具有图案的透明玻璃制造技术

技术编号:17254899 阅读:26 留言:0更新日期:2018-02-11 17:06
本发明专利技术涉及一种具有图案的透明玻璃,更详细而言,涉及以低成本在玻璃表面上形成点状、线状或波状图案的凹凸面,并在其上形成抗指纹涂层,从而提高耐指纹性、防污、防水性及透光率,本发明专利技术的具有图案的透明玻璃,其特征在于,通过对玻璃基板的表面进行沉积工艺或蚀刻工艺形成具有多个点状、多个线状、多个波状中任一个图案槽(102)的凹凸面(100),并在所述凹凸面形成底涂层(40)与抗指纹涂层(50),所述图案槽的幅度或面积与分别图案槽之间的隔开距离保持规定,从而规则地排列凹凸面。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】具有图案的透明玻璃
本专利技术涉及一种具有图案的透明玻璃,更详细而言,涉及一种在安装在智能手机,平板电脑,上网本,笔记本的显示器用玻璃或镜片等光学玻璃的表面上形成带有点状、线状或波状的图案的凹凸面,并在其上面形成防指纹涂层,从而提高耐指纹性、防污效果、防水性以及透光率的具有图案的透明玻璃。
技术介绍
近来智能手机、平板电脑、上网本、笔记本电脑等的显示器玻璃由强化玻璃制成以防容易折断,并且在这些强化玻璃的表面上赋予特定图像、标志、字符等。作为相关的现有技术的例,韩国专利授权第10-1295251号(专利文献1)公开了一种在透明显示单元上执行图像多重沉积的方法,该方法包括:(a)在透明显示部件的上表面或下表面形成用于保护其表面的涂层的步骤;(b)将包括标志、字符、字母的各种图像组成的干膜光致抗蚀剂(DFR)附着于所述涂层的上部及下部的步骤;(c)通过用紫外光(UV)照射所述干膜光致抗蚀剂以使得仅期望的区域经由光掩模暴露于UV而执行曝光过程的步骤;(d)在付着有所述干膜光致抗蚀剂的透明显示部件中除了照射紫外光的区域去除其余区域的干膜光致抗蚀剂的步骤;€除了照射所述紫外光的区域之外去除其余区域中的涂层来执行蚀刻工艺的步骤;以及(f)当完成蚀刻过程时,通过去除附着于各种图像区域的干膜光致抗蚀剂执行剥离过程的步骤。然而,当使用专利文献1中公开的方法时,为了保护强化玻璃,在强化玻璃的表面上形成涂层后,需要进行干膜光致抗蚀剂附着工艺,UV曝光工艺,显影工艺,蚀刻工艺,剥离工艺等,因此需要很多用于执行所述工艺的设备或装置,并且由于耗较多时间,因此不具备经济性。此外,不会在强化玻璃的表面上直接形成图案,而是覆盖在强化玻璃的表面上的保护涂层形成图案,因此在智能手机或平板电脑等频繁发生手指的触摸的情况下,当长期使用时,保护涂层可能会磨损或剥落,从而导致图案的耐久性差。
技术实现思路
要解决的技术问题本专利技术是鉴于所述诸多问题而提出的,其目的在于,提供一种无需使用高科技及昂贵的设备而使用简单的工艺及低成本在玻璃表面可以形成点状、线状或波状图案的凹凸面,并且在其上形成抗指纹涂层,从而提高耐指纹性、防污效果、防水性以及透光率的具有图案的透明玻璃。技术方案为了实现所述目的,本专利技术提供了一种具有图案的透明玻璃,通过在玻璃基板的表面上执行沉积工艺或蚀刻工艺形成多个点状、多个线状以及多个波状中任一个具有图案槽的凹凸面,在所述凹凸面上形成厚度为10nm至50nm的抗指纹涂层,其中所述图案槽的宽度或面积为0.3μm至5μm,深度或高度为0.2μm至2μm,图案槽之间的距离为0.5μm至5μm,其中分别图案槽的宽度或面积以及图案槽之间的隔开距离保持规定,从而凹凸面规则地排列。此时,为了增强抗指纹涂层的耐久性,可以在所述凹凸面与所述抗指纹涂层之间设置厚度为10nm至30nm的底涂层。有益效果根据本专利技术,在玻璃表面上形成通过阳雕或阴雕形成的凹凸面的槽,槽具有0.3μm至5μm的直径或宽度,并且即便不使用高科技及昂贵的设备也可以容易地制造及可商业化,由于制造成本低具有价格竞争力,而且根据正方形或圆形点状、线状、波状等用途使用掩模随意自由地设计图案。另外,玻璃表面的接触角保持在140°以上,因此,防污效果及防水性出色的同时可以提高透光率。此外,在凹凸面上形成抗指纹涂层,使得可以增强抗指纹性,并且以底涂层作为媒介形成抗指纹涂层,从而提高抗指纹涂层的耐久性。附图说明图1是示出根据本专利技术的具有图案的透明玻璃的表面的局部放大图。图2是示出根据本专利技术的具有图案的透明玻璃的截面的局部放大图。图3是示出根据本专利技术的具有图案的透明玻璃的沉积工艺的玻璃截面的部分放大图。图4是示出根据本专利技术的具有图案的透明玻璃进行干蚀刻的工艺的玻璃截面的局部放大图。图5是示出根据本专利技术的具有图案的透明玻璃的湿蚀刻工艺的玻璃截面的局部放大图。图中10...玻璃基板20...掩模21...孔30...抗蚀剂40...底涂层50...抗指纹涂层100...凹凸面101...沉积层102...图案槽具体实施方式本专利技术可进行多种变更及具有多种实施例,作为一例,本专利技术通过在玻璃基板的表面上执行沉积工艺或蚀刻工艺形成多个点状、多个线状以及多个波状中任一个具有图案槽的凹凸面,在所述凹凸面上形成厚度为10nm至50nm的抗指纹涂层,其中所述图案槽的宽度或面积为0.3μm至5μm,深度或高度为0.2μm至2μm,图案槽之间的距离为0.5μm至5μm,其中分别图案槽的宽度或面积以及图案槽之间的隔开距离保持规定,从而凹凸面规则地排列。此时,为了增强抗指纹涂层的耐久性,可以在所述凹凸面与所述抗指纹涂层之间设置厚度为10nm至30nm的底涂层。以下基于本专利技术的优选的实施例详细说明本专利技术。本专利技术并不被示例的形态而限定,本专利技术的思想及技术范围包括示例形态的通常的变更及均等物及代替物。图1是示出根据本专利技术的具有图案的透明玻璃的表面的局部放大图,图2是示出根据本专利技术的具有图案的透明玻璃的截面的局部放大图。如图1及图2所示,本专利技术的具有图案的透明玻璃在玻璃基板10的表面上形成凹凸面100,所述凹凸表面100具有在多个圆形点状(参照图1a)、多个正方形点状(参照图1b),多个线状(参照图1c),多个波状(参照图1d)中任一个图案的图案槽102。所述图案槽102可以通过如图2a所示的沉积工艺形成,或者可以通过如图2b所示的蚀刻工艺形成。通过如图2a的沉积工艺在除了图案槽102之外的区域的在玻璃基板10的表面上形成沉积层101时,在没有形成沉积层101的区域形成图案槽102,并且如图2b所示,可以通过蚀刻对应于图案槽102的区域来在玻璃基板10的表面上形成图案槽102。所述图案槽102可以具有0.3μm至5μm的宽度或面积(直径),并且图案槽102之间的距离可以在0.5μm至5μm的范围内任意地调整。当所述图案槽102的宽度或面积(直径)小于0.3μm,且图案槽102之间的距离小于0.5μm时,需要精密昂贵的设备与复杂的工艺,因此制造成本增加,从而降低了价格竞争力,导致难以商品化,难以均匀地形成分别图案槽102的宽度或面积,因此难以规则地排列凹凸面。另一方面,当图案槽102的宽度或面积以及图案槽102之间的距离大于5μm时,玻璃表面上的图案可用肉眼区分,因此其商品性劣化,难以实现本专利技术要实现的抗指纹性、防污效果、防水性及透光性的改善。所述图案槽102的高度(即,通过上述沉积工艺形成的沉积层101的高度),即通过蚀刻工艺蚀刻的图案槽102的深度可以在0.2μm至2μm范围内调整。当图案槽102的高度或深度小于0.2μm时,凹凸面的水平差较小,因此难以实现由玻璃基板10的表面上的凹凸面所呈现的抗指纹性、防污效果、防水性以及透光率。另一方面,当图案槽102的高度或深度大于2μm时,过渡消耗沉积工艺或蚀刻工艺时间,导致批量生产率差,分别图案槽102的高度或深度不均匀,从而难以在玻璃基板10的整个表面上实现具有均匀图案的凹凸面。同时,底涂层40与抗指纹涂层50可以依次堆叠在由所述玻璃基板10的表面上的图案槽102形成的凹凸面100上,或者抗指纹涂层50可以在没有底涂层40的情况下直接形成在凹凸面100上。所述底涂层40可以使用粘合剂树脂本文档来自技高网
...
具有图案的透明玻璃

【技术保护点】
一种具有图案的透明玻璃,其特征在于,通过在玻璃基板的表面上执行沉积工艺或蚀刻工艺形成具有多个点状、多个线状以及多个波状中任一个图案槽的凹凸面,在所述凹凸面上形成厚度为10nm至50nm的抗指纹涂层,所述图案槽的宽度或面积为0.3μm至5μm,图案槽之间的距离为0.5μm至5μm,其中分别图案槽的宽度或面积以及分别图案槽之间的隔开距离保持规定,从而凹凸面被规则地排列。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.07.24 KR 10-2015-0104808;2016.02.29 KR 10-2011.一种具有图案的透明玻璃,其特征在于,通过在玻璃基板的表面上执行沉积工艺或蚀刻工艺形成具有多个点状、多个线状以及多个波状中任一个图案槽的凹凸面,在所述凹凸面上形成厚度为10nm至50nm的抗指纹涂层,所述图案槽的宽度或面积为0.3μm至5μm,图案槽之间的距离为0.5μm至5μm,其中分别图案槽的宽度或面积以及分别图案槽之间的隔开距离保持规定,从而凹凸面被规则地排列。2.根据权利要求1所述的具有图案的透明玻璃,其特征在于,在所述凹凸面与所述抗指纹涂层之间设置厚度为10nm至30nm的底涂层。3.根据权利要求1或2所述的具有图案的透明玻璃,其特征在于,所述沉积工艺包括:与所述...

【专利技术属性】
技术研发人员:申度铉朱显德
申请(专利权)人:株式会社度恩
类型:发明
国别省市:韩国,KR

相关技术
    暂无相关专利
网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1