阴影深度偏移的处理方法及装置制造方法及图纸

技术编号:17486985 阅读:97 留言:0更新日期:2018-03-17 11:04
本申请公开了一种阴影深度偏移的处理方法及装置。该方法包括:获取目标参数,其中,目标参数至少包括:夹角的余弦、阴影贴图分辨率、单位阴影贴图像素对应的空间尺寸,其中,夹角为光源方向与平面的法线的夹角;基于夹角的余弦、阴影贴图分辨率和单位阴影贴图像素对应的空间尺寸计算倾斜偏移量;基于阴影贴图分辨率和单位阴影贴图像素对应的空间尺寸计算常量偏移量;对阴影贴图深度的像素添加倾斜偏移量和常量偏移量,得到阴影贴图结果。通过本申请,解决了相关技术中为场景中物件增加阴影时,存在阴影深度偏移的问题。

Processing method and device of shadow depth migration

The present application discloses a method and device for processing the shadow depth migration. The method includes: obtaining the target parameters, the target parameter includes at least the cosine of the angle, the shadow map resolution, shadow map pixels corresponding to the space size, the angle between the normal plane and the angle is the direction of the light source; tilt offset calculation of spatial dimensions, the cosine of the angle between the shadow map resolution and shadow map pixels based on the calculated constants; offset space size shadow map resolution and unit shadow map pixels based on corresponding pixel of the shadow map; add depth tilt offset and constant offset, get the shadow map results. Through this application, the problem of shadow depth migration is solved when the shadow of the scene is added to the scene in the related technology.

【技术实现步骤摘要】
阴影深度偏移的处理方法及装置
本申请涉及图形处理
,具体而言,涉及一种阴影深度偏移的处理方法及装置。
技术介绍
在图形显示中,为了增强场景的立体感与真实感,往往需要为物件添加阴影,形成光影效果。阴影实现的技术主要有两种,一种是体阴影技术(shadowvolume),另一种是阴影贴图技术(shadowmap)。具体地,体阴影技术从光源方向上根据物件的轮廓,将轮廓后的空间标记为阴影空间,处于此空间内的像素均被阴影覆盖。这种技术实现效果优秀,但是计算量大,不适合对于帧率有要求的实时渲染。阴影贴图技术则是将物件变换到光源空间,并生成一张深度图,深度图中存储了到光源的各个方向上的距离最近值,被称为阴影贴图。在判断是否位于阴影中时,只需要将像素变换到光源空间,并与阴影贴图上对应像素的深度值进行比较,当比阴影贴图深度值不大,则认为处于光照中,否则认为处于阴影中。由于阴影贴图的实用性,这种装置称为阴影显示的主流算法。但是由于阴影深度存储结构的精度有限(浮点数),导致在比较的时候会存在误差,导致当两个相近的数值进行判断的时候,结果可能会发生浮动,时而大时而小,在渲染结果上的表现为某些像素时而处于本文档来自技高网...
阴影深度偏移的处理方法及装置

【技术保护点】
一种阴影深度偏移的处理方法,其特征在于,包括:获取目标参数,其中,所述目标参数至少包括:夹角的余弦、阴影贴图分辨率、单位阴影贴图像素对应的空间尺寸,其中,所述夹角为光源方向与平面的法线的夹角;基于所述夹角的余弦、所述阴影贴图分辨率和所述单位阴影贴图像素对应的空间尺寸计算倾斜偏移量;基于所述阴影贴图分辨率和所述单位阴影贴图像素对应的空间尺寸计算常量偏移量;对阴影贴图深度的像素添加所述倾斜偏移量和所述常量偏移量,得到阴影贴图结果。

【技术特征摘要】
1.一种阴影深度偏移的处理方法,其特征在于,包括:获取目标参数,其中,所述目标参数至少包括:夹角的余弦、阴影贴图分辨率、单位阴影贴图像素对应的空间尺寸,其中,所述夹角为光源方向与平面的法线的夹角;基于所述夹角的余弦、所述阴影贴图分辨率和所述单位阴影贴图像素对应的空间尺寸计算倾斜偏移量;基于所述阴影贴图分辨率和所述单位阴影贴图像素对应的空间尺寸计算常量偏移量;对阴影贴图深度的像素添加所述倾斜偏移量和所述常量偏移量,得到阴影贴图结果。2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,基于所述夹角的余弦、所述阴影贴图分辨率和所述单位阴影贴图像素对应的空间尺寸计算倾斜偏移量包括:基于所述夹角的余弦值计算光照偏移量;基于所述阴影贴图分辨率计算阴影像素分辨率;基于所述单位阴影贴图像素对应的空间尺寸计算阴影贴图覆盖精度;基于所述光照偏移量、所述阴影像素分辨率和所述阴影贴图覆盖精度计算倾斜偏移量。3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,基于所述光照偏移量、所述阴影像素分辨率和所述阴影贴图覆盖精度计算倾斜偏移量包括:获取第一预设系数;基于所述第一预设系数、所述光照偏移量、所述阴影像素分辨率和所述阴影贴图覆盖精度计算所述倾斜偏移量。4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,基于所述阴影贴图分辨率和所述单位阴影贴图像素对应的空间尺寸计算常量偏移量包括:基于所述阴影贴图分辨率计算阴影像素分辨率;基于所述单位阴影贴图像素对应的空间尺寸计算阴影贴图覆盖精度;基于所述阴影像素分辨率和所述阴影贴图覆盖精度计算倾斜偏移量。5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,基于所述阴影像素分辨率和所述阴影贴图覆盖精度计算常量偏移量包括:获取第二预...

【专利技术属性】
技术研发人员:唐邵
申请(专利权)人:网易杭州网络有限公司
类型:发明
国别省市:浙江,33

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