一种用适配体调控纳米二氧化硅活性‑吸收光谱测定Hg制造技术

技术编号:17613963 阅读:47 留言:0更新日期:2018-04-04 05:37
本发明专利技术公开了一种用适配体调控纳米二氧化硅活性‑吸收光谱测定Hg

A method for determination of Hg absorption spectra using aptamer nano silica activity regulation

The invention discloses a method for measuring the absorption spectra of Hg using aptamer nano silica activity regulation

【技术实现步骤摘要】
一种用适配体调控纳米二氧化硅活性-吸收光谱测定Hg2+的方法
本专利技术涉及分析化学领域,具体是一种用适配体调控纳米二氧化硅活性-吸收光谱测定Hg2+的方法。
技术介绍
适配体是一小段经体外筛选得到的寡核苷酸序列,能与多种目标物质高特异性、高亲和力和高选择性地结合,当核酸适配体与目标物质发生特异性结合时,核酸适配体自身的构型会发生变化,其检测信号随之发生变化从而实现对目标物的检测。汞是毒性很强的重金属,汞很容易通过食物链在人体和动物,特别是鱼类体内产生富集作用,即便在其浓度很低的情况下,汞也会对人体和环境造成很大的、长期的毒害作用。因此,研究痕量汞的测定方法具有重要意义。目前,汞的测定方法主要有原子吸收光谱法和气液相色谱-质谱联用法以及与免疫反应结合的方法如比色法、荧光光谱法、共振瑞利散射光谱法、表面增强拉曼散射光谱法。这些方法中,原子吸收光谱法虽然仪器普及、稳定性好,但仪器精密度较差;气液相色谱-质谱联用技术比原子吸收光谱法较灵敏、具有线性范围宽等优点,但是过程繁杂,成本较高,且检测灵敏度依赖于柱后检测技术;免疫比色法简便易行、经济,但灵敏度欠佳;荧光光谱法过程繁杂,成本较高;共振本文档来自技高网...
一种<a href="http://www.xjishu.com/zhuanli/52/201710721366.html" title="一种用适配体调控纳米二氧化硅活性‑吸收光谱测定Hg原文来自X技术">用适配体调控纳米二氧化硅活性‑吸收光谱测定Hg</a>

【技术保护点】
一种用适配体调控纳米二氧化硅活性‑吸收光谱测定Hg

【技术特征摘要】
1.一种用适配体调控纳米二氧化硅活性-吸收光谱测定Hg2+的方法,其特征是,包括如下步骤:(1)制备已知浓度的Hg2+标准溶液体系:于刻度试管中,依次加入10μL-200μL100nmol/L的Hg2+标准溶液、50μL-120μL66ng/mL汞适配体(序列为5’-TTTCTTCTTTCTTCCCCCCTTGTTTGTTGTTT-3’)和10μL-20μL100μg/mL二氧化硅,混匀,静置10分钟;然后在各试管中依次加入100μL-200μL0.5moL/L葡萄糖、100μL-180μL0.01moL/LHCl和100μL-120μL84μmoL/LHAuCl4,混匀,用二次蒸馏水定容至1.5mL,75℃水浴反应20分钟,取出试管,用冰水冷却终止反应,用二次蒸馏水定容至2.0mL;(2)制备空白对照溶液体系:用步骤(1)的方法不加Hg2...

【专利技术属性】
技术研发人员:欧阳辉祥李重宁梁爱惠蒋治良
申请(专利权)人:广西师范大学
类型:发明
国别省市:广西,45

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