锍盐、抗蚀剂组合物和图案化方法技术

本发明专利技术为锍盐、抗蚀剂组合物和图案化方法。在使用特定结构的锍盐作为PAG时，抑制了酸扩散。在通过光刻法加工时，包括所述锍盐的抗蚀剂组合物形成具有改进的光刻性质(包括EL、MEF和LWR)的图案。

Matte salts, anticorrosive compositions and patterning methods

The present invention is a matte salt, an anticorrosive composition and a patterning method. The acid diffusion is suppressed when the specific structure of the matte salt is used as PAG. In the process of photolithography, an anticorrosive composition including the matte salt forms a pattern with improved photolithography properties (including EL, MEF and LWR).

【技术实现步骤摘要】
锍盐、抗蚀剂组合物和图案化方法相关申请的交叉引用本非临时申请在美国法典第35卷第119节(a)款下要求2016年9月27日于日本提交的第2016-188374号专利申请的优先权，所述专利申请的全部内容通过引用并入本文。
本专利技术涉及锍盐、包含其的抗蚀剂组合物和使用所述抗蚀剂组合物的图案形成方法。
技术介绍
在LSI设备中更高集成度和运行速度的驱动下，最近已做出许多的努力以实现更精细的图案尺度，而DUV和EUV光刻法被认为具有作为下一代微加工技术的特殊前景。特别地，使用ArF准分子激光器的光刻法是能够实现0.13μm或更小的特征尺寸的微图案化技术所必需的。ArF光刻法从制造130-nm节点器件开始部分使用并且从90-nm节点器件开始变成主要光刻法。尽管使用F2激光(157nm)的光刻法以开始被认为有希望作为45-nm节点器件的下一种光刻法，其发展受到若干问题的阻碍。突然出现在ArF浸没式光刻法上的重点在于在投影透镜与晶片之间引入具有比空气更高折射率的液体(例如水、乙二醇、甘油)，允许投影透镜被设计为1.0或更高的数值孔径(NA)并且实现更高的分辨率。参见非专利文献1。ArF浸没式光刻本文档来自技高网...

【技术保护点】
具有式(1)的锍盐：

【技术特征摘要】
2016.09.27 JP 2016-1883741.具有式(1)的锍盐：其中，R1至R3各自独立地为C1-C20直链、支链或环状的一价烃基，其可以包含杂原子，R1和R2、R1和R3或者R2和R3的一对可以与它们所连接的苯环和其间的氮原子键合在一起以形成环，或基团R1至R3的多个可以相同或不同并且与它们所连接的苯环上的碳原子键合在一起以形成环，当p、q和/或r为至少2的整数时，R4和R5各自独立地为C1-C30直链、支链或环状的一价烃基，其可以包含杂原子，或R4和R5的一对可以与它们所连接的硫原子键合在一起以形成环，p和q各自独立地为0至5的整数，r为0至4的整数，和Z-为一价阴离子。2.根据权利要求1所述的锍盐，其具有式(2)：其中，R1至R3、p、q、r和Z-如上文所定义，环X为C2-C30环烃基，其可以包含硫原子作为环的一部分并且可以包含杂原子。3.根据权利要求1所述的锍盐，其中Z为具有式(3)的阴离子：其中，R11为C1-C40直链、支链或环状的一价烃基，其可以包含杂原子，L为单键或二价连接基团，Xf1和Xf2各自独立地为氢、氟或氟化的烷基，和k为0至4的整数。4.根据权利要求3所述的锍盐，其中所述阴离子具有式(4)或(5)：其中，R11和L如上文所定义，A为氢或三氟甲基。5.光致产酸剂，其包括根据权利要求1所述的锍盐。6.抗蚀剂组合物，其包括根据权利要求5所述的光致产酸剂。7.根据权利要求6所述的抗蚀剂组合物，其进一步包括含有聚合物的基础树脂，所述聚合物包括具有式(a)的重复单元和具有式(b)的重复单元：其中，RA为氢、氟、甲基或三氟甲基，ZA为单键、亚苯基、亚萘基或(骨架)-C(＝O)-O-Z’-，Z’为C1-C10直链、支链或环状亚烷基，其可以包含羟基、醚键、酯键或内酯环或亚苯基或亚萘基，XA为酸不稳定性基团和YA为氢或具有选自以下的至少一个结构的极性基团：羟基、氰基、羰基、羧基、醚、酯、磺酸酯、碳酸酯结构部分、内酯环、磺内酯环和羧酸酐。8.根据权利要求6所述的抗蚀剂组合物，其进一步包括有机溶剂。9.根据权利要求6所述的抗蚀剂组合物，其进一步包括不同于根据权利要求5所述的光致产酸剂的光致产酸剂。10.根据权利要求9所述的抗蚀剂组合物，其中其它光致产酸剂具有式(6)或(7)：其中，R101、R102和R103各自独立地为C1-C20直链、支链或环状的一价烃基，其可以包含杂原子，R101、R102和R103中的任意两个可以与它们所连接的硫原子键合在一起以形成环，X-为选自式(6A)至(6D)的阴离子：Rfa-CF2-SO3-(6A)其中，Rfa、Rfb1、Rfb2、Rfc1、Rfc2和Rfc3各自独立地为氟或C1-C40直链、支链或环状的一价烃基，其可以包含杂原子，或Rfb1和Rfb2或者Rfc1和Rfc2的一对可以与它们所连接的碳原子和任何插入的原子键合在一起以形成环，Rfd为C1-C40直...

【专利技术属性】
技术研发人员：藤原敬之，大桥正树，谷口良辅，
申请(专利权)人：信越化学工业株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP