触摸传感器的制造方法技术

本发明专利技术提供一种触摸传感器的制造方法，其能够在基材薄膜的两面同时加工路由电路图案，且在表面与背面的路由电路图案的对位精度上优异。一种触摸传感器的制造方法，使用具备支承膜、设置在该支承膜上且含有导电性纤维的导电层、和设置在该导电层上的第二感光性树脂层的感光性导电薄膜，进行两面同时曝光及显影，在基材薄膜的两面形成电极图案，所述触摸传感器的制造方法的特征在于，预先在基材薄膜的两面形成有对遮光性金属层进行图案化的路由电路图案。

The manufacturing method of touch sensor

The invention provides a touch sensor manufacturing method, which can simultaneously process the routing circuit pattern on both sides of the substrate film, and has excellent alignment accuracy on the surface and the back side of the routing circuit pattern. A method for manufacturing a touch sensor, using a support film, set in the support membrane and containing conductive fiber conductive layer, and second photosensitive resin layer is arranged on the conductive layer on the photosensitive conductive film on both sides at the same time exposing and developing electrode pattern formed on both sides of the substrate of the thin film. The manufacturing method is characterized in that the touch sensor, a pre routing circuit pattern of patterning shading metal layer formed on both sides of a base film.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】触摸传感器的制造方法
本专利技术涉及具备基材薄膜、电极和路由配线的触摸传感器的制造方法。
技术介绍
在多功能移动电话(智能手机)、多功能移动终端(平板)、汽车导航、便携式游戏机、电子辞典等小型电子设备、OA/FA设备等显示设置中，显示屏幕上具备静电电容式触摸传感器，能够在屏幕上输入的设备得到普及化。在这样的触摸传感器中，透明导电膜被使用于要求透明的电极中。自以往以来，对于可见光表现出高透射率的ITO(铟锡氧化物)、氧化铟及氧化锡等作为透明导电膜的材料而被使用。在触摸传感器的电极中，对由上述材料构成的透明导电膜进行了图案化已成为主流。作为透明导电膜的图案形成方法，一般采用在形成透明导电膜后，通过光刻法形成抗蚀图案，通过湿蚀刻除去导电膜的预定部分而形成导电图案的方法。在ITO及氧化铟膜的情况下，蚀刻液一般使用由盐酸及氯化铁两种溶液组成的混合液。ITO膜及氧化锡膜一般通过溅射法而形成。但是，该方法根据溅射方式的差异、溅射功率、气体压力、基材薄膜温度、保护气体的种类等，透明导电膜的性质容易改变。由溅射条件的变化引起的透明导电膜的膜质的差异，成为对透明导电膜进行湿蚀刻时蚀刻速度波动的原因，容易本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种触摸传感器的形成方法，包括：在具有UV阻断性能的基材薄膜的两面形成遮光性金属层，在所述遮光性金属层上分别形成第一感光性树脂层的工序；经由两面不同的图案掩膜，对所述遮光性金属层上的所述第一感光性树脂层照射UV光的曝光工序；通过对所曝光的所述第一感光性树脂层进行显影，从而形成抗蚀图案的工序；通过除去未被所述抗蚀图案覆盖的部分的所述遮光性金属层，从而形成路由电路图案的蚀刻工序；至少在连接部剥离除去覆盖所述路由电路图案的所述第一感光性树脂层的工序；层压具备支承膜、设置在所述支承膜上且含有导电性纤维的导电层、和设置在所述导电层上的第二感光性树脂层的感光性导电薄膜，以便所述第二感光性树脂层紧贴于所述基...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.05.29 JP 2015-1108241.一种触摸传感器的形成方法，包括：在具有UV阻断性能的基材薄膜的两面形成遮光性金属层，在所述遮光性金属层上分别形成第一感光性树脂层的工序；经由两面不同的图案掩膜，对所述遮光性金属层上的所述第一感光性树脂层照射UV光的曝光工序；通过对所曝光的所述第一感光性树脂层进行显影，从而形成抗蚀图案的工序；通过除去未被所述抗蚀图案覆盖的部分的所述遮光性金属层，从而形成路由电路图案的蚀刻工序；至少在连接部剥离除去覆盖所述路由电路图案的所述第一感光性树脂层的工序；层压具备支承膜、设置在所述支承膜上且含有导电性纤维的导电层、和设置在所述导电层上的第二感光性树脂层的感光性导电薄膜，以便所述第二感光性树脂层紧贴于所述基材薄膜的形成有所述路由电路图案的两面的工序；经由两面不同的图案掩膜，对层压在所述基材薄膜的两面的所述感光性导电薄膜的所述第二感光性树脂层照射UV光的曝光工序；以及通过对所曝光的所述第二感光性树脂层进行显影，将层叠于所述第二感光性树脂层被除去的部分的所述导电层也一起除去，从而形成与所述路由电路图案电连接的电极图案的显影工序。2.根据权利要求1所述的触摸传感器的形成方法，其中，所述第二感光性树脂层的厚度为1μm至2μm。3.一种触摸传感器的形成方法，包括：在具有UV阻断性能的基材薄膜的两面形成遮光性金属层，在所述遮光性金属层上分别形成第一感光性树脂层的工序；经由两面不同的图案掩膜，对所述遮光性金属层上的所述第一感光性树脂层照射UV光的曝光工序；通过对所曝光的所述第一感光性树脂层进行显影，从而形成抗蚀图案的工...

【专利技术属性】
技术研发人员：面了明，桥本孝夫，西村刚，
申请(专利权)人：NISSHA株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP