基板液处理装置、基板液处理方法以及存储介质制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种基板液处理装置、基板液处理方法以及存储介质。基板液处理装置能够在处理槽内的处理液中形成均匀的N2气体的气泡。基板液处理装置(1)具备：处理槽(34)，其收纳基板(8)；以及多个气体供给管(81、82、83、84)，所述多个气体供给管(81、82、83、84)设置在处理槽(34)内。一个气体供给管(81)的喷出口(81a)与相邻的其它气体供给管(82)的喷出口(82a)在与基板(8)的电路形成面平行的方向上不重叠。

A substrate liquid treatment device, a substrate liquid treatment method, and a storage medium

The invention provides a substrate liquid treatment device, a substrate liquid processing method and a storage medium. The substrate liquid treatment device can form a homogeneous N2 gas bubble in the processing liquid in the processing tank. The substrate liquid treatment device (1) has: processing tank (34), its storage substrate (8), and multiple gas supply pipes (81, 82, 83, 84), and the multiple gas supply tubes (81, 82, 83, 84) are disposed in the treatment tank. The ejection port (81a) of a gas supply pipe (81) and the ejection port (82a) of the adjacent other gas supply pipes (82) do not overlap in the direction parallel to the circuit forming plane of the substrate (8).

【技术实现步骤摘要】
基板液处理装置、基板液处理方法以及存储介质
本专利技术涉及一种使多个基板以排列的状态浸在处理液中来进行液处理的基板液处理装置、基板液处理方法以及存储介质。
技术介绍
在制造半导体器件、平板显示器等时，使用基板液处理装置利用清洗液、蚀刻液等处理液对半导体晶圆、液晶基板等基板实施各种液处理。例如，在专利文献1所公开的基板液处理装置中，在处理槽的底部设置两根处理液供给管，从处理液供给管向处理槽的内部供给处理液。在该基板液处理装置中，多个基板以垂直地立起的姿势且在水平方向上隔开间隔地进行排列的状态浸在贮存有处理液的处理槽中。处理液供给管朝向与基板正交的方向延伸，隔开规定的间隔地朝向基板设置有用于喷出处理液的开口。开口形成为具有圆形开口的贯通孔。两根处理液供给管各自的开口朝向基板的中央侧地向内侧斜上方倾斜。而且，在基板液处理装置中，通过从两根处理液供给管的喷出口朝向基板的中央喷出处理液，来在处理槽的内部形成沿着基板的表面流动的处理液的上升流，利用上升的处理液对基板的表面进行液处理。在该情况下，从处理液供给管向处理槽内供给的处理液被预先加热，以沸腾的状态被供给，通过使处理液沸腾，在处理液中产生气本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板液处理装置，其特征在于，具备：处理槽，其用于收纳含有磷酸水溶液的处理液和以垂直姿势配置的多个基板，并且使用所述处理液对所述基板进行处理；处理液供给管，其向所述处理槽内供给所述处理液；以及多个气体供给管，所述多个气体供给管设置于所述处理槽，用于向所述处理液供给气体来形成气泡，其中，各气体供给管设置在所述基板的下方，并且沿与所述基板的电路形成面正交的水平方向延伸，各气体供给管在一侧具有开口的多个喷出口，一个气体供给管的喷出口与同该气体供给管相邻的其它气体供给管的喷出口在与所述基板的电路形成面平行的方向上不重叠而进行交错配置。

【技术特征摘要】
2016.07.22 JP 2016-1447811.一种基板液处理装置，其特征在于，具备：处理槽，其用于收纳含有磷酸水溶液的处理液和以垂直姿势配置的多个基板，并且使用所述处理液对所述基板进行处理；处理液供给管，其向所述处理槽内供给所述处理液；以及多个气体供给管，所述多个气体供给管设置于所述处理槽，用于向所述处理液供给气体来形成气泡，其中，各气体供给管设置在所述基板的下方，并且沿与所述基板的电路形成面正交的水平方向延伸，各气体供给管在一侧具有开口的多个喷出口，一个气体供给管的喷出口与同该气体供给管相邻的其它气体供给管的喷出口在与所述基板的电路形成面平行的方向上不重叠而进行交错配置。2.根据权利要求1所述的基板液处理装置，其特征在于，多个基板以规定的配置间距进行配置，各气体供给管的喷出口以基板的配置间距的2以上的整数倍的配置间距形成。3.根据权利要求2所述的基板液处理装置，其特征在于，各气体供给管的喷出口配置在各基板间的中间位置。4.根据权利要求1至3中的任一项所述的基板液处理装置，其特征在于，在一个气体供给管中流动的气体的流动方向朝向与在相邻的其它气体供给管中流动的气体的流动方向相反的方向。5.根据权利要求1至4中的任一项所述的基板液处理装置，其特征在于，一个气体供给管与相邻的其它气体供给管彼此独立地被进行流量调整。6.根据权利要求5所述的基板液处理装置，其特征在于，一个气体供给管和相邻的其它气体供给管分别从上游侧朝向下游侧被划分成多个区域，各区域独立地被进行流量调整。7.一种使用基板液处理装置的基板液处理方法，所述基板液处理装置具备：处理槽，其用于收纳含有磷酸...

【专利技术属性】
技术研发人员：益富裕之，盐川俊行，田中幸二，佐藤尊三，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP