扩散器及PECVD设备制造技术

本文所述的实施例通常涉及用于半导体处理腔室中的具有减少的锌含量的铝合金喷头。喷头可被用于适用于制造低温多晶硅液晶显示器或LTPS有机发光二极管显示器的处理腔室中，所述显示器可通过薄膜晶体管控制。更具体地说，本文所述的实施例涉及锌减少的喷头。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

Diffuser and PECVD equipment

The embodiments described in this article are usually related to an aluminum alloy nozzle with a reduced zinc content in a semiconductor processing chamber. The nozzle can be applied to the processing chamber for making low temperature polycrystalline silicon liquid crystal display or LTPS organic light-emitting diode display, and the display can be controlled by a thin film transistor. More specifically, the embodiments described in this article involve a spray head with a reduction of zinc.

【技术实现步骤摘要】
扩散器及PECVD设备本申请是申请日为“2014年6月19日”、申请号为“201420328916.5”、题为“锌减少的喷头”的分案申请。
本文所述的实施例通常涉及用于处理腔室中的具有减少的锌含量的铝合金喷头。喷头可被用于适用于制造低温多晶硅(lowtemperaturepolysilicon；LTPS)液晶显示器(liquidcrystaldisplays；LCD)或LTPS有机发光二极管(organiclightemittingdiode；OLED)显示器的处理腔室中，所述显示器可通过薄膜晶体管(thinfilmtransistors；TFT)控制。更具体地说，本文所述的实施例涉及锌减少的喷头。
技术介绍
当前对TFT阵列的关注特别高，因为这些装置可在常常使用于计算机和电视平板的LCD种类中使用。LCD也可包含发光二极管(lightemittingdiode；LED)，所述发光二极管诸如用于背光照明的OLED。LED和OLED需要用于解决显示器活动的TFT。LTPS显示器通常需要在高温下的处理以沉积多晶硅。在处理期间颗粒产生的共用来源是由于装置中铜迁移的铜金属污染。然而，颗粒污染本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于处理基板的扩散器，包含：主体，所述主体具有通过所述主体布置的多个通道，所述主体包含锌减少的6061铝合金。

【技术特征摘要】
2013.07.01 US 61/841,484;2013.09.26 US 14/038,5781.一种用于处理基板的扩散器，包含：主体，所述主体具有通过所述主体布置的多个通道，所述主体包含锌减少的6061铝合金。2.一种用于等离子体增强化学气相沉积腔室中的扩散器，包含：主体，所述主体具有通过所述主体布置的多个通道，所述主体包含锌减少的6061铝合金，其中所述扩散器适于在具有高于400℃的...

【专利技术属性】
技术研发人员：N·南比亚尔，天田欣也，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：新型
国别省市：美国,US