阵列式发射率参考物制造技术
Array emissivity reference
The invention relates to an array emissivity reference material, including a rectangular metal substrate, a rectangular slot, a rectangular wing, and a symmetrical line. There are a series of rectangular grooves and rectangular wings on the upper surface of the cuboid metal substrate, and there is a symmetrical line on the surface of the rectangular metal substrate. Through the design of array reference emissivity, can be used as reference material in the technical field of infrared temperature measurement provides more extensive emission rate interval, and provide continuous surface unit optional, optional unit surface emissivity is continuous and stable in the temperature range, the symmetric structure can make the temperature more stable, compact the array reference emissivity after calibration emissivity as a reference sample, simple and convenient operation.
【技术实现步骤摘要】
阵列式发射率参考物
本专利技术涉及红外测温
，尤其涉及阵列式发射率参考物。
技术介绍
红外测温技术在民用和工业领域都得到了广泛应用。用红外测温设备测量物体的温度，需要知道被测物体的表面发射率。但确定物体的表面发射率却比较困难，原因是表面发射率不仅取决于物体材料种类，还和物体表面状况等因素有关。在测温过程中，为了先确定表面发射率，常用辅助方法是采用发射率已知的物体作为参考物。然而目前使用的参考物如黑胶布，规格不一，不能重复使用，寿命短，加热后易损伤，作为发射率参考物其发射率不稳定。现阶段对于阵列式发射率参考物作为发射率已知的参考物不是很多，现技术有三个缺点，一是测温区间不够宽；二是在工作温度区间内，参考物体发射率是一个定值或区域值，不能连续调节；三是多数参考物体为非对称结构，其自身温场不稳定，使测量发射率精度受到影响。
技术实现思路
本专利技术的目的是为了克服现有发射率参考物的不足，提供阵列式发射率参考物。本专利技术涉及阵列式发射率参考物，包括长方体金属基底，矩形槽，矩形翅，对称线，所述长方体金属基底上表面存在一系列矩形槽和矩形翅，所述长方体金属基底表面存在一根对...
【技术保护点】
本专利技术涉及阵列式发射率参考物，包括长方体金属基底(1)，矩形槽(2)，矩形翅(3)，对称线(4)，其特征在于：所述长方体金属基底(1)上表面存在一系列矩形槽(2)和矩形翅(3)，在长方体金属基底(1)表面存在一根对称线(4)。
【技术特征摘要】
1.本发明涉及阵列式发射率参考物，包括长方体金属基底(1)，矩形槽(2)，矩形翅(3)，对称线(4)，其特征在于：所述长方体金属基底(1)上表面存在一系列矩形槽(2)和矩形翅(3)，在长方体金属基底(1)表面存在一根对称线(4)。2.根据权利要求1所述的阵列式发射率参考物，其特征在于：所述长方体金属基底(1)作为基底，长宽高约为70mm×30mm×20mm，长方体金属基底(1)整体为对称型结构，长方体金属基底(1)采用纯铝制金属材料。3.根据权利要求1所述的阵列式发射率参考物，其特征在于：所述矩形槽(2)由在长方体金属基底(1)上表面切割后切除的空间形成...
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