作为除草剂的2‑(苯氧基或苯硫基)嘧啶衍生物制造技术

披露了具有化学式(1)的化合物，包括其所有立体异构体、N‑氧化物和盐，

As the 2 herbicides (phenoxy or phenylthio) pyrimidine derivatives

The disclosure has the chemical formula (1) compounds, including all of its stereoisomers, N oxides and salts,

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】作为除草剂的2-(苯氧基或苯硫基)嘧啶衍生物
本专利技术涉及某些嘧啶氧基苯衍生物，其N-氧化物、盐和组合物，以及其用于控制不希望植被的方法。
技术介绍
控制不希望植被在实现高作物效率中是极其重要的。实现对杂草生长的选择性控制，尤其是在此类有用的作物尤其如稻、大豆、甜菜、玉蜀黍、马铃薯、小麦、大麦、番茄和种植园作物中是非常期望的。在此类有用的作物中的未加抑制的杂草生长可造成产量的显著下降，并且从而导致消费者成本增加。在非作物区域中对不希望植被的控制也是重要的。为了这些目的，许多产品是可商购的，但持续需要更有效、较低成本、较低毒性、对环境更安全或具有不同的作用位点的新型化合物。
技术实现思路
本专利技术针对具有化学式1的化合物(包括所有几何异构体和立体异构体)、其N-氧化物和盐，包含它们的农业组合物，以及它们作为除草剂的用途：其中A是B是O或S；R1是H、C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C1-C6卤代烷基、C2-C6卤代烯基、C2-C6卤代炔基、C3-C6环烷基、C3-C6卤代环烷基、C3-C6卤代环烷基烷基、C4-C8烷基环烷基、C4-C8环烷基烷基、C1-C6烷基氨基、C1-C6卤代烷基氨基、C2-C10二烷基氨基、C2-C10卤代二烷基氨基、C3-C6环氨基、C1-C6烷氧基、C3-C6烯氧基、C3-C6炔氧基、C1-C6卤代烷氧基、C3-C6卤代烯氧基、C3-C6卤代炔氧基、C3-C6环烷氧基、C3-C6卤代环烷氧基、C4-C8环烷基烷氧基、C4-C8卤代环烷基烷氧基、C2-C6烷氧基烷基、C2-C6卤代烷氧基烷基、C2-C6烷氧基卤代烷基、C2-C6烷氧基烷氧基、C2-C6氰基烷基、C2-C6氰基烷氧基、C3-C7氰基烷氧基烷基、C1-C6羟基烷基、C1-C6硝基烷基、C1-C6烷硫基、C1-C6卤代烷硫基、C3-C8环烷硫基、C1-C6烯基硫基、C1-C6烷基亚磺酰基、C1-C6卤代烷基亚磺酰基、C1-C6烷基磺酰基、C1-C6卤代烷基磺酰基、C3-C8环烷基磺酰基、C2-C6烷硫基烷基、C2-C6卤代烷硫基烷基、苄基、-N(R7)(OR8)、-ON(R9a)(R9b)或-N(R7)N(R9a)(R9b)；Z是O或S；R2是卤素、氰基、硝基、C1-C6烷氧基、C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C1-C6卤代烷基、C3-C6环烷基或-SOnR10；每个R3独立地是卤素、氰基、硝基、CHO、C(＝O)NH2、(＝S)NH2、SO2NH2、C1-C4烷基、C2-C4烯基、C2-C4炔基、C1-C4卤代烷基、C2-C4卤代烯基、C2-C4卤代炔基、C3-C6环烷基、C3-C6卤代环烷基、C4-C8烷基环烷基、C4-C8环烷基烷基、C2-C6烷基羰基、C2-C6卤代烷基羰基、C2-C6烷氧基羰基、C3-C7环烷基羰基、C2-C4烷氧基、C3-C4烯氧基、C3-C4炔氧基、C1-C4卤代烷氧基、C3-C6环烷氧基、C3-C6卤代环烷氧基、C4-C8环烷基烷氧基、C2-C6烷氧基烷基、C2-C6卤代烷氧基烷基、C2-C6烷氧基卤代烷基、C2-C6烷氧基烷氧基、C2-C4烷基羰基氧基、C2-C6氰基烷基、C2-C6氰基烷氧基、C2-C4烷硫基烷基、-C(＝O)N(R11a)(R11b)、-C(＝NOR12)H、-C(＝N(R13))H或-SOnR14；m是0、1、2或3；每个n独立地是0、1或2；R4是H、C1-C6烷基或C1-C6卤代烷基；R5是H、C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C1-C6卤代烷基、C2-C6卤代烯基、C2-C6卤代炔基、C3-C6环烷基、C3-C6卤代环烷基、C4-C8烷基环烷基、C4-C8环烷基烷基、C2-C6烷氧基烷基、C2-C6卤代烷氧基烷基、C2-C6烷氧基卤代烷基、C2-C6氰基烷基、C3-C7氰基烷氧基烷基、C1-C6羟基烷基、C1-C6硝基烷基、C2-C6烷硫基烷基、C2-C6卤代烷硫基烷基或苄基；每个R6a和R6b独立地是H、C1-C6烷基或C1-C6卤代烷基；R7是H、C1-C6烷基或C1-C6卤代烷基；R8是H、C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基、C2-C6烷氧基烷基、C2-C6卤代烷氧基烷基或C2-C6氰基烷基；每个R9a和R9b独立地是H、C1-C6烷基或C1-C6卤代烷基；R10独立地是C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基、C1-C6烷基氨基或C2-C10二烷基氨基；每个R11a独立地是C1-C4烷基或C1-C4卤代烷基；每个R11b独立地是H、C1-C4烷基或C1-C4卤代烷基；每个R12独立地是H或C1-C4烷基；每个R13独立地是H、氨基、C1-C4烷基或C1-C4烷基氨基；每个R14独立地是C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基、C1-C6烷基氨基或C2-C10二烷基氨基；并且R15是H或C1-C6烷基；其条件是(i)当A是A-1时，那么R1不是H、C1-C6烷基或C2-C6烯基；(ii)当A是A-6时，那么R1不是C1-C6烷基磺酰基；(iii)当A是A-1，R2是Cl并且R3是3-Br时，那么R1不是C2烷硫基、C2烷基亚磺酰基或C2烷基磺酰基；并且(iv)具有化学式1的化合物不是甲基2-[(5-氯-2-嘧啶基)氧基]苯甲酸盐(CAS登记号：854215-38-6)、甲基2-[(5-溴-2-嘧啶基)氧基]苯甲酸盐(CAS登记号：1086397-52-5)、1-[2-[(5-溴-2-嘧啶基)氧基]苯基]-乙酮(CAS登记号：1147704-06-0)和2-[(5-溴-2-嘧啶基)氧基]-苯乙腈(CAS登记号：138193-83-6)。更具体地，本专利技术涉及具有化学式1的化合物(包括所有立体异构体)、其N-氧化物或盐。本专利技术还涉及包含本专利技术化合物(即以除草有效量)和选自表面活性剂、固体稀释剂和液体稀释剂的组的至少一种组分的除草组合物。本专利技术还涉及一种用于控制不希望植被的生长的方法，该方法包括使植被或其环境与除草有效量的本专利技术的化合物(例如，作为在此所述的组合物)接触。本专利技术还包括一种除草混合物，该除草混合物包含(a)选自化学式1、其N-氧化物和盐的化合物，以及(b)至少一种选自如下所述的(b1)至(b16)、和(b1)至(b16)的化合物的盐的附加活性成分。专利技术详述如在此所用，术语“包含”、“包含着”、“包括”、“包括着”、“具有”、“具有着”、“含有”、“含有着”、“特征在于”或其任何其他变型旨在覆盖非排他性的包括，以任何明确指明的限定为条件。例如，包含一系列元素的组合物、混合物、工艺或方法不必仅限于那些元素，而是可以包括未明确列出的其它元素，或此类组合物、混合物、工艺或方法的其它固有元素。连接短语“由……组成”排除任何未指出的元素、步骤或成分。如果在权利要求中，则此类短语将使权利要求为封闭式，使其不包含除那些描述的材料以外的材料，但与其相关的常规杂质除外。当短语“由……组成”出现在权利要求的主体的子句中，而非紧接前序部分时，其仅限制在该子句中提到的元素；其他元素不作为整体从权利要求中被排除。连接短语“基本上由……组成”用于限定组合物或方法，所述组合物或方法除了字面公开的那些以外，还包括物质、步骤、部件、组分或元本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种化合物，该化合物选自化学式1、其N‑氧化物和盐，

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.06.05 US 62/171,2941.一种化合物，该化合物选自化学式1、其N-氧化物和盐，其中A是B是O或S；R1是H、C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C1-C6卤代烷基、C2-C6卤代烯基、C2-C6卤代炔基、C3-C6环烷基、C3-C6卤代环烷基、C3-C6卤代环烷基烷基、C4-C8烷基环烷基、C4-C8环烷基烷基、C1-C6烷基氨基、C1-C6卤代烷基氨基、C2-C10二烷基氨基、C2-C10卤代二烷基氨基、C3-C6环氨基、C1-C6烷氧基、C3-C6烯氧基、C3-C6炔氧基、C1-C6卤代烷氧基、C3-C6卤代烯氧基、C3-C6卤代炔氧基、C3-C6环烷氧基、C3-C6卤代环烷氧基、C4-C8环烷基烷氧基、C4-C8卤代环烷基烷氧基、C2-C6烷氧基烷基、C2-C6卤代烷氧基烷基、C2-C6烷氧基卤代烷基、C2-C6烷氧基烷氧基、C2-C6氰基烷基、C2-C6氰基烷氧基、C3-C7氰基烷氧基烷基、C1-C6羟基烷基、C1-C6硝基烷基、C1-C6烷硫基、C1-C6卤代烷硫基、C3-C8环烷硫基、C1-C6烯基硫基、C1-C6烷基亚磺酰基、C1-C6卤代烷基亚磺酰基、C1-C6烷基磺酰基、C1-C6卤代烷基磺酰基、C3-C8环烷基磺酰基、C2-C6烷硫基烷基、C2-C6卤代烷硫基烷基、苄基、-N(R7)OR8、-ON(R9a)(R9b)或-N(R7)N(R9a)(R9b)；Z是O或S；R2是卤素、氰基、硝基、C1-C6烷氧基、C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C1-C6卤代烷基、C3-C6环烷基或-SOnR10；每个R3独立地是卤素、氰基、硝基、CHO、C(＝O)NH2、(＝S)NH2、SO2NH2、C1-C4烷基、C2-C4烯基、C2-C4炔基、C1-C4卤代烷基、C2-C4卤代烯基、C2-C4卤代炔基、C3-C6环烷基、C3-C6卤代环烷基、C4-C8烷基环烷基、C4-C8环烷基烷基、C2-C6烷基羰基、C2-C6卤代烷基羰基、C2-C6烷氧基羰基、C3-C7环烷基羰基、C2-C4烷氧基、C3-C4烯氧基、C3-C4炔氧基、C1-C4卤代烷氧基、C3-C6环烷氧基、C3-C6卤代环烷氧基、C4-C8环烷基烷氧基、C2-C6烷氧基烷基、C2-C6卤代烷氧基烷基、C2-C6烷氧基卤代烷基、C2-C6烷氧基烷氧基、C2-C4烷基羰基氧基、C2-C6氰基烷基、C2-C6氰基烷氧基、C2-C4烷硫基烷基、-C(＝O)N(R11a)(R11b)、-C(＝NOR12)H、-C(＝N(R13))H或-SOnR14；m是0、1、2或3；每个n独立地是0、1或2；R4是H、C1-C6烷基或C1-C6卤代烷基；R5是H、C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C1-C6卤代烷基、C2-C6卤代烯基、C2-C6卤代炔基、C3-C6环烷基、C3-C6卤代环烷基、C4-C8烷基环烷基、C4-C8环烷基烷基、C2-C6烷氧基烷基、C2-C6卤代烷氧基烷基、C2-C6烷氧基卤代烷基、C2-C6氰基烷基、C3-C7氰基烷氧基烷基、C1-C6羟基烷基、C1-C6硝基烷基、C2-C6烷硫基烷基、C2-C6卤代烷硫基烷基或苄基；每个R6a和R6b独立地是H、C1-C6烷基或C1-C6卤代烷基；R7是H、C1-C6烷基或C1-C6卤代烷基；R8是H、C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基、C2-C6烷氧基烷基、C2-C6卤代烷氧基烷基或C2-C6氰基烷基；每个R9a和R9b独立地是H、C1-C6烷基或C1-C6卤代烷基；R10独立地是C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基、C1-C6烷基氨基或C2-C10二烷基氨基；每个R11a独立地是C1-C4烷基或C1-C4卤代烷基；每个R11b独立地是H、C1-C4烷基或C1-C4卤代烷基；每个R12独立地是H或C1-C4烷基；每个R13独立地是H、氨基、C1-C4烷基或C1-C4烷基氨基；每个R14独立地是C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基、C1-C6烷基氨基或C2-C10二烷基氨基；并且R15是H或C1-C6烷基；其条件是(i)当A是A-1时，那么R1不是H、C1-C6烷基或C2-C6烯基；(ii)当A是A-6时，那么R1不是C1-C6烷基磺酰基；(iii)当A是A-1，R2是Cl并且R3是3-Br时，那么R1不是C2烷硫基、C2烷基亚磺酰基或C2烷基磺酰基；并且(iv)具有化学式1的化合物不是甲基2-[(5-氯-2-嘧啶基)氧基]苯甲酸盐、甲基2-[(5-溴-2-嘧啶基)氧基]苯甲酸盐、1-[2-[(5-溴-2-嘧啶基)氧基]苯基]-乙酮和2-[(5-溴-2-嘧啶基)氧基]-苯乙腈。2.如权利要求1所述的化合物，其中A是A-1、A-2、A-3或A-5；R1是C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C1-C6卤代烷基、C2-C6卤代烯基、C2-C6卤代炔基、C3-C6环烷基、C3-C6卤代环烷基、C3-C6卤代环烷基烷基、C4-C8烷基环烷基、C4-C8环烷基烷基、C1-C6烷基氨基、C1-C6卤代烷基氨基、C2-C10二烷基氨基、C2-C10卤代二烷基氨基、C1-C6烷氧基、C3-C6烯氧基、C3-C6炔氧基、C1-C6卤代烷氧基、C3-C6卤代烯氧基、C3-C6卤代炔氧基、C3-C6环烷氧基、C3-C6卤代环烷氧基、C4-C8环烷基烷氧基、C4-C8卤代环烷基烷氧基、C2-C6烷氧基烷基、C2-C6卤代烷氧基烷基、C2-C6烷氧基卤代烷基、C2-C6烷氧基烷氧基、C2-C6氰基烷基、C2-C6氰基烷氧基、C3-C7氰基烷氧基烷基、C1-C6羟基烷基、C1-C6硝基烷基、C1-C6烷硫基、C1-C6卤代烷硫基、C3-C8环烷硫基、C1-C6烯硫基、C1-C6烷基亚磺酰基、C1-C6卤代烷基亚磺酰基、C1-C6烷基磺酰基、C1-C6卤代烷基磺酰基、C3-C8环烷基磺酰基、C2-C6烷硫基烷基或C2-C6卤代烷硫基烷基；R2是卤素、C1-C4烷基或C1-C4卤代烷基；每个R3独立地是卤素、氰基、CHO、C1-C4烷基、C2-C4烯基、C2-C4炔基、C1-C4卤代烷基、C2-C4卤代烯基、C2-C4卤代炔基、C3-C6环烷基、C3-C6卤代环烷基、C4-C8烷基环烷基、C2-C6烷基羰基、C2-C6卤代烷基羰基、C2-C6烷氧基羰基、C1-C4烷氧基、C3-C4烯氧基、C3-C4炔氧基、C1-C4卤代烷氧基、C3-C4卤代烯氧基、C3-C4卤代炔氧基、C3-C6环烷氧基、C3-C6卤代环烷氧基、C2-C6烷氧基烷基、C2-C6卤代烷氧基烷基、C2-C4烷基羰基氧基、C2-C6氰基烷基、-C(＝O)N(R11aR11b)、-C(＝NOR12)H或-SOnR14；R5是H、C1-C6烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、C1-C6卤代烷基、C2-C6卤代烯基、C2-C6卤代炔基、C2-C6烷氧基烷基、C2-C6卤代烷氧基烷基、C2-C6氰基烷基、C3-C7氰基烷氧基烷基、C2-C6烷硫基烷基或C2-C6卤代烷硫基烷基；R11a是C1-C2烷基C1-C2卤代烷基；R11b是C1-C2烷基或C1-C2卤代烷基；R12是H或C1-C3烷基；并且R14是C1-C3烷基或C1-C3卤代烷基。3.如权...

【专利技术属性】
技术研发人员：N·R·德普雷，P·L·夏普，R·P·雷迪，J·R·德贝格，
申请(专利权)人：杜邦公司，
类型：发明
国别省市：美国,US