一种全反射X荧光光谱仪的样品盘定位装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及一种全反射X荧光光谱仪的样品盘定位装置，包括位于探测器下方的样品盘架，样品盘架的底面能够水平抽拉，样品盘水平设置于样品盘架的底面上，在样品盘架底面的下方设有压紧装置，在样品盘架两侧边框上设有水平定位装置。本实用新型专利技术解决了水平装样系统的全反射X射线荧光仪的装样和样品定位问题，定位装置不影响入射和出射光，该结构操作简单，位置固定。

A sample disk positioning device for a fully reflective X fluorescence spectrometer

【技术实现步骤摘要】
一种全反射X荧光光谱仪的样品盘定位装置
本技术属于全反射X荧光光谱仪的设计，具体涉及一种全反射X荧光光谱仪的样品盘定位装置。
技术介绍
全反射X荧光光谱仪(TXRF)具有灵敏度高(pg-ng)，样品用量少(ng-μg，包括微米级微尘样品)，定量准确、样品无需消化，即可直接和多元素同时分析等一系列突出优点。TXRF体积小，可带到取样现场，能够分析中子活化(NAA)不能分析的Pb，S，As等元素。TXRF与普通的ED-XRF不同之处在于经过切割反射体，当X射线发生全反射时，入射X射线和出射线的强度相等，消除了原级X射线在反射体上的相干和不相干散射现象，使散射本底降低了3个多量级，从而大大提高了峰背比。TXRF就是利用X射线全反射原理，将样品在反射体兼样品架上涂成薄层进行激发，达到降低散射本底、提高峰背比，以实现痕量元素分析的一项高新分析技术。TXRF样品架的位置位于探测器正下方，用于承载样品盘，第二次全反射应该发生在样品盘表面中部。对Mo靶X射线荧光全反射角度为0.1度，微小的位置变化会造成很大的误差，因此，对样品架及定位装置精度要求严格。布鲁克的TXRF仪的样品盘是竖直放置，固定样品盘本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种全反射X荧光光谱仪的样品盘定位装置，其特征在于：包括位于探测器(1)下方的样品盘架(3)，样品盘架(3)的底面能够水平抽拉，样品盘(2)水平设置于样品盘架(3)的底面上，在样品盘架(3)底面的下方设有压紧装置，在样品盘架(3)两侧边框上设有水平定位装置。

【技术特征摘要】
1.一种全反射X荧光光谱仪的样品盘定位装置，其特征在于：包括位于探测器(1)下方的样品盘架(3)，样品盘架(3)的底面能够水平抽拉，样品盘(2)水平设置于样品盘架(3)的底面上，在样品盘架(3)底面的下方设有压紧装置，在样品盘架(3)两侧边框上设有水平定位装置。2.如权利要求1所述的全反射X荧光光谱仪的样品盘定位装置，其特征在于：所述的压紧装置包括倾斜设置的压板(4)和与压板端部连接的升降轴(10)，所述升降轴(10)的上端连接有弹簧，弹簧的顶端设有钢珠，当样品盘处于测量位置时，通过样品盘架(3)的底面下...

【专利技术属性】
技术研发人员：郑维明，康海英，崔大庆，刘联伟，
申请(专利权)人：中国原子能科学研究院，
类型：新型
国别省市：北京,11