用于批处理的注射器及使用方法技术

用于处理基板的装置及方法包括注射器单元，该注射器单元包括沿该注射器单元的长度延伸的前反应气体端口、沿该注射器单元的该长度延伸的后反应气体端口以及在该前反应气体端口及该后反应气体端口周围形成边界且封闭该前反应气体端口及该后反应气体端口的合并真空端口。

A syringe used for batch processing and its use

Method and apparatus for processing a substrate including a syringe unit, the injector unit includes a front reaction gas port, along the length of the syringe unit extends along the length of the reaction gas injector unit extension port and the port before the reaction gas and the reaction boundary and closed the front port and the reaction gas the reaction gas port with a vacuum port formed around the gas port.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于批处理的注射器及使用方法
本公开的实施例大致关于用于沉积薄膜的装置及方法。特别地，本公开的实施例针对原子层沉积批处理注射器及使用方法。
技术介绍
在回转料架式原子层沉积(ALD)批处理腔室中，基板在处理腔室的分离的部分中依次暴露于各种反应气体。此ALD工艺通常称为空间ALD，因为反应气体在空间上而非时间上在处理腔室内被分离。在某些工艺中，空间ALD处理腔室的区段向基板提供等离子体暴露。对等离子体区段的暴露时间与对热沉积区段的暴露时间相同。在某些工艺中，膜形成可受益于相较于热暴露时间增加的等离子体暴露时间。因此，在本领域中存在对用于在空间ALD批处理腔室中增加等离子体暴露的装置及方法的需要。
技术实现思路
本公开的一或更多个实施例针对注射器单元，该注射器单元包括：沿该注射器单元的长度延伸的前反应气体端口；沿该注射器单元的该长度延伸的后反应气体端口，以及在该前反应气体端口及该后反应气体端口周围形成边界且封闭该前反应气体端口及该后反应气体端口的合并真空端口。本公开的额外实施例针对包括圆形气体分配组件的处理腔室。该气体分配组件具有内周边边缘及外周边边缘。该气体分配组件包括两个第一注射器单元及本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种注射器单元，包括：前反应气体端口，沿所述注射器单元的长度延伸，后反应气体端口，沿所述注射器单元的所述长度延伸，及合并真空端口，在所述前反应气体端口及所述后反应气体端口周围形成边界，且封闭所述前反应气体端口及所述后反应气体端口。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.06.19 US 62/182,3591.一种注射器单元，包括：前反应气体端口，沿所述注射器单元的长度延伸，后反应气体端口，沿所述注射器单元的所述长度延伸，及合并真空端口，在所述前反应气体端口及所述后反应气体端口周围形成边界，且封闭所述前反应气体端口及所述后反应气体端口。2.如权利要求1所述的注射器单元，其中所述合并真空端口允许来自所述前反应气体端口及所述后反应气体端口的气体在所述边界内混合，同时防止所述气体扩散到所述边界外。3.如权利要求1所述的注射器单元，其中所述注射器单元具有前缘及后缘以及内周边边缘及外周边边缘，所述前缘及所述后缘定义所述注射器单元的宽度，所述内周边边缘及所述外周边边缘连接所述前缘及所述后缘且定义所述注射器单元的长度。4.如权利要求3所述的注射器单元，其中所述注射器单元形成圆形的一部分，以便所述前缘及后缘形成约60°至约120°的范围中的角度。5.如权利要求1所述的注射器单元，其中所述合并真空端口在形状上与所述注射器单元共形。6.如权利要求1所述的注射器单元，进一步包括至少一个远程等离子体源，所述至少一个远程等离子体源连接至所述前反应气体端口或所述后反应气体端口中的一或更多者。7.如权利要求1所述的注射器单元，进一步包括连接至所述前反应气体端口的前远程等离子体源及连接至所述后反应气体端口的后远程等离子体源。8.如权利要求1所述的注射器单元，进一步包括邻近所述合并真空端口的一侧的清扫气体端口。9.如权利要求1所述的注射器单元，进一步包括在所述合并真空端口的所述边界内的所述前反应气体端口及所述后反应气体端口之间的至少一个中间气体端口。10.一种气体分配组件，包括：至少一个第一注射器单元，所述第一注射器单元具有定义所述第一注射器单元的长度的内周边边缘及外周边边缘，各第一注射器单元包括：第一反应气体端口，沿所述注射器单元的所述长度延伸，第一真空端口，围绕所述第一反应气体端口，第一清扫气体端口，邻近沿所述注射器单元的所述长度延伸的所述第一真空端口的一侧，第二反应气体端口，沿所述注射器单元的所述长度延伸，及第二真空端口，围绕所述第二反应气体端口；及根据权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：J·尤多夫斯基，K·格里芬，M·斯里拉姆，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：发明
国别省市：美国,US