复合射束装置制造方法及图纸
Compound beam device
A compound beam device is provided, which can finish the influence of the leakage of electric field or magnetic field from the electron beam barrel or the influence caused by charging when finishing the cross section with the other beams after the cross section is processed by the cluster ion beam. Composite beam device (100) with electron beam tube (10), which is used for the sample (200) electron beam irradiation (10A); cluster ion beam tube (20), which is used to sample cluster ion beam irradiation (20A) and the formation of cross section; and the neutral particle beam tube (30), the accelerating voltage set better than cluster ion beam irradiation for the sample tube is low, neutral particle beam (30A) and the precision of the section, the electron beam and ion beam tube bundle barrel and barrel configuration for the neutral particle beam beam irradiation in each cross point on P.
【技术实现步骤摘要】
复合射束装置
本专利技术涉及具有电子束镜筒和集束离子束镜筒，能够形成试样的截面来进行观察的复合射束装置。
技术介绍
以往，在扫描型电子显微镜(SEM)中，使用安装有对试样照射集束离子束(FIB)而形成截面的集束离子束镜筒的FIB-SEM装置。由此，当从SEM向利用集束离子束进行加工后的截面照射电子束而在一个装置内进行试样的截面加工时，能够当场进行截面的观察和测定。并且，开发出如下的精加工技术：在FIB-SEM装置上设置照射能量比集束离子束镜筒低的氩气等气体离子束的第三射束镜筒，从而对由FIB加工而在表面上产生的加工损伤层照射气体离子束来进行去除(专利文献1)。尤其是，近年来，大多要求将试样的截面加工的终点设为特定图案露出的状态，要求利用气体离子束一边通过SEM对加工中的加工表面(截面)进行观察一边确定加工终点。专利文献1：日本特开2007-164992号公报可是，近年来，要求FIB-SEM装置中的SEM的高分辨率化，因而采用增强电子透镜的磁场或者将试样配置在透镜磁场内或其附近而缩短焦距的半内透镜方式。然而，当使SEM高分辨率化时，从SEM镜筒(电子束镜筒)的前端到...
【技术保护点】
一种复合射束装置，其具有：电子束镜筒，其用于对试样照射电子束；集束离子束镜筒，其用于对所述试样照射集束离子束而形成截面；以及中性粒子束镜筒，其加速电压设定得比所述集束离子束镜筒低，用于对所述试样照射中性粒子束而对所述截面进行精加工，所述电子束镜筒、所述集束离子束镜筒以及所述中性粒子束镜筒配置为各自的各照射束在照射点P上交叉。
【技术特征摘要】
2016.09.13 JP 2016-1784261.一种复合射束装置，其具有：电子束镜筒，其用于对试样照射电子束；集束离子束镜筒，其用于对所述试样照射集束离子束而形成截面；以及中性粒子束镜筒，其加速电压设定得比所述集束离子束镜筒低，用于对所述试样照射中性粒子束而对所述截面进行精加工，所述电子束镜筒、所述集束离子束镜筒以及所述中性粒子束镜筒配置为各自的各照射束在照射点P上交叉。2.根据权利要求1所述的复合射束装置，其中，在设所述电子束镜筒的前端与所述照射点P之间的距...
【专利技术属性】
技术研发人员：麻畑达也，
申请(专利权)人：日本株式会社日立高新技术科学，
类型：发明
国别省市：日本,JP
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