新型硅氧烷聚合物组合物及其用途制造技术

本发明专利技术涉及硅氧烷聚合物组合物。本发明专利技术尤其涉及具有适合用于光刻制造方法中的性能的硅氧烷聚合物组合物。本发明专利技术还涉及该类组合物的合成、聚合和交联。

New siloxane polymer composition and its use

The present invention relates to a siloxane polymer composition. In particular, the present invention relates to a siloxane polymer composition suitable for performance in a photolithography manufacturing method. The invention also relates to the synthesis, polymerization and crosslinking of the composition.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】新型硅氧烷聚合物组合物及其用途领域本专利技术涉及硅氧烷聚合物组合物。本专利技术尤其涉及具有适合用于光刻制造方法中的性能的硅氧烷聚合物组合物。本专利技术还涉及该类组合物的合成、聚合和交联。背景显示器件和半导体器件由施加在基材上的多个涂层和图案化层或在该器件中提供特定功能的其他涂层构成。涂层通常通过溅射、化学气相沉积、电子束和其他物理气相沉积技术沉积或者涂层使用许多不同液相涂敷方法由液相沉积。这些层通常光刻法和湿或干蚀刻或其他消减或加添方法进行图案化步骤以在基材上产生最终所需涂层、图案和结构。液相材料通常通过光刻方法直接图案化或者通过其他加添图案化技术图案化。液相沉积涂层通常热固化或通过组合的UV和热处理固化。在运行物理气相沉积方法时，涂层(和基材)在涂敷方法过程中经受升高的温度。此外，当制造多层堆叠体时，基材和涂层在该制造方法过程中经历多重热循环且暴露于各种化学蚀刻溶液。涂层必须对侵蚀性蚀刻溶液具有足够的化学耐性，提供良好的热和环境稳定性、非泛黄特性和高光学质量。此外，涂层必须就附着而言具有良好的相容性且必须具有足够硬度。制造商在器件水平上不断向更高整合推进并设计越来越高级的物理尺寸和形本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种生产硅氧烷聚合物组合物的方法，该方法包括如下步骤：(a)将至少四种不同的硅烷单体和至少一种二硅烷混入第一溶剂中而形成混合物，条件是所述硅烷单体中的至少一种或所述二硅烷包含能够实现与所述硅氧烷聚合物组合物的相邻硅氧烷聚合物链的交联的活性基团；(b)对所述混合物进行酸处理，从而至少部分水解硅烷单体，并且水解的硅烷单体、硅烷单体和所述二硅烷至少部分聚合和交联；(c)任选将第一溶剂改变为第二溶剂；以及(d)使所述混合物经历硅氧烷聚合物的进一步交联，实现预定的交联度。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.03.17 FI 20155186;2015.03.17 US 62/134,0321.一种生产硅氧烷聚合物组合物的方法，该方法包括如下步骤：(a)将至少四种不同的硅烷单体和至少一种二硅烷混入第一溶剂中而形成混合物，条件是所述硅烷单体中的至少一种或所述二硅烷包含能够实现与所述硅氧烷聚合物组合物的相邻硅氧烷聚合物链的交联的活性基团；(b)对所述混合物进行酸处理，从而至少部分水解硅烷单体，并且水解的硅烷单体、硅烷单体和所述二硅烷至少部分聚合和交联；(c)任选将第一溶剂改变为第二溶剂；以及(d)使所述混合物经历硅氧烷聚合物的进一步交联，实现预定的交联度。2.根据权利要求1的方法，其中所述活性基团选自环氧基、乙烯基、烯丙基和甲基丙烯酸酯基团。3.根据权利要求1或2的方法，其中基于单体的摩尔比例，0.1-70％，优选0.5-50％，尤其是1-40％的硅烷单体包含所述活性基团。4.根据权利要求1-3中任一项的方法，其中所述第一溶剂选自丙酮、甲基乙基酮、甲基异丁基酮或1-甲氧基-2-丙醇及其混合物。5.根据权利要求1-4中任一项的方法，其中所述第二溶剂选自1-甲氧基-2-丙醇、PGMEA、甲基乙基酮或PnP或甲基异丁基酮、环戊酮及其混合物。6.根据权利要求1-5中任一项的方法，其中所述至少四种硅烷单体选自下式的分子：R1aSiX4-aIR2bSiX4-bII，R3cSiX4-cIII，和R4dSiX4-dIV其中其中R1、R2、R3和R4独立地选自氢以及包括线性和支化烷基、环烷基、链烯基、炔基、(烷基)丙烯酸酯、环氧基、烯丙基、乙烯基、烷氧基和具有1-6个环的芳基的基团，并且其中所述基团被取代或未被取代；X为可水解基团或烃残基；以及a、b、c和d独立地为整数1-3。7.根据权利要求6的方法，其中烷氧基选自具有下式的基团：-O-R5V其中R5为具有1-10个，优选1-6个碳原子的线性或支化烷基且具有1或2个选自卤素、羟基、乙烯基、环氧基和烯丙基的取代基。8.根据权利要求1-7中任一项的方法，其中所述至少一种二硅烷选自下式的分子：(R6)3Si-Y-Si(R7)3，VI其中R6和R7独立地选自氢以及如下组的基团：线性或支化烷基、环烷基、链烯基、炔基、(烷基)丙烯酸酯、环氧基、烯丙基、乙烯基、烷氧基和具有1-6个环的芳基，并且其中所述基团被取代或未被取代；以及Y为选自二价未被取代或被取代脂族和芳族基团的连接基团，如亚烷基、亚芳基、-O-亚烷基-O-、-O-亚芳基-O-、亚烷基-O-亚烷基、亚芳基-O-亚芳基、亚烷基-Z1C(＝O)Z2-亚烷基、亚芳基-Z1C(＝O)Z2-亚芳基和-O-亚烷基-Z1(＝O)Z2-亚烷基-O-、-O-亚芳基-Z1(＝O)Z2-亚芳基-O-，其中Z1和Z2各自选自直接键或-O-。9.根据权利要求1-8中任一项的方法，其中所述至少四种硅烷单体选自三乙氧基硅烷、四乙氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷、乙基三乙氧基硅烷、正丁基三乙氧基硅烷、甲基二乙氧基乙烯基硅烷、二甲基二乙氧基硅烷、苯基三甲氧基硅烷、菲-9-三乙氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、3-缩水甘油氧丙基三甲氧基硅烷、氨基丙基三甲氧基硅烷、甲基丙烯酰氧丙基三甲氧基硅烷、甲基丙烯酰氧丙基三乙氧基硅烷、丙烯酰氧丙基三甲氧基硅烷、烯丙基三甲氧基硅烷、环氧环己基乙基三甲氧基硅烷、二苯基硅烷二醇，1,2-二(三甲氧基甲硅烷基)甲烷、1,2-二(三甲氧基甲硅烷基)乙烷、甲基丙烯酸缩水甘油基酯、二甲基二甲氧基硅烷、1-(2-(三甲氧基甲硅烷基)乙基)环己烷-3,4-环氧化物、1,2-二(三乙氧基甲硅烷基)乙烷、1H,1H,2H,2H-全氟癸基三甲氧基硅烷、三甲氧基(3,3,3-三氟丙基)硅烷、1,2-二(三甲氧基甲硅...

【专利技术属性】
技术研发人员：A·凯尔凯宁，M·汉努库雷，A·哈季奇，J·莱沃，H·耶尔维塔洛，RL·库瓦亚，G·戈登，M·佩索宁，
申请(专利权)人：巴斯夫欧洲公司，
类型：发明
国别省市：德国,DE