一种全光纤波长选择装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开的一种全光纤波长选择装置，包括光纤绕盘和盘绕光纤，盘绕光纤盘绕于所述螺旋刻槽区域内，从所述螺旋刻槽区域的最外圈刻槽向最内圈刻槽方向进行盘绕，绕圈的直径逐渐递减，所述盘绕光纤盘绕后采用导热胶予以固定在所述螺旋刻槽区域内；所述盘绕光纤通过所述直线刻槽从所述螺旋刻槽区域中的最外圈螺旋刻槽引出第一尾纤，所述第一尾纤直接与高功率光纤激光器的始端尾纤焊接；所述盘绕光纤通过所述弧线刻槽从所述螺旋刻槽区域中的最内圈螺旋刻槽引出第二尾纤，所述第二尾纤直接与带尾纤的半导体激光器焊接。本发明专利技术具有隔离度高、全光纤结构、自由搭配设计和具有方向性等优点。

【技术实现步骤摘要】
一种全光纤波长选择装置
本专利技术涉及光纤
，特别是一种全光纤波长选择装置的方法。
技术介绍
随着光纤激光器在科研、工业等领域应用的迅速普及，输出功率也越来越高，可以单根光纤输出几千瓦。常常需要将带尾纤的半导体激光耦合进激光腔内，作为泵浦或指示，但由于高功率光纤激光器高反射腔镜的透射、腔内非线性等影响，在始端的反向信号光功率可以到几十瓦。若直接将反向信号耦合进带尾纤的半导体激光器，反向信号光会直接将半导体激光器打坏，影响系统应用。因此，需要在半导体激光耦合进激光腔的同时，处理掉光纤激光器始端的反向信号光。由于半导体耦合激光与反向信号光的波长不同，现在利用双色镜、高功率隔离器、波分复用器等方法隔离反向信号光，保护前端耦合的半导体激光，但存在隔离度不够、空间结构复杂、器件成本过高等问题。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题在于针对现有半导体激光系统耦合后的反向信号光隔离的上述技术问题，而提供一种全光纤波长选择装置，起到既能传导短波半导体激光，又可以隔离反向光信号进入半导体激光系统的目的，保护短波耦合激光的安全可靠工作。本专利技术充分利用单模光纤的弯曲损耗与波长及弯曲半径的关系，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种全光纤波长选择装置，其特征在于，包括:一个光纤绕盘，所述光纤绕盘具有相对的第一面和第二面，在所述光纤绕盘第一面设置有一圆圈光面区域、一螺旋刻槽区域、一直线刻槽和一弧线刻槽，所述圆圈光面区域位于所述光纤绕盘第一面的中间位置，所述螺旋刻槽区域环绕在所述圆圈光面区域外，所述螺旋刻槽区域的刻槽从内圈到外圈绕圈直径逐渐增加，所述直线刻槽的内端与所述螺旋刻槽区域中的最外圈螺旋刻槽末端连接，所述弧线刻槽的内端与所述螺旋刻槽区域中的最内圈螺旋刻槽末端连接；所述光纤绕盘的第二面为光面区域，固定在散热板上；一盘绕光纤，所述盘绕光纤盘绕于所述螺旋刻槽区域内，从所述螺旋刻槽区域的最外圈刻槽向最内圈刻槽方向进行盘绕...

【技术特征摘要】
1.一种全光纤波长选择装置，其特征在于，包括:一个光纤绕盘，所述光纤绕盘具有相对的第一面和第二面，在所述光纤绕盘第一面设置有一圆圈光面区域、一螺旋刻槽区域、一直线刻槽和一弧线刻槽，所述圆圈光面区域位于所述光纤绕盘第一面的中间位置，所述螺旋刻槽区域环绕在所述圆圈光面区域外，所述螺旋刻槽区域的刻槽从内圈到外圈绕圈直径逐渐增加，所述直线刻槽的内端与所述螺旋刻槽区域中的最外圈螺旋刻槽末端连接，所述弧线刻槽的内端与所述螺旋刻槽区域中的最内圈螺旋刻槽末端连接；所述光纤绕盘的第二面为光面区域，固定在散热板上；一盘绕光纤，所述盘绕光纤盘绕于所述螺旋刻槽区域内，从所述螺旋刻槽区域的最外圈刻槽向最内圈刻槽方向进行盘绕，绕圈的直径逐渐递减，所述盘绕光纤盘绕后采用导热胶予以固定在所述螺旋刻槽区域内；所述盘绕光纤通过所述直线刻槽从所述螺旋刻槽区域中的最外圈螺旋刻槽引出第一尾纤，所述第一尾纤直接与高功率光纤激光器的始端尾纤焊接；所述盘...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘进辉，丁建武，
申请(专利权)人：光惠上海激光科技有限公司，
类型：发明
国别省市：上海,31