一种配置IO通道的方法及半导体加工方法技术

技术编号:17108643 阅读:64 留言:0更新日期:2018-01-24 22:11
本发明专利技术提供一种配置IO通道的方法,包括在上位机配置文件中增加字段以区别不同腔室所对应的IO通道参数信息,从而提高了配置IO通道的灵活性。另外,本发明专利技术还提供一种半导体加工方法。

A method of configuring IO channel and the processing method of semiconductor

The invention provides a method for configuring IO channels, including adding fields in the upper computer configuration files to distinguish the IO channel parameters corresponding to different chambers, thereby improving the flexibility of configuring IO channels. In addition, the invention also provides a semiconductor processing method.

【技术实现步骤摘要】
一种配置IO通道的方法及半导体加工方法
本专利技术属于微电子
,涉及一种通过配置文件灵活配置IO通道的方法及半导体加工方法。
技术介绍
在半导体加工设备中存在大量的电气设备,这些电气设备需要借助模拟输入和输出通道(以下简称IO通道)进行通信。例如,在刻蚀设备中,上位机需要通过不同的IO通道分别与各腔室进行通信,以实现相应的操作。通常各腔室对应的IO通道的数量和量程范围等信息都相同,因此,只要通过上位机中PMCDigiBoard.xml和TMCDigiBoard.xml配置文件即可对不同的IO通道进行维护。然而,在实际应用中,由于不同腔室需要执行不同工艺,不同腔室所对应的IO通道的数量和量程范围等参数信息均存在较大差异,因此需要针对不同的腔室设定不同数量的IO通道以及对不同IO通道设置不同的量程范围。但是,目前使用的半导体加工设备可配置性差,不能单独针对某个腔室对应的IO通道的数量、量程范围进行配置。
技术实现思路
为解决上述技术问题,本专利技术提供一种配置IO通道的方法,其可以提高IO通道的可配置性。解决上述技术问题的所采用的技术方案是提供一种配置IO通道的方法,包括:在上位机配置本文档来自技高网...
一种配置IO通道的方法及半导体加工方法

【技术保护点】
一种配置IO通道的方法,其特征在于,包括:在上位机配置文件中增加字段,所述字段用以区别不同腔室对应的IO通道参数信息。

【技术特征摘要】
1.一种配置IO通道的方法,其特征在于,包括:在上位机配置文件中增加字段,所述字段用以区别不同腔室对应的IO通道参数信息。2.根据权利要求1所述的配置IO通道的方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤S1,根据用户需求对下位机配置文件中所述不同腔室所对应的IO通道参数信息进行配置;步骤S2,在上位机配置文件中增加字段以区别不同腔室所对应的IO通道参数信息;步骤S3,根据所述下位机配置文件对所述上位机配置文件中的所述IO通道参数信息进行配置;步骤S4,修改上位机代码以满足上位机的启动条件。3.根据权利要求2所述的配置IO通道的方法,其特征在于,在所述步骤S2和所述步骤S3之间还包括步骤:在所述上位机配置文件中,将属于同一腔室的所述IO通道参数信息按模块分类。4.根据权利要求3所述的配置IO通道的方法,其特征在于,所述模块包括温度模块、腔室模块、工艺气体模块、射频电源模块以及真空模块。5.根据权利要求3所述的配置IO通道的方法,其特征在于,启动所述上位机,在用户界面按照不同...

【专利技术属性】
技术研发人员:尤艳艳
申请(专利权)人:北京北方华创微电子装备有限公司
类型:发明
国别省市:北京,11

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