可移动支撑件和光刻设备制造技术

本发明专利技术涉及配置成支撑物体的可移动支撑件(1)，包括：用于支撑物体的支撑平面(2)；致动器组件，用于在第一方向和垂直于第一方向的第二方向上移动所述可移动支撑件，其中所述第一方向和第二方向在平行于支撑平面的平面中延伸。其中所述致动器组件包括：第一致动器(3)，配置成在第一致动方向(A1)上施加第一致动力(F1)，所述第一致动方向平行于支撑平面；第二致动器(4)，配置在第二致动方向(A2)上施加第二致动力(F2)，所述第二致动方向平行于支撑平面，其中所述第一致动方向和第二致动方向布置成相对彼此不平行且不垂直。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】可移动支撑件和光刻设备相关申请的交叉引用本申请要求于2015年7月9日递交的欧洲专利申请EP15176135.0的优先权，并且通过引用将其全文并入本文中。
本专利技术涉及一种可移动支撑件和光刻设备。
技术介绍
光刻设备是一种将所需图案施加到衬底上(通常施加到衬底的目标部分上)的机器。例如，可以将光刻设备用在集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，可以将可选地称为掩模或掩模版的图案形成装置用于生成待形成于所述IC的单层上的电路图案。可以将所述图案转移到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包含一部分管芯、一个或更多个管芯)上。所述图案的转移通常经由将图案成像到设置于衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层来进行。通常，单个衬底将包含被连续地形成图案的相邻目标部分的网络。传统的光刻设备包括：所谓的步进机，在所述步进机中，通过将整个图案一次曝光到所述目标部分上来辐射每一个目标部分；以及所谓的扫描器，在所述扫描器中，通过辐射束沿给定方向(“扫描”方向)扫描所述图案、同时沿与所述方向平行或反向平行的方向同步地扫描所述衬底来辐射每一个目标部分。还可以通过将图案压印到衬底上而将图案从图案形成装置转移至衬底。在已知的光刻设备的实施例中，图案形成装置由可移动支撑件支撑，以提供图案形成装置的扫描移动。在单个扫描方向上执行扫描移动。所述扫描移动要求在该扫描方向(即在与图案形成装置的主平面平行的方向)上相对大的加速力。另外，在垂直于扫描方向且平行于主平面的第二方向上要求较小的力，以控制图案形成装置在所述第二方向上的位置。在已知的图案形成装置支撑件的实施例中，提供具有洛伦兹致动器的致动器组件以在扫描方向和第二方向上移动所述图案形成装置支撑件。所述已知的致动器组件包括配置成在扫描方向上施加致动力用于在扫描方向上对图案形成装置支撑件加速的致动器和配置成在第二方向上施加致动力用于在所述第二方向上以任意期望的方式移动所述图案形成装置支撑件的致动器。通常，期望不断改善光刻设备的生产量。为了增加生产量，期望增加图案形成装置支撑件的加速度和减速度。为了增大图案形成装置支撑件的加速度，应当增大由致动器组件提供的致动力。然而，增大致动力通常还意味着增加致动器的质量。洛伦兹致动器的已知的致动器组件的缺点是存在可以由洛伦兹致动器提供的每一质量的致动力的最大比例，其限制了可以由致动器组件获得的最大加速度。实际上，这可能产生的效果是在使用具有洛伦兹致动器的致动器组件时不再能够达到图案形成装置支撑件的期望的加速度。通常，还期望增大光刻设备的其它可移动支撑件(诸如衬底支撑件)的加速度。
技术实现思路
期望提供包括致动器组件的可移动支撑件，该致动器组件能实现增大光刻过程的生产量并且允许可移动支撑件具有高的加速度和减速度。更通常地，期望提供能实现有效地使用致动力的致动器组件。另外，期望提供包括可移动支撑件的光刻设备，该支撑件(尤其是图案形成装置支撑件或衬底支撑件)具有这样的致动器组件。根据本专利技术的一个方面，提供了一种配置成用以支撑物体的可移动支撑件，包括：用于支撑物体的支撑平面；致动器组件，用于在第一方向和垂直于第一方向的第二方向上移动所述可移动支撑件，其中所述第一方向和第二方向在平行于支撑平面的平面中延伸，其中所述致动器组件包括：第一致动器，配置成在第一致动方向上施加第一致动力，所述第一致动方向平行于支撑平面；第二致动器，配置在第二致动方向上施加第二致动力，所述第二致动方向平行于支撑平面，其中所述第一致动方向和第二致动方向布置成相对彼此不平行且不垂直。根据本专利技术的一个方面，提供了一种光刻设备，所述光刻设备包括配置成对物体进行支撑的可移动支撑件，所述可移动支撑件包括：用于支撑所述物体的支撑平面；致动器组件，用于在第一方向和垂直于第一方向的第二方向上移动所述可移动支撑件，其中所述第一方向和第二方向在平行于所述支撑平面的平面中延伸，其中所述致动器组件包括：第一致动器，配置成在第一致动方向上施加第一致动力，所述第一致动方向平行于所述支撑平面；第二致动器，配置在第二致动方向上施加第二致动力，所述第二致动方向平行于所述支撑平面，其中所述第一致动方向和第二致动方向布置成相对彼此不平行且不垂直，其中所述可移动支撑件是图案形成装置支撑件或衬底支撑件。附图说明现在将仅作为举例、参考的示意性附图来描述本专利技术的实施例，在附图中对应的参考标记表示对应的部件，其中：图1示出了根据本专利技术的实施例的光刻设备；图2示出了第一实施例的图案形成装置支撑件的俯视图；图3示出了第二实施例的图案形成装置支撑件的俯视图；图4示出了第三实施例的图案形成装置支撑件的俯视图；和图5示出了第四实施例的图案形成装置支撑件的俯视图。具体实施方式图1示意性地示出了根据本专利技术的一个实施例的一种光刻设备。该光刻设备包括照射系统(照射器)IL，配置用于调节辐射束B(例如，紫外(UV)辐射或任何其它合适的辐射)；掩模支撑结构(例如掩模台)MT，构造用于支撑图案形成装置(例如掩模)MA，并与被配置用于根据特定参数精确地定位所述图案形成装置的第一定位装置PM相连接。所述光刻设备还包括衬底台(例如晶片台)WT或“衬底支撑件”，构造成保持衬底W(例如，涂覆有抗蚀剂的晶片)且与被配置成根据特定的参数而精确地定位衬底的第二定位装置PW相连接。所述光刻设备还包括投影系统(例如折射式投影透镜系统)PS，配置用于将由图案形成装置MA赋予辐射束B的图案投影到衬底W的目标部分C(例如包括一根或更多根管芯)上。照射系统可以包括各种类型的光学部件，例如折射型、反射型、磁性型、电磁型、静电型或其它类型的光学部件、或其任意组合，以引导、成形、或控制辐射。所述掩模支撑结构支撑、即承载图案形成装置的重量，所述掩模支撑结构以依赖于图案形成装置的方向、光刻设备的设计、以及诸如例如图案形成装置是否被保持在真空环境中等其它条件的方式来保持所述图案形成装置。所述掩模支撑结构可以采用机械的、真空的、静电的、或其它夹持技术来保持图案形成装置。所述掩模支撑结构可以是框架或台，例如，其可以根据需要成为固定的或可移动的。所述掩模支撑结构可以确保图案形成装置位于所需的位置处(例如相对于投影系统)。在这里使用的任何术语“掩模版”或“掩模”都可以认为与更上位的术语“图案形成装置”同义。本文所使用的术语“图案形成装置”应被广义地解释为指可用来在辐射束的横截面中对辐射束赋予图案以便在衬底的目标部分中产生图案的任何装置。应当注意，赋予辐射束的图案可以不与衬底的目标部分中的期望图案精确地/完全对应，例如如果图案包括相移特征或所谓的辅助特征。一般而言，赋予给辐射束的图案将对应于目标部分(诸如，集成电路)中产生的器件中的特定功能层。图案形成装置可以是透射式的或反射式的。图案形成装置的示例包括掩模、可编程反射镜阵列、以及可编程LCD面板。掩模在光刻术中是公知的，并且包括诸如二元掩模类型、交替型相移掩模类型、衰减型相移掩模类型和各种混合掩模类型之类的掩模类型。可编程反射镜阵列的示例采用小反射镜的矩阵布置，每一个小反射镜可以独立地倾斜，以便沿不同方向反射入射的辐射束。所述已倾斜的反射镜将图案赋予由所述反射镜矩阵反射的辐射束。这里使用的术语“投影系统”应该广义地解释为包括任意类型的投影系统，所述投影系统本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种配置成支撑物体的可移动支撑件，包括：用于支撑所述物体的支撑平面；致动器组件，用于在第一方向和垂直于所述第一方向的第二方向上移动所述可移动支撑件，其中所述第一方向和所述第二方向在平行于所述支撑平面的平面中延伸，其中所述致动器组件包括：第一致动器，配置成在第一致动方向上施加第一致动力，所述第一致动方向平行于所述支撑平面；第二致动器，配置成在第二致动方向上施加第二致动力，所述第二致动方向平行于所述支撑平面，其中所述第一致动方向和第二致动方向布置成相对彼此不平行且不垂直。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.07.09 EP 15176135.01.一种配置成支撑物体的可移动支撑件，包括：用于支撑所述物体的支撑平面；致动器组件，用于在第一方向和垂直于所述第一方向的第二方向上移动所述可移动支撑件，其中所述第一方向和所述第二方向在平行于所述支撑平面的平面中延伸，其中所述致动器组件包括：第一致动器，配置成在第一致动方向上施加第一致动力，所述第一致动方向平行于所述支撑平面；第二致动器，配置成在第二致动方向上施加第二致动力，所述第二致动方向平行于所述支撑平面，其中所述第一致动方向和第二致动方向布置成相对彼此不平行且不垂直。2.根据权利要求1所述的可移动支撑件，其中所述第一方向是所述可移动支撑件的移动的主要方向，并且介于所述第一致动方向和所述第一方向之间的角度、以及介于所述第二致动方向和所述第一方向之间的角度各自小于45度。3.根据权利要求2所述的可移动支撑件，其中介于所述第一致动方向和所述第一方向之间的角度是+α，介于所述第二致动方向和所述第一方向之间的角度是-α，其中α在0到45度之间。4.根据权利要求2所述的可移动支撑件，其中介于所述第一致动方向和所述第一方向之间的角度、以及介于所述第二致动方向和所述第一方向之间的角度各自在0到10度之间。5.根据权利要求4所述的可移动支撑件，其中所述致动器组件的致动器是磁阻式致动器，所述磁阻式致动器包括可磁化材料的磁芯和线圈。6.根据权利要求5所述的可移动支撑件，其中所述第一致动器配置成在所述第一致动方向的正方向上施加所述第一致动力，所述第二致动器配置成在所述第二致动方向的正方向上施加所述第二致动力，其中所述致动器组件包括：第三致动器，配置成在所述第一致动方向的负方向上施加第三致动力，第四致动器，配置成在所述第二致动方向的负方向上施加第四致动力。7.根据权利要求6所述的可移动支撑件，其中所述第一致动器和所述第三致动器具有第一公共磁芯，和/或所述第二致动器和所述第四致动器具有第二公共磁芯。8.根据权利要求6所述的可移动支撑件，其中所述第一致动器和所述第四致动...

【专利技术属性】
技术研发人员：A·F·J·德格鲁特，T·A·M·汝伊尔，C·L·瓦伦汀，C·维尔纳，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：荷兰,NL