方形玻璃基板及其制造方法技术

本发明专利技术涉及方形玻璃基板及其制造方法。本发明专利技术提供一种方形玻璃基板，是具有表面、背面、4个侧面、和在表面与各侧面以及背面与各侧面之间分别形成了的8个倒角面的方形玻璃基板，在表面与该表面侧的倒角面之间的棱线部具有使表面朝上水平地载置时从该表面到50μm下方的位置的平均梯度为25％以下的第一曲面，并且在侧面与上述表面侧的倒角面之间的棱线部具有使该侧面朝上水平地载置时从该侧面到50μm下方的位置的平均梯度为30％以上的第二曲面，并且板厚为6mm以上。采用本发明专利技术的方形玻璃基板，无论清洗方式如何，都能够抑制清洗后的亚微米尺寸的表面污染，抑制制造成品率的降低。

Square glass substrate and its manufacturing method

The invention relates to a square glass substrate and a manufacturing method. The invention provides a square glass substrate surface and back, has 4 sides, and each side and between the surface and the back with each side respectively formed 8 chamfered face square glass substrate between the chamfered face on surface and the side surface of the ridge portion has a surface upward horizontal load aside from the surface to the bottom of the average gradient of 50 m position for the first surface below 25%, and on the side and the surface side of the ridge portion has a chamfered surface so that the side up to the level of loading from the surface to 50 m below the average gradient position for second surface 30% above, and the plate thickness is more than 6mm. The square glass substrate adopting the invention can suppress surface contamination of submicron size after cleaning and inhibit the reduction of finished product rate, no matter how the cleaning way is.

【技术实现步骤摘要】
方形玻璃基板及其制造方法
本专利技术涉及主要在半导体关联电子材料中使用的方形玻璃基板、特别是在最尖端用途的光掩模用合成石英玻璃基板、纳米压印中使用的方形玻璃基板及其制造方法。
技术介绍
作为玻璃基板上的缺陷的种类，除了分类为凹坑、划痕这样的损伤的缺陷以外，可列举出污垢、牢固地附着的颗粒这样的凸状的缺陷。如果由于玻璃基板的研磨工序中的残渣、清洗工序中的污染，污垢、颗粒附着于玻璃基板表面而成膜，则有时在图案化时成为配线的短路、缺损的原因。因此，在玻璃基板的清洗工序中将污垢、颗粒除去变得重要。例如，在专利文献1(日本特开平11-109607号公报)中，为了防止玻璃基板的制造工序中的裂纹、碎片，并且在清洗时使异物的除去变得容易，提出了在表背的面与侧面交叉的棱线部施以倒角、使倒角面与表背的面和侧面交叉的棱线部变圆而形成(曲率半径R为0.01～0.3mm)的玻璃基板。另外，在专利文献2(国际公开第2013/031548号)中，为了提高玻璃的冲击破坏强度，针对倒角面的圆度，提出了与相对于主平面的倾斜为45°的直线相切的切点处的曲率半径为50μm以上、与相对于主平面的倾斜为15°的直线相切的切点处的曲率半径定义为20～500μm以上的玻璃板。进而，在专利文献3(日本特开2011-084453号公报)中，为了防止因玻璃基板的挠曲、不当的温度分布导致的破损的发生，同时解决颗粒的问题，提出了使倒角面的粗糙度曲线的均方根斜率(为RΔq的指标)成为0.10以下的玻璃基板。另一方面，在专利文献4(日本特开2008-257131号公报)中，为了提高抗蚀剂膜的面内膜厚均一性，防止抗蚀剂的凸起产生的起灰，提出了倒角面的平坦度为50μm以下、表面粗糙度为2nm以下、具有倒角面的高度从其中心区域向周缘部逐渐降低的凸形状的掩模坯用基板。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开平11-109607号公报专利文献2：国际公开第2013/031548号专利文献3：日本特开2011-084453号公报专利文献4：日本特开2008-257131号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题近年来开发高灵敏度的缺陷检查装置，100nm大小的损伤、颗粒、污垢也变得可以检测，即使进行作为玻璃的清洗方式一般已知的浸渍方式、单张方式的清洗，也时常发现存在颗粒的附着、污垢的玻璃基板，存在着制品成品率下降的问题。在专利文献1的基板的情况下，如果用单张清洗机进行清洗，进行了旋转干燥机干燥后对表面进行检查，虽然没有发现用目视能够确认的大小即约1μm以上的颗粒，但在接近侧面的区域检测出100nm大小的附着污垢。另外，在专利文献2的基板的情况下，由于与专利文献1中记载的基板相比棱线形成得更圆，因此就使用对于一张一张的玻璃基板能够经常地供给新的水、药液的单张清洗机进行清洗、干燥后的玻璃板的表面而言，倾向是100nm大小的污垢比较少。另一方面，就将多张玻璃基板纵向地容纳于耐药品的专用的盒中、对每个盒进行了在装满了药液的水槽中浸渍的浸渍清洗后的玻璃板的表面而言，由于干后在侧面残留的最终清洗槽的液体在表面垂挂，因此有时100nm大小的污垢增多。进而，即使是专利文献3那样的有具有光滑表面的侧面的玻璃基板，由于倒角面与表面的棱线以及倒角面与侧面的棱线的形状，在单张清洗或浸渍清洗、或者这两种方式的清洗后玻璃基板的表面有时100nm大小的附着污垢增多。即使是专利文献4那样的倒角面的平坦度为50μm以下、倒角面的高度从其中心区域向周缘部逐渐降低的凸形状，也与专利文献3同样地，由于倒角面与表面的棱线部以及倒角面与侧面的棱线部的形状而使附着污垢的程度受到影响。另外，虽然通过将倒角面的表面粗糙度规定得小，从而难以捕捉研磨剂微粒等，对于防止污垢能够期待一定的效果，但是作为在专利文献4中也已叙述的侧面的研磨方法，对于一般的采用毛刷的加工而言，倒角面与表面的棱线部、倒角面与侧面的棱线部以一定的面积而存在，如果只规定倒角面的粗糙度，有时效果并不充分。本专利技术鉴于上述实际情况而完成，目的在于提供玻璃基板及其制造方法，该玻璃基板不管清洗方式如何，都能够抑制清洗后的亚微米尺寸的玻璃基板的表面污染，抑制制造成品率的降低，其在表面侧的倒角面附近形成了具有规定的形状的曲面，主要用于半导体关联电子材料。用于解决课题的手段本专利技术人为了实现上述目的进行深入研究，结果发现：在具有表面、背面、4个侧面、和在表面与各侧面以及背面与各侧面之间分别形成了的8个倒角面的方形玻璃基板中的连结表面与表面侧的倒角面的棱线部、连结侧面与表面侧的倒角面的棱线部形成具有规定的平均梯度的曲面，对于上述课题的解决有用，完成了本专利技术。即，本专利技术提供以下的方形玻璃基板及其制造方法。[1]方形玻璃基板，是具有表面、背面、4个侧面、和在表面与各侧面以及背面与各侧面之间分别形成了的8个倒角面的方形玻璃基板，使表面朝上水平地载置时，在表面与该表面侧的倒角面之间的棱线部具有从该表面到50μm下方的位置的平均梯度为25％以下的第一曲面，并且使4个侧面中的至少1个侧面朝上水平地载置时，在该侧面与上述表面侧的倒角面之间的棱线部具有从该侧面到50μm下方的位置的平均梯度为30％以上的第二曲面，并且板厚为6mm以上。[2][1]所述的方形玻璃基板，其中，上述第一曲面的算术平均粗糙度(Sa)为2nm以下。[3][1]或[2]所述的方形玻璃基板，其中，上述方形玻璃基板的侧面和表面侧的倒角面的粗糙度曲线的算术平均粗糙度(Ra)为0.1μm以下。[4][1]～[3]的任一项所述的方形玻璃基板，其中，上述方形玻璃基板的不包括从外形起2mm内侧的范围在内的表面的平坦度为5μm以下。[5][1]～[4]的任一项所述的方形玻璃基板的制造方法，其包含在使对侧面和倒角面进行了磨削加工的多张方形玻璃原料基板彼此间以表面背面相对的方式分离地配置的状态下对侧面和倒角面进行毛刷研磨的工序，上述毛刷具有圆筒状或圆柱状的基体、和在该基体侧面以放射状设置了的多根毛体，上述毛体1根的线径为0.2mm以下，并且原料基板彼此间的间隔为毛体线径的2～10倍。[6][5]所述的方形玻璃基板的制造方法，其中，进一步使覆盖了研磨布的定盘(定盤；surfaceplate)抵靠方形玻璃基板的侧面而进行研磨。专利技术的效果采用本专利技术的方形玻璃基板，不管清洗方式如何，都能够抑制清洗后的亚微米尺寸的表面污染，抑制制造成品率的降低。附图说明图1为对本专利技术的方形玻璃基板的从表面经倒角面到侧面的形状测定了的轮廓。图2为作为本专利技术的方形玻璃基板的制造方法的一实施方式的采用毛刷的侧面和倒角面的研磨方法的示意图，(A)为主视图，(B)为立体图。图3为将作为本专利技术的方形玻璃基板的制造方法的一实施方式的采用毛刷的侧面和倒角面的研磨方法中的侧面和倒角面附近放大了的侧面图。图4为作为本专利技术的方形玻璃基板的制造方法的一实施方式的采用覆盖了研磨布的定盘的侧面的研磨方法的示意图。附图标记的说明1表面2表面侧的倒角面3侧面4从表面起50μm下方的位置5从表面至50μm下方的位置的第一曲面中的平均梯度6从侧面起50μm下方的位置7从侧面至50μm下方的位置的第二曲面中的平均梯度S将表面延长的线与将侧面延长的线的交点8方形玻璃基板的原料基板9毛刷10对基板外周进行绕转本文档来自技高网...

【技术保护点】
方形玻璃基板，是具有表面、背面、4个侧面、和在表面与各侧面以及背面与各侧面之间分别形成了的8个倒角面的方形玻璃基板，使表面朝上水平地载置时，在表面与该表面侧的倒角面之间的棱线部具有从该表面到50μm下方的位置的平均梯度为25％以下的第一曲面，并且使4个侧面中的至少1个侧面朝上水平地载置时，在该侧面与上述表面侧的倒角面之间的棱线部具有从该侧面到50μm下方的位置的平均梯度为30％以上的第二曲面，并且板厚为6mm以上。

【技术特征摘要】
2016.08.25 JP 2016-1642131.方形玻璃基板，是具有表面、背面、4个侧面、和在表面与各侧面以及背面与各侧面之间分别形成了的8个倒角面的方形玻璃基板，使表面朝上水平地载置时，在表面与该表面侧的倒角面之间的棱线部具有从该表面到50μm下方的位置的平均梯度为25％以下的第一曲面，并且使4个侧面中的至少1个侧面朝上水平地载置时，在该侧面与上述表面侧的倒角面之间的棱线部具有从该侧面到50μm下方的位置的平均梯度为30％以上的第二曲面，并且板厚为6mm以上。2.根据权利要求1所述的方形玻璃基板，其中，上述第一曲面的算术平均粗糙度(Sa)为2nm以下。3.根据权利要求1或2所述的方形玻璃基板，其中，上述方形玻璃基板...

【专利技术属性】
技术研发人员：原田大实，竹内正树，
申请(专利权)人：信越化学工业株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP