含有烃类的化妆用制剂制造技术

技术编号:17072829 阅读:60 留言:0更新日期:2018-01-20 06:48
本发明专利技术涉及化妆用和/或药用制剂,该制剂含有所选的烃类。

Makeup preparation containing hydrocarbons

The present invention relates to cosmetic and / or medicinal preparation, which contains the selected hydrocarbons.

【技术实现步骤摘要】
含有烃类的化妆用制剂本申请是申请日为2008年6月12日、申请号为200880020953.7、国际申请号为PCT/EP2008/004703的名称为“含有烃类的化妆用制剂”的中国专利技术专利申请的分案申请。
本专利技术涉及含烃类的化妆用和/或药用制剂,以及烃类作为油体和/或分散剂的用途。
技术介绍
化妆品产业将感觉清爽的油体,即所谓的“轻质柔润剂”,用于多种制剂中。特别是在装饰性化妆品或者在护理制剂中,都使用了所谓的“清爽(leichte)”组分。这些组分可例如为挥发性环状硅氧烷(例如:环戊聚硅氧烷或者环聚二甲基硅氧烷)或者用石化工艺制得的烃类。所述的后一种物质因其制造方法所致,主要为直链、环状和支链烃类的混合物,其闪点可以完全低于50℃(如为异十二烷时)。关于这类制剂的实例和应用技术说明可以参见经典著作,例如:“HandbookofCosmeticScienceandTechnology”,A.Barel,M.Paye,H.Maibach,MarcelDekkerInc.2001。然而,由于毒理学、生态学以及安全技术的原因,今后需要代替这种制剂功用的备选原料。专利技术概述本专利技本文档来自技高网...

【技术保护点】
化妆用和/或药用制剂,含有0.1‑80重量%的选自C7、C9、C11、C13、C15、C17、C19、C21和C23的烃类。

【技术特征摘要】
2008.03.04 DE 102008012458.3;2008.04.03 DE 10200801.化妆用和/或药用制剂,含有0.1-80重量%的选自C7、C9、C11、C13、C15、C17、C19、C21和C23的烃类。2.根据权利要求1所述的制剂,其中,所述制剂含有直链烃类。3.根据权利要求1和/或2所述的制剂,其中,所述制剂含有饱和烃类。4.根据权利要求1~3中至少一项所述的制剂,其中,所述烃类选自正庚烷、正壬烷、正十一烷、正十三烷、正十五烷、正十七烷、正十九烷、正二十一烷和正二十三烷。5.根据权利要求1~4中至少一项所述的化妆用和/或药用制剂,其中,该化妆用和/或药用制剂含有至...

【专利技术属性】
技术研发人员:马库斯·迪尔克乔基姆·里克特
申请(专利权)人:考格尼斯知识产权管理有限责任公司
类型:发明
国别省市:德国,DE

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