一种用于光检测的共面的光源‑狭缝装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及吸收型成像光谱仪技术领域，具体地说是一种用于光检测的共面的光源‑狭缝装置，其特征在于：所述的狭缝纵向布置在遮光壁的前半侧，且遮光壁的后半侧设有与狭缝贯通的、容纳激光器外壳用的固定孔，狭缝两侧的遮光壁上分别对称设有排成一列的若干个嵌槽，每个嵌槽开口于遮光壁的前面并沿遮光壁的前后方向设置，每个嵌槽内嵌设有光源装置，且光源装置前端的发光面与嵌槽的端口之间设有后缩间距。本实用新型专利技术同现有技术相比，光源装置的发光面后缩于遮光壁的前侧面，狭缝只接受样品的反射光通过；大大减小了样品的反射光束与狭缝之间的偏角。

A light source for coplanar optical detection of slit device

The utility model relates to the technical field of an absorption type imaging spectrometer, in particular to a light source for slit light detection device coplanar, which is characterized in that the slit longitudinally arranged at the front half side wall shading, shading and the second side wall is provided with a fixed hole and slit through the laser shell, hold the light shielding wall on both sides of the slot are respectively and symmetrically provided with a plurality of inserting grooves arranged in a column direction of each block set, before and after the front wall of slot opening to the shading and along the shading wall, each block is embedded in the groove is provided with a light source device and light-emitting surface light source device and the front end of the port is provided with a caulking groove spacing after shrinkage. Compared with the existing technology, the luminous surface of the light source device is reduced to the front side of the shielding wall, and the slit only accepts the reflected light of the sample, which greatly reduces the deflection angle between the reflected beam and the slit of the sample.

【技术实现步骤摘要】
一种用于光检测的共面的光源-狭缝装置
本技术涉及吸收型成像光谱仪
，具体地说是一种用于光检测的共面的光源-狭缝装置。
技术介绍
光源与狭缝都是吸收型成像光谱仪的核心组件。根据光源、狭缝与待测样品的相对位置，吸收型成像光谱仪可以分为透射式与反射式两大类。其中，反射式体积小、使用方便，在移动终端应用方面具有巨大的潜力。但传统的反射式吸收型成像光谱仪的光源与狭缝往往非共面，使样品的反射光束与狭缝存在一个偏角，这不仅造成光谱仪的光路变得复杂、稳定性变差、体积变大，并且还使得光谱仪光通量变小、测量精度下降。
技术实现思路
本技术的目的是克服现有技术的不足，提供一种可以减少反射光速与狭缝偏角的光源-狭缝共面的装置。为实现上述目的，设计一种用于光检测的共面的光源-狭缝装置，包括狭缝、光源、遮光壁，其特征在于：所述的狭缝纵向布置在遮光壁的前半侧，且遮光壁的后半侧设有与狭缝贯通的、容纳激光器外壳用的固定孔，狭缝两侧的遮光壁上分别对称设有排成一列的若干个嵌槽，每个嵌槽开口于遮光壁的前面并沿遮光壁的前后方向设置，每个嵌槽内嵌设有光源装置，且光源装置前端的发光面与嵌槽的前侧的端口之间设有后缩间距。所述的后缩间距h1＝40～60μm。所述的狭缝与光源装置之间的垂直距离h2＝150～300μm。上下相邻的所述嵌槽之间的间距h3为100～200μm。所述的狭缝的宽度为1mm。所述的光源装置采用LED灯。本技术同现有技术相比，一方面光源装置的发光面后缩于遮光壁的前侧面，从而使光源装置的发光面不超过狭缝的前端面，所以光源装置发出的光不能直接透过狭缝，狭缝只接受样品的反射光通过；另一方面，由于光源装置尽可能与狭缝相邻并以对称形式分布在狭缝周围，光源装置发出的光束与光源-狭缝平面垂直，因而待测样品的反射光束也可与光源-狭缝平面垂直，大大减小了样品的反射光束与狭缝之间的偏角。附图说明图1为本技术的主视图。图2为本技术的后视图。图3为图1所示的A-A剖示图。图4为本技术在使用中光线的漫反射示意图。具体实施方式现结合附图及实施例对本技术作进一步地说明。实施例1参见图1和图2，本技术一种用于光检测的共面的光源-狭缝装置，包括狭缝、光源、遮光壁，其特征在于：所述的狭缝1纵向布置在遮光壁2的前半侧，且遮光壁2的后半侧设有与狭缝1贯通的、容纳激光器外壳用的固定孔11，狭缝1两侧的遮光壁2上分别对称设有排成一列的若干个嵌槽4，每个嵌槽4开口于遮光壁2的前面并沿遮光壁2的前后方向设置，每个嵌槽4内嵌设有光源装置3，且光源装置3前端的发光面与嵌槽4的前侧的端口之间设有后缩间距。本技术能同时起到两个主要作用。第一，参见图4，光源装置3发出的光叠加后入射到位于光源装置3的发光面前侧的待测样品5上，由于光源装置3对称分布在狭缝1的两侧，那么经叠加后的入射光束的主轴将与狭缝1垂直，入射到待测样品5后的反射光束的主轴也将与狭缝1垂直；第二，参见图3，由于各个光源装置3的前端面不超过遮光壁2的前侧面，也即光源装置3的前端面凹陷式的设置在嵌槽4内，所以光源装置3发出的光不能直接透过狭缝1，只能入射到待测样品5后以反射光通过狭缝1，大大减小了样品的反射光束与狭缝之间的偏角。进一步的，所述的后缩间距h1＝40～60μm。进一步的，所述的狭缝1与光源装置3之间的垂直距离h2＝150～300μm。进一步的，上下相邻的所述嵌槽4之间的间距h3为100～200μm。进一步的，所述的狭缝的宽度为1mm。进一步的，所述的光源装置3采用LED灯。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于光检测的共面的光源‑狭缝装置，包括狭缝、光源、遮光壁，其特征在于：所述的狭缝(1)纵向布置在遮光壁(2)的前半侧，且遮光壁(2)的后半侧设有与狭缝(1)贯通的、容纳激光器外壳用的固定孔(11)，狭缝(1)两侧的遮光壁(2)上分别对称设有排成一列的若干个嵌槽(4)，每个嵌槽(4)开口于遮光壁(2)的前面并沿遮光壁(2)的前后方向设置，每个嵌槽(4)内嵌设有光源装置(3)，且光源装置(3)前端的发光面与嵌槽(4)的前侧的端口之间设有后缩间距。

【技术特征摘要】
1.一种用于光检测的共面的光源-狭缝装置，包括狭缝、光源、遮光壁，其特征在于：所述的狭缝(1)纵向布置在遮光壁(2)的前半侧，且遮光壁(2)的后半侧设有与狭缝(1)贯通的、容纳激光器外壳用的固定孔(11)，狭缝(1)两侧的遮光壁(2)上分别对称设有排成一列的若干个嵌槽(4)，每个嵌槽(4)开口于遮光壁(2)的前面并沿遮光壁(2)的前后方向设置，每个嵌槽(4)内嵌设有光源装置(3)，且光源装置(3)前端的发光面与嵌槽(4)的前侧的端口之间设有后缩间距。2.如权利要求1所述的一种用于光检测的共面的光源-狭缝装置，其特征在于...

【专利技术属性】
技术研发人员：李伟，李桂顺，赖明聪，
申请(专利权)人：中光华研电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：上海,31