The utility model relates to a rotating frame for multi arc ion plating and a multi arc ion plating equipment. The multi arc ion plating with rotating frame comprises a frame body, wherein the frame body comprises a turntable, turntable, turntable and connected under the lower turntable center spindle, and around the circumferential arranged on the upper and lower rotary turntable between a rotating shaft, a rotating shaft is provided with each clamp for clamping the workpiece. The rotary bracket also comprises a driving shaft to rotate so as to drive the whole frame body rotates with the drive assembly, driving a plurality of revolution axis respectively relative to the upper disk and a lower rotating rotation of the drive assembly, and drive the whole frame under reciprocating reciprocating linear drive assembly. The utility model has the advantages of multi arc ion plating with rotating frame and using multi arc ion plating equipment of the rotating frame not only through revolution plus rotation on the horizontal direction of the way to solve the uniformity problem, also through the rotating frame in the vertical reciprocating motion of the solution of uniformity in the vertical direction, so as to improve the film quality.
【技术实现步骤摘要】
一种多弧离子镀用转架和多弧离子镀膜设备
本技术涉及多弧离子镀,更具体地说,涉及一种多弧离子镀用转架和采用该转架的多弧离子镀膜设备。
技术介绍
普通的多弧离子镀(真空镀膜)技术的原理如图1所示,工件5被夹持在真空腔室1内的转架2上,转架2在驱动机构6的带动下旋转,在真空腔室1的侧壁上装有多个离子镀弧源,用于产生等离子体4,最后等离子体在工件表面成膜。但是,弧源位置的设置是固定的,尽管可以通过分布,做到尽量均匀,但在镀膜过程中,仍然会因为等离子体的不均匀性,导致工件成膜质量所有差异。为了使工件镀膜均匀化,目前普遍采用的转架都是公转加自转的方式,即,转架整体在真空腔室内围绕中心公转,同时转架上的各夹持工件的转轴分别自转。这种方式,有效地改善了每个转轴上工件水平方向上接收等离子体的均匀性问题,但是却没有考虑竖直方向上的均匀性问题,导致工件成膜质量还是存在一定差异。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题在于,针对现有技术的上述缺陷,提供一种不仅可以公转和自转并且还可以竖向上下往复移动的多弧离子镀用转架和采用该转架的多弧离子镀膜设备。本技术为解决其技术问题在第一方面提出一种多弧离子镀用转架,包括架体,所述架体包括上转盘、下转盘、连接上转盘和下转盘中心的主轴、和绕周向设置于上转盘和下转盘之间的多个自转轴,每一自转轴上设有用于夹持工件的夹具,所述转架还包括驱动所述主轴转动进而带动整个架体一起转动的公转驱动组件、驱动所述多个自转轴分别相对于上转盘和下转盘转动的自转驱动组件、和驱动整个架体上下往复移动的直线往复驱动组件。根据本技术第一方面的一个实施例中,所述公转驱动组件包括第一电机和 ...
【技术保护点】
一种多弧离子镀用转架,其特征在于,包括架体,所述架体包括上转盘、下转盘、连接上转盘和下转盘中心的主轴、和绕周向设置于上转盘和下转盘之间的多个自转轴,每一自转轴上设有用于夹持工件的夹具,所述转架还包括驱动所述主轴转动进而带动整个架体一起转动的公转驱动组件、驱动所述多个自转轴分别相对于上转盘和下转盘转动的自转驱动组件、和驱动整个架体上下往复移动的直线往复驱动组件。
【技术特征摘要】
1.一种多弧离子镀用转架,其特征在于,包括架体,所述架体包括上转盘、下转盘、连接上转盘和下转盘中心的主轴、和绕周向设置于上转盘和下转盘之间的多个自转轴,每一自转轴上设有用于夹持工件的夹具,所述转架还包括驱动所述主轴转动进而带动整个架体一起转动的公转驱动组件、驱动所述多个自转轴分别相对于上转盘和下转盘转动的自转驱动组件、和驱动整个架体上下往复移动的直线往复驱动组件。2.根据权利要求1所述的多弧离子镀用转架,其特征在于,所述公转驱动组件包括第一电机和由第一电机带动的减速器,所述减速器的输出轴与所述主轴联接。3.根据权利要求2所述的多弧离子镀用转架,其特征在于,所述自转驱动组件包括设置于下转盘下方的大齿轮和环绕所述大齿轮设置并与其啮合的多个小齿轮,所述多个小齿轮分别与对应的多个自转轴下端固定连接,所述大齿轮设有供主轴穿过的中心通孔并设有支撑底座。4.根据权利要求3所述的多弧离子镀用转架,其特征在于,所述直线往复驱动组件包括第二电机和由第二电机带动的转轮以及偏心连接于所述转轮的连杆,所述连杆与所述支撑底座连接。5.一种多弧离子镀膜设备,包括炉体、设置于炉体侧壁上的多个离子镀弧源、设置于炉体顶部的进气装置、设置于炉体底部的抽真空装置,其特征在于,还包括转架,所述转架包括架体,所述架体包括上转盘、下转盘、连接上转盘和下转盘中心的主轴、和绕...
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