The present invention relates to a transparent substrate coated with a thin layer of the stack contains the material, the thin layer stack contains three successively alternating silver metal functional layer and the four dielectric coating from the substrate, the dielectric coating from the substrate to be called M1, M2, M3 and M4, the characterized in that: the first layer thickness is less than second and less than third of the thickness of the functional layer functional layer thickness, M1 and M2 respectively with dielectric coating meet the following formula of optical thickness of Eo1 and Eo2:Eo2< 1.1Eo1.
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】提供有具有热性质的堆叠体的基材本专利技术涉及包含透明基材的材料,如窗玻璃,所述透明基材涂覆有包含多个可作用于太阳辐射和/或红外辐射的功能层的薄层堆叠体。本专利技术还涉及包含这些材料的窗玻璃,以及这种材料用于制造热绝缘和/或防晒窗玻璃的用途。这些窗玻璃可以还用于装备建筑物和交通工具,特别地为了减少空调负荷和/或防止过度的过热,其被称为“日光控制”窗玻璃,和/或减少朝向外部消散的能量的量,其被称为“低辐射”的窗玻璃(受在建筑物和交通工具乘客车厢中玻璃化表面日益增加所驱动)。根据安装这些窗玻璃的国家的气候,在光透射和太阳因子(facteursolaire)方面所期望的性能可以在一定范围内变化。光透射必须是足够低的以消除眩光并且是足够高的以使得穿透到由所述窗玻璃限定的空间内部的光量的减少不会必需使用人造光。例如,在日照水平较高的国家,对于具有约50%的光透射和足够低的太阳因子值的窗玻璃的需求很大。已经提出了包括涂覆有包含三个金属功能层的薄层堆叠体的透明基材的窗玻璃,每个金属功能层都位于两个电介质涂层之间,以改善日光保护,同时保持足够的光透射。这些堆叠体通常通过由阴极溅射(任选地磁场辅助)进行的一系列沉积来获得。这些窗玻璃被定性为选择性的,因为它们允许:-由于具有低的太阳因子(FS或g),减少穿透到建筑物内部的太阳能量,-保证足够的光透射,-具有低的辐射率,以减少通过大波长的红外辐射造成的热量损失。根据本专利技术,理解:-太阳因子“g”被理解为表示通过窗玻璃进入房屋的总能量与入射太阳能的比例,-选择性“s”被理解为表示光透射与太阳因子的比率TL/g。现有技术的材料允许 ...
【技术保护点】
一种包含用薄层堆叠体涂覆的透明基材的材料,所述堆叠体从所述基材开始依次包含三个银基金属功能层和四个电介质涂层的交替,所述银基金属功能层从所述基材开始被取名为第一、第二和第三功能层,所述电介质涂层从基材开始被取名为M1、M2、M3和M4,每个电介质涂层包含至少一个电介质层,使得每个金属功能层被设置于两个电介质涂层之间,特征在于:‑第一功能层的厚度小于第二功能层的厚度,‑第一功能层的厚度小于第三功能层的厚度,‑电介质涂层M1和M2各自具有满足以下关系式的光学厚度Eo1和Eo2:Eo2<1.1 Eo1。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.07.08 FR 15564831.一种包含用薄层堆叠体涂覆的透明基材的材料,所述堆叠体从所述基材开始依次包含三个银基金属功能层和四个电介质涂层的交替,所述银基金属功能层从所述基材开始被取名为第一、第二和第三功能层,所述电介质涂层从基材开始被取名为M1、M2、M3和M4,每个电介质涂层包含至少一个电介质层,使得每个金属功能层被设置于两个电介质涂层之间,特征在于:-第一功能层的厚度小于第二功能层的厚度,-第一功能层的厚度小于第三功能层的厚度,-电介质涂层M1和M2各自具有满足以下关系式的光学厚度Eo1和Eo2:Eo2<1.1Eo1。2.根据权利要求1所述的材料,其特征在于,所述第三金属功能层的厚度与所述第二功能层的厚度之比为0.90至1.10,包含这些端值。3.根据前述权利要求中任一项所述的材料,其特征在于,所述三个金属功能层满足以下特征:-第一金属功能层的厚度为6-12nm,-第二金属功能层的厚度为13-20nm,-第三金属功能层的厚度为13-20nm。4.根据前述权利要求中任一项所述的材料,其特征在于,所述堆叠体还包含至少一个与功能层接触的阻挡层,所述阻挡层选自一种或多种选自钛、镍、铬和铌的元素的金属基或金属合金基金属层、金属氮化物层、金属氧化物层和金属氧氮化物层,如Ti、TiN、TiOx、Nb、NbN、Ni、NiN、Cr、CrN、NiCr或NiCrN的层。5.如前一项权利要求所述的材料,其特征在于与所述功能层接触的所有阻挡层的总厚度为0.1-2nm,包含这些端值。6.根据前述权利要求中任一项所述的材料,其特征在于,所述电介质涂层满足以下特征:-第一电介质涂层M1的光学厚度为85-150nm,-第二电介质涂层M2的光学厚度为80-150nm,-第三电介质涂层M3的光学厚度为135-220nm,-第四电介质涂层M4的光学厚度为65-120nm。7.根据前述权利要求中任一项所述的材料,其特征在于,每个电介质涂层包含至少一个基于硅和/或铝化合物的具有阻滞功能的电介质层,所述硅和...
【专利技术属性】
技术研发人员:JC洛伦齐,B乔治斯,
申请(专利权)人:法国圣戈班玻璃厂,
类型:发明
国别省市:法国,FR
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