显示设备制造技术

提供了一种显示设备，所述显示设备可以使制造工艺期间的诸如短路的缺陷的发生最小化。所述显示设备包括：基底，具有位于第一区域与第二区域之间的弯曲区域，并在弯曲区域中关于弯曲轴弯曲；有机材料层，位于基底上以对应于弯曲区域，并包括在与弯曲轴交叉的方向上延伸的第二开口或第二凹槽；以及第一导电层，从第一区域通过弯曲区域延伸到第二区域并位于有机材料层上。

Display device

A display device is provided which minimizes the occurrence of defects such as short circuiting during the manufacturing process. The display device includes a substrate, having a curved area located between the first and second areas, and in the area of bending bending shaft bending; organic material layer disposed on the substrate to correspond to the bending area, and includes extending in a direction intersecting with the axis of the opening second or second grooves; and a first conductive from the first layer region by bending area extending to the second area and is located in the organic material layer.

【技术实现步骤摘要】
显示设备该申请要求于2016年8月18日提交到韩国知识产权局的第10-2016-0104984号韩国专利申请的权益，该韩国专利申请的公开内容通过引用全部包含于此。
本公开涉及一种显示设备，更具体地，涉及一种可以使制造工艺期间的诸如短路的缺陷的发生减到最少的弯曲显示设备。
技术介绍
通常，显示设备包括位于基底上的显示单元。通过使显示设备的至少一部分弯曲可以改善各种角度的可视性或者可以减小非显示区域的面积。然而，传统的弯曲显示设备具有在制造工艺期间会发生缺陷的问题。
技术实现思路
本公开的一个或更多个实施例包括可以使制造工艺期间的诸如短路的缺陷的发生最小化的显示设备。另外的方面将在接下来的描述中被部分地阐明，并且部分地，通过描述将清楚，或者可以通过提出的实施例的实践而了解。根据一个或多更个实施例，显示设备包括：基底，具有位于第一区域与第二区域之间的弯曲区域并在弯曲区域中关于弯曲轴弯曲；有机材料层，位于基底上以对应于弯曲区域，并包括在与弯曲轴交叉的方向上延伸的第二开口或第二凹槽；以及第一导电层，从第一区域通过弯曲区域延伸到第二区域，并位于有机材料层上。显示设备还可以包括位于基底上并包括与弯曲区域对应的第一开口或第一凹槽的无机绝缘层，其中，有机材料层填充第一开口或第一凹槽的至少一部分。在这种情况下，第一开口或第一凹槽可以与弯曲区域叠置。此外，第一开口或第一凹槽的面积可以大于弯曲区域的面积。显示设备还可以包括电连接到第一导电层并位于第一区域或第二区域中的第二导电层，第二导电层位于与第一导电层所在的层不同的层上。在这种情况下，第一导电层的伸长率可以大于第二导电层的伸长率。第二开口或第二凹槽可以在与第一导电层延伸的方向平行的方向上延伸。详细地，第一导电层可以以曲折形状从第一区域通过弯曲区域延伸到第二区域，第二开口或第二凹槽可以在与第一导电层延伸的方向平行的方向上延伸。显示设备还可以包括位于第二开口或第二凹槽中并与第一导电层分隔开的附加导电层。附加导电层可以包括与第一导电层中包括的材料相同的材料。详细地，第一导电层可以具有包括多层的结构，附加导电层可以包括与第一导电层的多层中的至少一层中包括的材料相同的材料。此外，第一导电层可以具有包括多层的结构，附加导电层可以包括与第一导电层的多层中的最下层中包括的材料相同的材料。有机材料层还可以包括沿着弯曲轴延伸的第三开口或第三凹槽。第二开口或第二凹槽可以不与第一导电层叠置。可以设置多个第一导电层，第二开口或第二凹槽可以置于所述多个第一导电层之间。附图说明通过下面结合附图对实施例的描述，这些和/或其他方面将变得明显并且更容易理解，在附图中：图1是示出根据实施例的显示设备的一部分的透视图；图2是示出图1的显示设备的一部分的剖视图；图3是示出图1的显示设备的一部分的平面图；图4至图6是根据比较例的用于解释制造显示设备的工艺的剖视图；图7是示出通过使用图4至图6的工艺来制造的显示设备的一部分的平面图；图8至图10是用于解释制造图1的显示设备的工艺的剖视图；图11是示出通过使用图8至图10的工艺来制造的显示设备的一部分的平面图；图12是示出根据另一个实施例的显示设备的一部分的平面图；图13是示出根据另一个实施例的显示设备的一部分的平面图；图14是示出根据另一个实施例的显示设备的一部分的平面图；以及图15是示出根据另一个实施例的显示设备的一部分的剖视图。具体实施方式本公开描述了各种实施例和修改例，本公开的实施例将在附图中示出并将在本文中进行详细描述。通过下面结合附图对实施例的描述，本公开的效果和特征及其附随的方法将变得明显。然而，本公开不限于下面所描述的实施例，而是可以以各种方式实施。在下文中，将通过参照附图解释实施例来详细描述本公开。同样的元件在附图中由同样的附图标记表示，因此将不给出其重复说明。将理解的是，当诸如层、膜、区域或者板的组件被称作“在”另一个组件“上”时，该组件可以直接在所述另一个组件上，或者可以在该组件上存在中间组件。为了便于解释，可以夸大图中的组件的尺寸。换句话说，由于图中的组件的尺寸和厚度为了便于解释而被任意地示出，所以以下实施例不限于所示出的尺寸和厚度。在以下示例中，x轴、y轴和z轴不限于直角坐标系的三个轴，而是可以以更广泛的意义进行解释。例如，x轴、y轴和z轴可以彼此垂直，或者可以表示彼此不垂直的不同的方向。如这里所使用的，术语“和/或”包括一个或更多个相关所列项目的任何和所有组合。诸如“……中的至少一个(种/者)”的表述在一列元件(要素)之后时修饰整列的元件(要素)，而不是修饰这列中的个别元件(要素)。图1是示出根据实施例的显示设备的一部分的透视图。图2是示出图1的显示设备的一部分的剖视图。图3是示出图1的显示设备的一部分的平面图。如图1至图3中所示，根据本实施例的显示设备的基底100包括在第一方向(例如，+y方向)上延伸的弯曲区域BA。弯曲区域BA在与第一方向交叉的第二方向(例如，+x方向)上位于第一区域1A与第二区域2A之间。如图1中所示，基底100关于在第一方向(例如，+y方向)上延伸的弯曲轴BAX弯曲。基底100可以包括各种柔性的或者可弯曲的材料中的任何一种。例如，基底100可以包括诸如聚醚砜(PES)、聚丙烯酸酯(PAR)、聚醚酰亚胺(PEI)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚苯硫醚(PPS)、聚芳酯、聚酰亚胺(PI)、聚碳酸酯(PC)或者醋酸丙酸纤维素(CAP)的聚合物树脂。第一区域1A包括显示区域DA。如图2中所示，第一区域1A不仅可以包括显示区域DA，而且可以包括显示区域DA外侧的非显示区域的一部分。第二区域2A还包括非显示区域的另一部分。参照图2，显示装置300和显示装置300所电连接到的薄膜晶体管(TFT)210可以位于基底100的显示区域DA中。在一个实施例中，显示装置300可以是有机发光装置。在这种情况下，显示装置300的像素电极310电连接到TFT210。TFT210可以包括栅电极213、源电极215a、漏电极215b以及包含非晶硅、多晶硅和/或有机半导体材料的半导体层211。包括诸如氧化硅、氮化硅和/或氮氧化硅的无机材料的栅极绝缘膜120可以位于半导体层211与栅电极213之间以使半导体层211与栅电极213绝缘。另外，包含诸如氧化硅、氮化硅和/或氮氧化硅的无机材料的层间绝缘膜130可以位于栅电极213上，源电极215a和漏电极215b可以位于层间绝缘膜130上。包括无机材料的栅极绝缘膜120和层间绝缘膜130可以通过化学气相沉积(CVD)或者原子层沉积(ALD)来形成。这也适用于以下实施例及其修改例。包括诸如氧化硅、氮化硅和/或氮氧化硅的无机材料的缓冲层110可以位于TFT210与基底100之间。缓冲层110可以改善基底100的顶表面的平坦度，或者可以防止杂质从基底100等渗透到TFT210的半导体层211中，或者可以使杂质从基底100等到TFT210的半导体层211的渗透最小化。平坦化层140可以位于TFT210上。例如，当有机发光装置位于TFT210上时，平坦化层140可以基本上使覆盖TFT210的保护膜的顶表面平坦化。平坦化层140可以由诸如亚克力、苯并环丁烯(BCB)或六甲基二硅氧烷本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种显示设备，所述显示设备包括：基底，具有位于第一区域与第二区域之间的弯曲区域，并在所述弯曲区域中关于弯曲轴弯曲；有机材料层，位于所述基底上以对应于所述弯曲区域，并包括在与所述弯曲轴交叉的方向上延伸的第二开口或第二凹槽；以及第一导电层，从所述第一区域通过所述弯曲区域延伸到所述第二区域并位于所述有机材料层上。

【技术特征摘要】
2016.08.18 KR 10-2016-01049841.一种显示设备，所述显示设备包括：基底，具有位于第一区域与第二区域之间的弯曲区域，并在所述弯曲区域中关于弯曲轴弯曲；有机材料层，位于所述基底上以对应于所述弯曲区域，并包括在与所述弯曲轴交叉的方向上延伸的第二开口或第二凹槽；以及第一导电层，从所述第一区域通过所述弯曲区域延伸到所述第二区域并位于所述有机材料层上。2.根据权利要求1所述的显示设备，所述显示设备还包括：无机绝缘层，位于所述基底上并包括与所述弯曲区域对应的第一开口或第一凹槽，其中，所述有机材料层填充所述第一开口的至少一部分或者填充所述第一凹槽的至少一部分。3.根据权利要求2所述的显示设备，其中，所述第一开口或所述第一凹槽与所述弯曲区域叠置。4.根据权利要求3所述的显示设备，其中，所述第一开口或所述第一凹槽的面积大于所述弯曲区域的面积。5.根据权利要求1所述的显示设备，所述显示设备还包括：第二导电层，电连接到所述第一导电层并位于所述第一区域或所述第二区域中，所述第二导电层位于与所述第一导电层所在的层不同的层上。6.根据权利要求5所述的显示设备，其中，所述第一导电层的伸长率大于所述第二导电层的伸长率。7.根据权利要求1所述的显示设备...

【专利技术属性】
技术研发人员：李珍淑，朴真奭，郑震九，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国,KR