一种小型间歇式还原蒸馏装置制造方法及图纸

技术编号:17335937 阅读:68 留言:0更新日期:2018-02-25 03:17
本发明专利技术涉及一种小型还原蒸馏装置,该还原蒸馏装置主要用于实验室研究,或小批量易挥发金属及氧化物的制备,包括还原蒸馏炉,还原蒸馏炉顶部开口,开口处设有相适配的炉盖,炉盖上设有出气口,还原蒸馏炉炉体内分层布置,具体包括其下部的还原反应层、还原反应层与出气口之间的沉降层和还原反应层和沉降层之间的盛料层,本发明专利技术装置还包括冷凝室,还原蒸馏炉通过炉盖上的出气口与冷凝室连通,本发明专利技术通过沉降隔板阻隔气体,使产物中气态物质充分冷凝,同时未在沉降层中充分冷凝的产物在冷凝室内再次冷却,并通过冷凝室出口处布袋进行收尘,防止产物进入引风机,本发明专利技术还原蒸馏装置产物收得率高,而且装置结构简单,制造、安装和维护容易。

【技术实现步骤摘要】
一种小型间歇式还原蒸馏装置
本专利技术属于冶金设备领域,更具体的,涉及一种小型还原蒸馏装置,主要用于实验室研究,或小批量易挥发金属及氧化物的制备。
技术介绍
还原蒸馏是在冶金设备内同时进行被还原物质(金属)挥发和冷凝的还原冶炼方法。整个过程包括金属氧化物的还原和还原后金属的挥发与冷凝几个步骤。还原蒸馏是一种独特的冶金方法,是以被还原金属在高温下能大量挥发为前提。固体或液体金属在一定温度下有一定蒸气压,且金属的蒸气压随温度的升高而增大。在高温下将金属的氧化物还原成金属状态后,便可得到金属的蒸气。金属蒸气从冶金反应器挥发出来,与炉料中的高沸点杂质如脉石等分离,经冷凝便得到金属。这种冶金过程还原后的金属以气态挥发出来,因而一般不需要产出熔融炉渣,所产出的固态残渣自蒸馏罐中排出。但是有些还原反应过程中产生一氧化碳或二氧化碳等气体,当主产物为气态时与一氧化碳或二氧化碳等气体混合后难以分离,采用常规的真空蒸馏设备无法制备。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是,克服以上
技术介绍
中提到的不足和缺陷,提供一种结构简单、产物收得率高的小型间歇式还原蒸馏装置。为实现上述目的,本专利技术技术方案如下:本文档来自技高网...
一种小型间歇式还原蒸馏装置

【技术保护点】
一种小型间歇式还原蒸馏装置,其特征在于,包括还原蒸馏炉,所述还原蒸馏炉顶部开口,开口处设有相适配的炉盖,炉盖上设有出气口,所述还原蒸馏炉炉体内分层布置,具体包括:其下部的还原反应层,所述还原反应层设有供物料反应的反应室,反应室设有出口,反应室内壁设有发热组件;还原反应层与出气口之间的沉降层,所述沉降层包括炉内上下依次横置的数块沉降隔板,每块所述沉降隔板设有开口,沉降层最底层沉降隔板的开口与反应室出口错开;还原反应层和沉降层之间的盛料层,所述盛料层的进料口与沉降层最底层沉降隔板的开口相对。

【技术特征摘要】
1.一种小型间歇式还原蒸馏装置,其特征在于,包括还原蒸馏炉,所述还原蒸馏炉顶部开口,开口处设有相适配的炉盖,炉盖上设有出气口,所述还原蒸馏炉炉体内分层布置,具体包括:其下部的还原反应层,所述还原反应层设有供物料反应的反应室,反应室设有出口,反应室内壁设有发热组件;还原反应层与出气口之间的沉降层,所述沉降层包括炉内上下依次横置的数块沉降隔板,每块所述沉降隔板设有开口,沉降层最底层沉降隔板的开口与反应室出口错开;还原反应层和沉降层之间的盛料层,所述盛料层的进料口与沉降层最底层沉降隔板的开口相对。2.根据权利要求1所述的还原蒸馏装置,其特征在于,所述沉降隔板两端往其开口处向下倾斜。3.根据权利要求1所述的还原蒸馏装置,其特征在于,相邻所述沉降隔板的开口错开。4.根据权利要求1所述的还原蒸馏装置,其特...

【专利技术属性】
技术研发人员:张波刘浪李春晓肖波
申请(专利权)人:湖南工业大学
类型:发明
国别省市:湖南,43

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