用于高分辨率光刻合成DNA阵列的抗反射涂层制造技术

本发明专利技术提供了聚合物阵列以及生成聚合物阵列的方法，所述方法通过提供带有第一层和置于第一层上的第二层的基质而实施，所述第一层包括位于固相支持物上的一种或多种介电涂层，所述第二层包括多种聚合物。本发明专利技术还提供了采用光引导合成在基质上生成聚合物阵列的方法，所述方法实施如下：提供带有第一层的基质，所述第一层包括位于固相支持物上的一种或多种介电涂层；通过将第一层与硅烷化试剂接触，对第一层衍生化，将第二层置于所述第一层上，其中第二层包括以对光不稳的保护基保护的官能基。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种在基质表面生成聚合物阵列的方法，包含：提供固相支持物上带有第一层的基质，所述第一层包括一种或多种介电涂层；所述第一层上置于包括多种聚合物的第二层；按顺序在所述基质的不同选定区域内活化并偶联单体，从而在所述基质的所述表面上的不同已知位置处生成多种不同的聚合物序列，其中所述活化步骤包含将活化辐射引导至所述基质的所述表面处。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：马克特鲁尔森，格伦H麦加利，倍沈西维，莉萨T佐古，达纳张，
申请(专利权)人：阿菲梅特里克斯公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]