多层膜用蚀刻液和蚀刻浓缩液及蚀刻方法技术

提供将铜和钼的多层膜蚀刻、可以降低用量的蚀刻液。使用过氧化氢的蚀刻液中，由于过氧化氢被铜离子分解，因此补充大量的蚀刻液。一种多层膜用蚀刻液，其特征在于，其包含过氧化氢、酸性有机酸、胺化合物、过氧化氢分解抑制剂、唑类、和含有铝盐的析出防止剂，作为前述过氧化氢分解抑制剂，以0.4质量％以上且5质量％以下的比率含有乙二醇单丁基醚，前述胺化合物为N,N‑二乙基‑1,3‑丙烷二胺，对于该多层膜用蚀刻液，即使铜离子增加也可以抑制过氧化氢分解速度，可以降低蚀刻液的总用量。

Etchings and etchings and etchings for multilayer films

Etchings that can be etched with copper and molybdenum and reduce the amount of etching. In the etching solution using hydrogen peroxide, the hydrogen peroxide is decomposed by copper ions, so a large number of etchings are supplemented. Etching liquid for a multilayer film, which is characterized in that it contains hydrogen peroxide, acidic organic acids, amines, hydrogen peroxide decomposition inhibitor, azoles, and precipitates containing aluminum salt preventing agent, as the hydrogen peroxide decomposition inhibitor, ratio to above 0.4 mass% and 5 mass% to containing diethylene glycol monobutyl ether the amine compounds of N, N, 1,3 two ethyl two propane amine, for the multilayer film etching solution, even if the copper ions can also inhibit the decomposition of hydrogen peroxide to increase speed, can reduce the total amount of etching solution.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】多层膜用蚀刻液和蚀刻浓缩液及蚀刻方法
本专利技术涉及将液晶、有机EL等的平板显示器的布线用中使用的铜和钼的多层膜蚀刻时所使用的多层膜用蚀刻液和蚀刻浓缩液以及蚀刻方法。
技术介绍
液晶、有机EL(Electro-Luminescence)等的平板显示器(FPD)的TFT(ThinFilmTransistor)使用铝作为布线材料。近年，大画面且高清晰度的FPD普及，对于所使用的布线材料要求电阻比铝低。因此，近年使用电阻比铝低的铜作为布线材料。若使用铜作为布线材料则产生与基板之间的粘接力、和对半导体基材的扩散这两个问题。也就是说，以栅布线使用的情况下，即使使用对基材的碰撞能量比较大的溅射法、在玻璃等基板之间粘接力也有可能不充分。另外，以源漏布线使用的情况下，所附着的铜对成为基底的硅扩散，产生改变半导体的电气设计值的问题。为了解决这种问题，现在采用在半导体基材上首先形成钼膜、在其上形成铜膜的多层结构。对于FPD的布线，通过将利用溅射法形成的多层膜进行湿式蚀刻来形成。这是因为，由于可以一次性地形成大面积、能够实现工序的缩短化。在此，布线的湿式蚀刻中，重要在于以下几点。(1)加工精度高、一样。(本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种多层膜用蚀刻液，其特征在于，其包含过氧化氢、酸性有机酸、胺化合物、过氧化氢分解抑制剂、唑类、和含有铝盐的析出防止剂，作为所述过氧化氢分解抑制剂，以0.4质量％以上且5质量％以下的比率含有乙二醇单丁基醚，所述胺化合物为N,N‑二乙基‑1,3‑丙烷二胺。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种多层膜用蚀刻液，其特征在于，其包含过氧化氢、酸性有机酸、胺化合物、过氧化氢分解抑制剂、唑类、和含有铝盐的析出防止剂，作为所述过氧化氢分解抑制剂，以0.4质量％以上且5质量％以下的比率含有乙二醇单丁基醚，所述胺化合物为N,N-二乙基-1,3-丙烷二胺。2.一种多层膜用蚀刻液，其特征在于，其包含过氧化氢、酸性有机酸、胺化合物、过氧化氢分解抑制剂、唑类、和含有铝盐的析出防止剂，作为所述过氧化氢分解抑制剂，以0.9质量％以上且5质量％以下的比率含有乙二醇单丁基醚，所述胺化合物为1-氨基-2-丙醇。3.根据权利要求1或2中任一项所述的多层膜用蚀刻液，其特征在于，所述铝盐为乳酸铝。4.根据权利要求1或2中任一项所述的多层膜用蚀刻液，其特征在于，所述酸性有机酸含有乙醇酸、丙二酸、乳酸中的至少一种。5.根据权利要求1或2中任一项所述的多层膜用蚀刻液，其特征在于，所述唑类为5-氨基-1H-四唑。6.根据权利要求1或2中任一项所述的多层膜用蚀刻液，其特征在于，其还包含铜离子8000ppm以上。7.一种多层膜用蚀刻浓缩液，其特征在于，其包含酸性有机酸、胺化合物、过氧化氢分解抑制剂、唑类、含有铝盐的析出防止剂、和水，作为所述过氧化氢分解抑制剂，相对于作为蚀刻液的最终调制后的总量以0.4质量％以上且5质量％以下的比率含有乙二醇单丁基醚，所述胺化合物为N,N-二乙基-1,3-丙烷二胺。8.一种多层膜用蚀刻浓...

【专利技术属性】
技术研发人员：着能真，渊上真一郎，
申请(专利权)人：松下知识产权经营株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP