A TZO MoO3 coated powder preparation and sintering method. The present invention belongs to the non metal element and its compound. The invention discloses a new process to prepare the MoO3 doped TZO target. The advantage of the invention is that a new doping process is used to replace the traditional ball milling, and a fully mixed and uniformly doped powder is obtained. Suitable for trace (0.2 0.5at%) MoO3 powder was prepared by doping, the density of more than 99.9%, the strength of more than 120MPa, the resistivity is less than 5 * 10
【技术实现步骤摘要】
一种MoO3包覆TZO粉体的制备及其烧结方法
:本专利技术属于无机非金属元素及其化合物。
技术介绍
:TZO(氧化锌钛)薄膜是一种被广泛研究的功能材料。TZO透明导电膜性能稳定、制备简单、成本低廉,是新一代透明导电膜,有可能替代昂贵的ITO,在薄膜,在平板显示、太阳能电池、节能玻璃、智能玻璃等领域有广泛的应用前景。TZO薄膜的制备方法主要有:物理气相沉积、化学气相沉积、溶胶-凝胶等各种方法。由于物理气相沉积制备的TZO薄膜与基体的结合强度高、沉积效率高、工艺成熟稳定而被广泛应用。而用物理气相沉积制备TZO薄膜需要使用高密度TZO靶材,通过能量束轰击TZO靶材将其气化,再沉积到基体表面形成透明导电膜。微量的MoO3掺杂能降低TZO的烧结温度,促进其烧结的致密化,提高靶材的密度、强度及导电性,从而提高镀膜质量。
技术实现思路
:本专利技术公开了一种MoO3包覆TZO粉体的制备及其烧结方法。其特征是用钼酸铵溶于水的特性,将TZO粉体在钼酸铵水溶液中湿磨,干燥后在TZO粉体表面形成分散均匀的钼酸铵包覆层,然后通过钼酸铵在100-200℃下的热解在TZO表面形成分散均匀的的MoO3包覆层,从而制备出MoO3包覆TZO粉体,实现MoO3的均匀掺杂。通过对包覆粉体的烧结,可制备出相对密度高于99.9%,强度大于150MPa,电阻率小于4.5×10-4Ω·cm的MoO3掺杂TZO烧结材料,可作为溅射镀膜用的靶材。本专利技术详细研究并掌握了掺杂比、球磨参数、热解温度等对TZO-MoO3包覆粉末制备过程的影响及其烧结致密化过程的变化规律,从而可制备出高性能的烧结MoO3掺杂TZO ...
【技术保护点】
一种新的方法制备MoO3包覆TZO(氧化锌钛)粉体,其特征是用钼酸铵((NH4)6Mo7O24·4H2O)溶于水的特性,将TZO粉体在钼酸铵水溶液中湿磨,干燥后在TZO粉体表面形成分散均匀的钼酸铵包覆层,然后通过钼酸铵在100‑200℃下的热解在TZO表面形成分散均匀的的MoO3包覆层,从而制备出MoO3包覆TZO粉体,实现MoO3的均匀掺杂。
【技术特征摘要】
1.一种新的方法制备MoO3包覆TZO(氧化锌钛)粉体,其特征是用钼酸铵((NH4)6Mo7O24·4H2O)溶于水的特性,将TZO粉体在钼酸铵水溶液中湿磨,干燥后在TZO粉体表面形成分散均匀的钼酸铵包覆层,然后通过钼酸铵在100-200℃下的热解在TZO表面形成分散均匀的的MoO3包覆层,从而制备出MoO3包覆TZO粉体,实现MoO3的均匀掺杂。2.对权利要求1所述的MoO3包覆TZO粉体,通过加成型剂-干燥-过筛-成型-烧结等工序,可制备出密度高于5.5g/c...
【专利技术属性】
技术研发人员:杨海涛,高玲,尚福亮,朱佐祥,彭伟,
申请(专利权)人:深圳大学,
类型:发明
国别省市:广东,44
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