擦拭装置和喷射装置制造方法及图纸
Wiping device and ejector
The invention provides a cleaning device and injection device, the wiping device comprises: dipping parts impregnated with liquid, having a contact surface, the contact surface has a length, the length of the injection liquid jet head nozzle formed on the surface of the longitudinal direction and in the transverse direction and the longitudinal direction of the cross ratio the length of the nozzle forming surface, and the surface of the contact surface and the nozzle and the nozzle forming surface wetting; and a wiping member is formed, the polished surface of the nozzle immersion wetting components.
【技术实现步骤摘要】
擦拭装置和喷射装置
本专利技术涉及擦拭装置和喷射装置。
技术介绍
JP-A-2016-68422披露了这样一种构造：充满清洁液体的垫部件与记录头的喷嘴形成表面压力接触，并且在压力接触期间执行向记录头供墨的清洗操作。
技术实现思路
在某些情况下，喷射头的侧表面附着有在喷射液体从喷射头喷射时产生的喷雾、在喷嘴形成表面的擦拭期间附着到擦拭部件上的喷射液体等。本专利技术的目的是去除附着在喷射头的侧表面上的附着物。[1]根据本专利技术的一个方面，提供一种擦拭装置，包括浸渍部件和擦拭部件。该浸渍部件浸渍有液体。该浸渍部件具有接触表面。该接触表面具有第一长度和第二长度。第一长度在纵向方向上比喷射头的喷嘴形成表面的长度长。第二长度在与喷嘴形成表面的纵向方向交叉的横向方向上比喷嘴形成表面的长度长。喷嘴形成表面喷射喷射液体。浸渍部件使接触表面与喷嘴形成表面接触且润湿喷嘴形成表面。擦拭部件擦拭被浸渍部件润湿的喷嘴形成表面。[2]在根据[1]所述的擦拭装置中，浸渍部件可以具有织物部件和设置在织物部件的背面侧的多孔部件，织物部件具有构成接触表面的前表面。[3]在根据[1]或[2]所述的擦拭装置...
【技术保护点】
一种擦拭装置，包括：浸渍部件，其浸渍有液体，具有接触表面，所述接触表面具有第一长度和第二长度，所述第一长度在纵向方向上比喷射头的喷嘴形成表面的长度长，所述第二长度在与所述纵向方向交叉的横向方向上比所述喷嘴形成表面的长度长，所述喷射头构造成喷射喷射液体，所述接触表面构造成与所述喷嘴形成表面接触以润湿所述喷嘴形成表面；以及擦拭部件，其构造成擦拭被所述浸渍部件润湿的所述喷嘴形成表面。
【技术特征摘要】
2016.09.21 JP 2016-1843251.一种擦拭装置，包括：浸渍部件，其浸渍有液体，具有接触表面，所述接触表面具有第一长度和第二长度，所述第一长度在纵向方向上比喷射头的喷嘴形成表面的长度长，所述第二长度在与所述纵向方向交叉的横向方向上比所述喷嘴形成表面的长度长，所述喷射头构造成喷射喷射液体，所述接触表面构造成与所述喷嘴形成表面接触以润湿所述喷嘴形成表面；以及擦拭部件，其构造成擦拭被所述浸渍部件润湿的所述喷嘴形成表面。2.根据权利要求1所述的擦拭装置，其中，所述浸渍部件具有织物部件和设置在所述织物部件的背面侧的多孔部件，所述织物部件具有构成所述接触表面的前表面。3.根据权利要求1所述的擦拭装置，其中，所述浸渍部件在所述横向方向上的中央部处凸状地凸出。4.根据权利要求1所述的擦拭装置，其中，所述浸渍部件在与形成于所述喷射头的所述喷嘴形成表面和侧表面之间的角部接触的部分中凸状地凸出。5.根据权利要求3所述的擦...
【专利技术属性】
技术研发人员：平塚昌史，今关敦道，井上雄一，片冈雅树，
申请(专利权)人：富士施乐株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP
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