闪烁体的余辉测试装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种闪烁体的余辉测试装置。余辉测试装置包括射线发生器、转动体和余辉探测器，转动体用于设置于射线发生器和待测闪烁体之间且设置有用于使射线穿过的出射孔，转动体相对于射线发生器匀速转动以实现对待测闪烁体进行射线照射的通断控制，余辉探测器用于接收待测闪烁体的余辉。本发明专利技术的余辉测试装置通过控制转动体匀速转动以实现对待测闪烁体接收射线的通断控制，从而增加测试的稳定性。而且转动体匀速转动可使射线发生器发出的射线间隔穿过出射孔以间隔照射闪烁体，从而便于对闪烁体的余辉进行多次测试，提高余辉测试的准确性。

Testing device for the afterglow of scintillator

The invention discloses a testing device for the afterglow of a scintillation body. The afterglow testing device comprises an X-ray generator, the rotor and the afterglow detector, is arranged on the rotating body for X-ray generator and the measured between the scintillator and provided with for the radiation passes through the perforation, in order to achieve the measured rotation relative to the scintillator ray irradiation on-off control of X-ray generator rotation speed, the afterglow detector for receiving test scintillator afterglow. The afterglow test device of the present invention realizes uniform on-off rotation of the rotary body to achieve on-off control for receiving the rays of the scintillator, thereby increasing the stability of the test. Moreover, the uniform rotation of the rotator can make the interval between the rays emitted by the X-ray generator pass through the perforation to irradiate the scintillator at intervals, so as to facilitate the repeated testing of the afterglow of the scintillator and improve the accuracy of the afterglow test.

【技术实现步骤摘要】
闪烁体的余辉测试装置
本专利技术涉及射线检测领域，特别涉及一种闪烁体的余辉测试装置。
技术介绍
在基于X光机的探测器产品中，由碘化铯晶体制作的探测器的余辉问题比较严重，尤其对于图像穿透指标造成很大影响。为了提高图像穿透指标的准确性，在实际使用过程中，需要对图像数据中的余辉进行扣除。此时就需要对碘化铯晶体的余辉数据进行准确测试。现有技术中余辉测试装置一般采用皮带带动钢板来模拟光机快速关断的过程。专利技术人经过分析发现，皮带带动钢板启动和停止存在加速减速过程，因此钢板在移动过程的稳定性不足，导致每次测试出现偏差，进而导致余辉测试数据不准确。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种闪烁体的余辉测试装置，用于提高余辉测试的准确性。本专利技术提供一种闪烁体的余辉测试装置，包括射线发生器、转动体和余辉探测器，转动体用于设置于射线发生器和待测闪烁体之间且设置有用于使射线穿过的出射孔，转动体相对于射线发生器匀速转动以实现对待测闪烁体进行射线照射的通断控制，余辉探测器用于接收待测闪烁体的余辉。进一步地，转动体包括柱状转动体，柱状转动体绕其轴线转动。进一步地，出射孔包括穿过柱状转动体的轴线且在沿柱状转动体的直径方向延伸的长条孔。进一步地，长条孔的截面面积不变。进一步地，长条孔具有分别设置于柱状转动体的轴线两侧的第一分段和第二分段，射线依次通过第一分段和第二分段以照射待测闪烁体，其中，从柱状转动体的轴线到径向外侧，第一分段的截面面积不变，第二分段的截面面积逐渐变大；或者，从柱状转动体的轴线到径向外侧，第一分段和第二分段的截面面积均逐渐变大。进一步地，从柱状转动体的轴线到径向外侧，第一分段和第二分段的截面面积均逐渐变大且第一分段和第二分段的截面为扇形。进一步地，第二分段的靠近第一分段的一端与第一分段平滑连接。进一步地，长条孔的孔壁为平面。进一步地，余辉测量装置还包括用于驱动转动体转动的电机。进一步地，余辉测试装置包括数据处理装置，数据处理装置根据余辉探测器接收到的余辉对待测闪烁体的余辉数据进行计算处理。基于本专利技术提供的闪烁体的余辉测试装置，余辉测试装置包括射线发生器、转动体和余辉探测器，转动体用于设置于射线发生器和待测闪烁体之间且设置有用于使射线穿过的出射孔，转动体相对于射线发生器匀速转动以实现对待测闪烁体进行射线照射的通断控制，余辉探测器用于接收待测闪烁体的余辉。本专利技术的余辉测试装置通过控制转动体匀速转动以实现对待测闪烁体接收射线的通断控制，从而增加测试的稳定性。而且转动体匀速转动可使射线发生器发出的射线间隔穿过出射孔以间隔照射闪烁体，从而便于对闪烁体的余辉进行多次测试，提高余辉测试的准确性。通过以下参照附图对本专利技术的示例性实施例的详细描述，本专利技术的其它特征及其优点将会变得清楚。附图说明此处所说明的附图用来提供对本专利技术的进一步理解，构成本申请的一部分，本专利技术的示意性实施例及其说明用于解释本专利技术，并不构成对本专利技术的不当限定。在附图中：图1为本专利技术实施例的闪烁体的余辉测量装置的结构示意图；图2为图1中的转动体的一个实施例的结构示意图；图3为图2所示的转动体的转动过程示意图；图4为图1中的转动体的另一实施例的结构示意图；图5为图1中的转动体的另一实施例的结构示意图；图6为图5所示的转动体的转动过程示意图。各附图标记分别代表：1-射线发生器；2-转动体；21-长条孔；211-第一分段；212-第二分段；B-测试物体；A-闪烁体。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。以下对至少一个示例性实施例的描述实际上仅仅是说明性的，决不作为对本专利技术及其应用或使用的任何限制。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。除非另外具体说明，否则在这些实施例中阐述的部件和步骤的相对布置、数字表达式和数值不限制本专利技术的范围。同时，应当明白，为了便于描述，附图中所示出的各个部分的尺寸并不是按照实际的比例关系绘制的。对于相关领域普通技术人员已知的技术、方法和设备可能不作详细讨论，但在适当情况下，所述技术、方法和设备应当被视为授权说明书的一部分。在这里示出和讨论的所有示例中，任何具体值应被解释为仅仅是示例性的，而不是作为限制。因此，示例性实施例的其它示例可以具有不同的值。应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步讨论。为了便于描述，在这里可以使用空间相对术语，如“在……之上”、“在……上方”、“在……上表面”、“上面的”等，用来描述如在图中所示的一个器件或特征与其他器件或特征的空间位置关系。应当理解的是，空间相对术语旨在包含除了器件在图中所描述的方位之外的在使用或操作中的不同方位。例如，如果附图中的器件被倒置，则描述为“在其他器件或构造上方”或“在其他器件或构造之上”的器件之后将被定位为“在其他器件或构造下方”或“在其他器件或构造之下”。因而，示例性术语“在……上方”可以包括“在……上方”和“在……下方”两种方位。该器件也可以其他不同方式定位(旋转90度或处于其他方位)，并且对这里所使用的空间相对描述作出相应解释。如图1所示，本专利技术实施例的闪烁体的余辉测试装置包括射线发生器1、转动体2和余辉探测器(图中未示出)。转动体2用于设置于射线发生器1和待测闪烁体A之间且设置有用于使射线穿过的出射孔。转动体2相对于射线发生器1匀速转动地设置以实现对待测闪烁体接收射线的通断控制，余辉探测器用于接收待测闪烁体的余辉。该余辉测试装置通过控制转动体2匀速转动以实现对待测闪烁体接收射线的通断控制，从而增加测试的稳定性。而且转动体2匀速转动可使射线发生器发出的射线间隔穿过出射孔以间隔照射闪烁体，从而便于对闪烁体的余辉进行多次测试，提高余辉测试的准确性。优选地，本实施例的余辉测试装置包括数据处理装置，数据处理装置根据余辉探测器接收到的余辉对待测闪烁体的余辉数据进行计算处理。在转动体2匀速转动而获得多组余辉测试数据后，数据处理装置可以将多组余辉测试数据进行累计修正，从而提高余辉测试数据的准确性。可以单独设置数据处理装置，也可以将数据处理装置集成于余辉探测器中，此时余辉探测器就可以直接将接收到的余辉信号进行处理。如图1所示，本实施例的余辉测试装置还包括设置于转动体2与闪烁体A之间的测试物体B以模拟闪烁体用于探测器时的真实场景。优选地，本实施例的余辉测试装置还包括用于装设闪烁体A的样品架。具体地，直接利用装设有闪烁体A的探测器进行测试。本实施例的余辉测试装置可以用于测试如碘化铯等晶体的余辉。下面根据图2至6对本专利技术具体实施例的转动体的结构进行详细说明。在本实施例中，转动体2包括柱状转动体。柱状转动体绕其轴线转动。柱状转动体在绕其轴线转动时，在柱状转动体上开设的出射孔能实现对射线的通断。优选地，本实施例的转动体采用高密度的材料制成。例如钨合金、钽等密度大于16g/cm3的材料。如图2至图6所示，本实施例的出射孔包括穿过柱状转动体的轴线且沿柱状转动体的直径方向延伸的长条孔21。如此设置使得射线可以按一定的时间间隔照射闪烁体并关断本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种闪烁体的余辉测试装置，其特征在于，包括射线发生器(1)、转动体(2)和余辉探测器，所述转动体(2)用于设置于所述射线发生器(1)和待测闪烁体(A)之间且设置有用于使射线穿过的出射孔，所述转动体(2)相对于所述射线发生器(1)匀速转动以实现对所述待测闪烁体(2)进行射线照射的通断控制，所述余辉探测器用于接收所述待测闪烁体的余辉。

【技术特征摘要】
1.一种闪烁体的余辉测试装置，其特征在于，包括射线发生器(1)、转动体(2)和余辉探测器，所述转动体(2)用于设置于所述射线发生器(1)和待测闪烁体(A)之间且设置有用于使射线穿过的出射孔，所述转动体(2)相对于所述射线发生器(1)匀速转动以实现对所述待测闪烁体(2)进行射线照射的通断控制，所述余辉探测器用于接收所述待测闪烁体的余辉。2.根据权利要求1所述的闪烁体的余辉测试装置，其特征在于，所述转动体(2)包括柱状转动体，所述柱状转动体绕其轴线转动。3.根据权利要求2所述的闪烁体的余辉测试装置，其特征在于，所述出射孔包括穿过所述柱状转动体的轴线且在沿所述柱状转动体的直径方向延伸的长条孔(21)。4.根据权利要求3所述的闪烁体的余辉测试装置，其特征在于，所述长条孔(21)的截面面积不变。5.根据权利要求3所述的闪烁体的余辉测试装置，其特征在于，所述长条孔(21)具有分别设置于所述柱状转动体的轴线两侧的第一分段(211)和第二分段(212)，射线依次通过所述第一分段(211)和所述第二分段(212)以照射所述待测闪烁体，其...

【专利技术属性】
技术研发人员：张清军，张文剑，邹湘，孙立风，张战强，
申请(专利权)人：同方威视技术股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11