一种活动义齿制造技术

本实用新型专利技术涉及一种活动义齿，其特征在于：包括基托和缓冲层，缓冲层上表面贴覆于基托下表面，基托下表面和缓冲层上表面中的一个面设有若干个朝向另一个面突出的圆凸起，另一个面设有与圆凸起相适配的圆凹孔。本实用新型专利技术这种活动义齿配套有缓冲层，能够延缓颌骨压迫性吸收，减少复诊，减少疼痛，并且与粘膜组织更贴合，吸附牢固，改善固位；无论颌骨是否吸收变形，义齿软垫层总能够与组织密贴。

An active denture

The utility model relates to a movable denture, which comprises a base and a buffer layer, a buffer layer on the surface is covered on the base surface, a surface of the base surface and the buffer layer is provided with a plurality of surface facing another prominent circular convex, another surface is provided with a circular concave hole with the circular convex matching. The utility model has the advantages of the denture supporting a buffer layer, can delay the jaw compression absorption, reduce referral, reduce pain, and mucosa more fit, strong adsorption, improve retention; no matter whether the absorption of jaw deformation, denture cushion layer and organization can always close.

【技术实现步骤摘要】
一种活动义齿
本技术涉及一种义齿，特别是一种活动义齿。
技术介绍
活动义齿是指利用口腔内余留的天然牙和基托覆盖的黏膜、牙槽骨作支持，患者可自行取戴的修复体，是缺牙的一种修复方法。普通义齿常规为硬质塑料材料，在使用过程中，容易出现牙槽嵴负荷不均匀，局部应力集中，牙槽嵴黏膜疼痛，多次复诊调改，固位力弱，进食时容易脱落等问题。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种直接配套有缓冲层的活动义齿，并且缓冲层连接牢固。这种活动义齿，包括基托和缓冲层，所述缓冲层上表面贴覆于基托下表面，所述基托下表面和缓冲层上表面中的一个面设有若干个朝向另一个面突出的圆凸起，另一个面设有与圆凸起相适配的圆凹孔。进一步地，所述缓冲层上表面设有若干个圆凸起，基托下表面设有与圆凸起相适配的圆凹孔。这种设计，更方便缓冲层的更换。进一步地，所述圆凸起为半球形。进一步地，圆凸起与缓冲层平面部连接处的直径小于圆凸起的直径；圆凹孔的开口直径小于圆凹孔的直径。采用这种设计，缓冲层的圆凸起能够更牢固的卡紧在圆凹孔内，是的缓冲层和基托层的连接更牢固。进一步地，缓冲层厚度为0.8~2mm。进一步地，缓冲层厚度为1mm。经大量实验证实，采用该厚度的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种活动义齿，其特征在于：包括基托和缓冲层，所述缓冲层上表面贴覆于基托下表面，所述基托下表面和缓冲层上表面中的一个面设有若干个朝向另一个面突出的圆凸起，另一个面设有与圆凸起相适配的圆凹孔。

【技术特征摘要】
1.一种活动义齿，其特征在于：包括基托和缓冲层，所述缓冲层上表面贴覆于基托下表面，所述基托下表面和缓冲层上表面中的一个面设有若干个朝向另一个面突出的圆凸起，另一个面设有与圆凸起相适配的圆凹孔。2.权利要求1所述的一种活动义齿，其特征在于：所述缓冲层上表面设有若干个圆凸起，基托下表面设有与圆凸起相适配的圆凹孔。3.权利要求1所述的一种活动义齿，其特征在于：所述圆凸起为半球形。4.权利要求2所述的一种活动义齿，其特征在于：圆凸起与缓冲层平面部连...

【专利技术属性】
技术研发人员：简小冲，
申请(专利权)人：简小冲，
类型：新型
国别省市：福建,35