二距离从所述沉积掩模的中心部分朝所述沉积掩模的所述相对端部逐渐增大。6.用于沉积薄膜的沉积装置，所述装置包括：掩模框架组件，设置成面对基板，所述基板上沉积所述薄膜，并且沉积材料穿行经过所述掩模框架组件到达所述基板；以及沉积源，设置成面对所述掩模框架组件，并且所述沉积材料能够从所述沉积源朝所述掩模框架组件注射，其中，所述掩模框架组件包括：沉积掩模，所述沉积材料穿行经过所述沉积掩模到达所述基板，并且所述沉积掩模能够在所述沉积掩模的长度方向上延伸；以及框架，在所述沉积掩模的所述长度方向上延伸的所述沉积掩模接合至所述框架，所述框架包括位于所述框架的中心部分中的开口，其中，所述沉积掩模包括：第一区域，在所述长度方向上延长以限定夹持部分，所述夹持部分位于所述沉积掩模在所述长度方向上的相对端部处，并且所述夹持部分被施加力以在所述沉积掩模的所述长度方向上使所述沉积掩模延伸，所述第一区域通过施加至所述夹持部分的所述力而在所述长度方向上延伸；凹部区域，设置成与所述第一区域邻近，所述凹部区域在所述沉积掩模的所述长度方向上延长以限定位于所述沉积掩模的所述相对端部中的每个端部处的凹部，所述凹部区域不通过施加至所述夹持部分的所述力在所述长度方向上延伸；以及图案部分，包括所述沉积材料穿行经过的多个沉积图案孔，其中，所述图案部分设置成多个，包括：多个第一图案部分，沿着所述长度方向布置在所述第一区域中；以及多个第二图案部分，沿着所述长度方向布置在所述凹部区域中，所述力未施加至所述夹持部分限定多个所述图案部分的未延伸位置，以及对于所述多个所述图案部分的所述未延伸位置，所述多个第一图案部分中的相邻第一图案部分之间的第一距离小于所述多个第二图案部分中的相邻第二图案部分之间的第二距离。7.根据权利要求6所述的装置，其中，所述图案部分中的每个具有包括矩形形状、圆形形状和椭圆形形状之一的平面形状。8.根据权利要求7所述的装置，其中，...

【专利技术属性】
技术研发人员：郑栋燮，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国,KR