化妆材料及化妆材料的制造方法技术

提供一种抹开良好、涂布时不粘腻、可抑制作为彩妆化妆材料时的颜色转移且卸妆时容易卸除的化妆材料。一种化妆材料，其特征在于，含有含聚氨酯基的硅酮乙烯基聚合物，所述含聚氨酯基的硅酮乙烯基聚合物是下述(a)和(b)的聚氨酯化反应物：(a)以自由基反应性乙烯基单体单元作为构成单元，并拥有羟基的自由基聚合物；(b)下述由通式(1)表示的异氰酸酯硅酮，

Making of make-up materials and make-up materials

It provides a kind of make-up material which is easy to remove when the makeup is not sticky at the time of coating, and can be suppressed when it is used as make-up and makeup material. A cosmetic material, which is characterized in that the silicone containing vinyl polymers containing polyurethane, silicone vinyl polymer containing the polyurethane matrix is a (a) and (b) the polyurethane reaction: (a) on free radical reaction of vinyl monomer units as a single element, free radical polymer and have hydroxyl group; (b) by the following general formula (1) said the silicone isocyanate,

【技术实现步骤摘要】
化妆材料及化妆材料的制造方法
本专利技术涉及化妆材料及化妆材料的制造方法。
技术介绍
含有硅酮的皮膜形成剂已广为所知，尤其是通过含有硅酮的大分子单体和自由基反应性的单体的共聚合，可得到各种的含有硅酮的丙烯酸聚合物，并尝试将其添加到化妆材料中(专利文献1～5)。通过含有硅酮，能够期待提升皮膜的柔软性、对油脂的溶解性。但是，这些调配了含有硅酮的丙烯酸共聚物而成的化妆材料，不仅有抹开不良、粘腻等使用感方面的问题，也无法令人满意地防止颜色转移(二次附着)。而且，调配至粉底等彩妆化妆材料时有难以卸除的问题，而寻求解决这些问题。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2000-63225号公报；专利文献2：日本特开2001-278732号公报；专利文献3：日本特开2006-282585号公报；专利文献4：日本特表2012-502018号公报；专利文献5：日本特开2012-072081号公报。
技术实现思路
专利技术所要解决的问题本专利技术是为了解决上述问题而完成的，解决以往含有硅酮的丙烯酸皮膜形成剂所带来的问题，也就是，本专利技术的目的在于提供一种抹开良好、涂布时不粘腻、可抑制作为彩妆化妆材料时的颜本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种化妆材料，其特征在于，含有含聚氨酯基的硅酮乙烯基聚合物，所述含聚氨酯基的硅酮乙烯基聚合物是下述(a)和(b)的聚氨酯化反应物：(a)自由基聚合物，以自由基反应性乙烯基单体单元作为构成单元，并拥有羟基；(b)下述由通式(1)表示的异氰酸酯硅酮，

【技术特征摘要】
2016.09.13 JP 2016-1783871.一种化妆材料，其特征在于，含有含聚氨酯基的硅酮乙烯基聚合物，所述含聚氨酯基的硅酮乙烯基聚合物是下述(a)和(b)的聚氨酯化反应物：(a)自由基聚合物，以自由基反应性乙烯基单体单元作为构成单元，并拥有羟基；(b)下述由通式(1)表示的异氰酸酯硅酮，式(1)中，R1、R2、R3、R4是分别独立地从碳数1～8的烷基、碳数1～8的氟取代烷基、及碳数6～12的芳基选出的基，n是1～10、a是0～3。2.如权利要求1所述的化妆材料，其中，所述(a)自由基聚合物含有(甲基)丙烯酸羟乙酯、(甲基)丙烯酸羟丙酯、(甲基)丙烯酸甘油酯、以及羟乙基丙烯酰胺中的一种以上的拥有羟基的自由基反应性乙烯基单体单元，以作为所述自由基反应性乙烯基单体单元。3.如权利要求1所述的化妆材料，其中，所述含聚氨酯基的硅酮乙烯基聚合物中的源自所述由通式(1)表示的异氰酸酯硅酮的单元的含有率是40重量％以上。4.如权利要求2所述的化妆材料，其中，所述含聚氨酯基的硅酮乙烯基聚合物中的源自所述由通式(1)表示的异氰酸酯硅酮的单元的含有率是40重量％以上。5.如权利要求1所述的化妆材料，其中，所述含聚氨酯基的硅酮乙烯基聚合物包含至少一个羟基。6.如权利要求2所述的化妆材料，其中，所述含聚氨酯基的硅酮乙烯基聚合物包含至少一个羟基。7.如权利要求3所述的化妆材料，其中，所述含聚氨酯基的硅酮乙烯基聚合物包含至少一个羟基。8.如权利要求4所述的化妆材料，其中，...

【专利技术属性】
技术研发人员：森谷浩幸，
申请(专利权)人：信越化学工业株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP