具有减少的缺陷的显示设备制造技术

提供了能够在显示设备的制造期间或在制造之后的使用中减少缺陷的产生的显示设备。显示设备包括：基底，包括位于第一区域和第二区域之间的弯曲区域，基底在弯曲区域中关于弯曲轴弯曲；无机绝缘层，位于基底上方，并包括是第一开口或第一凹槽的第一特征，第一特征被定位为与弯曲区域对应；有机材料层，至少部分地填充第一特征，并包括是第二开口或第二凹槽的第二特征，所第二特征沿基底的边缘延伸。

A display device with a reduced defect

【技术实现步骤摘要】
具有减少的缺陷的显示设备本申请要求于2016年8月18日在韩国知识产权局提交的第10-2016-0104990号韩国专利申请的权益，该韩国专利申请的公开内容通过引用全部包含于此。
一个或更多个实施例涉及一种显示设备，更具体地，涉及一种能够在制造期间或在后续的使用中减少缺陷的出现的显示设备。
技术介绍
通常，显示设备包括位于基底上方的显示单元。当这样的显示设备被至少部分弯曲时，可以改善各种角度下的可视性，或可以减小非显示区域的尺寸。然而，在根据现有技术的显示设备中，在制造或后期使用期间，在弯曲部分处或其附近可能出现缺陷。
技术实现思路
一个或更多个实施例包括能够在显示设备的制造期间或制造之后的使用中减少缺陷的出现的显示设备。附加方面将在下面的描述中部分地阐述，并且部分地从描述中将是清楚的，或者可以通过实施给出的实施例或其他实施例了解到。根据一个或更多个实施例，显示设备包括：基底，包括位于第一区域和第二区域之间的弯曲区域，基底在弯曲区域中关于弯曲轴弯曲；无机绝缘层，位于基底上方，并包括是第一开口或第一凹槽的第一特征，第一特征被定位为与弯曲区域对应；有机材料层，至少部分地填充第一特征，并包括是本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种显示设备，所述显示设备包括：基底，包括位于第一区域和第二区域之间的弯曲区域，所述基底在所述弯曲区域中关于弯曲轴弯曲；无机绝缘层，位于所述基底上方，并包括是第一开口或第一凹槽的第一特征，所述第一特征被定位为与所述弯曲区域对应；以及有机材料层，至少部分地填充所述第一特征，并包括是第二开口或第二凹槽的第二特征，所述第二特征沿所述基底的边缘延伸。

【技术特征摘要】
2016.08.18 KR 10-2016-01049901.一种显示设备，所述显示设备包括：基底，包括位于第一区域和第二区域之间的弯曲区域，所述基底在所述弯曲区域中关于弯曲轴弯曲；无机绝缘层，位于所述基底上方，并包括是第一开口或第一凹槽的第一特征，所述第一特征被定位为与所述弯曲区域对应；以及有机材料层，至少部分地填充所述第一特征，并包括是第二开口或第二凹槽的第二特征，所述第二特征沿所述基底的边缘延伸。2.根据权利要求1所述的显示设备，其中，所述第一开口和所述第一凹槽中的至少一个与所述弯曲区域叠置。3.根据权利要求2所述的显示设备，其中，所述第一开口或所述第一凹槽的面积比所述弯曲区域的面积大。4.根据权利要求3所述的显示设备，其中，所述第二开口或所述第二凹槽的长度比所述弯曲区域的在从所述第一区域到所述第二区域的方向上的宽度大。5.根据权利要求1所述的显示设备，所述显示设备还包括位于所述有机材料层上方的第一导电层，所述第一导电层从所述第一区域穿过所述弯曲区域延伸至所述第二区域。6.根据权利要求5所述的显示设备，其中，所述第一开口和所述第一凹槽中的一个的宽度比所述第二开口和所述第二凹槽中的一个的长度大。7.根据权利要求6所述的显示设备，所述显示设备还包括覆盖所述第一导电层和所述有机材料层的附加有机材料层，其中，所述附加有机材料层包括是第三开口或第三凹槽的第三特征，所述第三特征沿所述基底的所述边缘延伸以与所述第二开口或所述第二凹槽对应。8.根据权利要求7所述的显示设备，其中，所述第二开口和所述第二凹槽中的一个的长度比所述第三开口和所述第三凹槽中的一个的长度大。9.根据权利要求7所述的显示设备，其中，所述附加有机材料层覆盖所述第二开口或所述第二凹槽的侧面。10.根据权利要求9所述的显示设备，所述显示设备还包括位于所述第二开口或所述第二凹槽的侧面的至少一部分的上方的导电残留层...

【专利技术属性】
技术研发人员：崔允瑄，金铉哲，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国,KR