The invention relates to the field of semiconductor manufacturing technology, in particular to a target vacuum diffusion welding system and method. The material of vacuum diffusion welding system at least comprises a target, the flange and the force applying part; the outer periphery of the target surface is provided with a groove, the side edge of the flange is provided with a tilted part, the flange assembly on the target, and the tilt and the groove are arranged corresponding to the the force applying part to the tilted part stress is applied to make the tilt Department jogged in the groove. The flanges are squeezed into the target by means of extrusion on the lathe. The way of extrusion assembly can solve the technical problems of difficult welding for special shaped target and flange materials. In addition, the diffusion welding can be achieved by vacuum heat treatment in the target material.
【技术实现步骤摘要】
一种靶材真空扩散焊接系统及方法
本专利技术涉及半导体制造
,尤其是涉及一种靶材真空扩散焊接系统及方法。
技术介绍
目前,半导体用靶材一般为高纯金属,背板材料一般为高强度、高硬度的合金金属,不同金属材料热膨胀系数存在差异,在受热及冷却过程中金属膨胀和收缩的程度也存在不同。半导体行业有一种靶材参与溅射主体部分呈锅形,材料为高纯金属,其用于安装在机台上的法兰部分需要用硬度较高的金属及合金材料,需要将法兰和高纯溅射金属材料焊接在一起。锅形的钽靶材不像其他平面靶材,由于其结构特殊,焊接难度相对较大。如果溅射靶材和法兰材料熔点相差不多,易于电子束焊接,则可以采用电子束焊接方式将两者焊接在一起。但如溅射靶材和法兰材料熔点相差较大,两种金属无法电子束熔在一起则需采用其他焊接方式。如果用热等静压焊接,则需要制作包套使靶材和法兰材料在真空环境中,但锅形的靶材形状特殊,包套制作难度很大,且边角处容易在焊接时被吸穿,造成焊接失败。公开于该
技术介绍
部分的信息仅仅旨在加深对本申请的总体
技术介绍
的理解,而不应当被视为承认或以任何形式暗示该信息构成已为本领域技术人员所公知的现有技术。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种靶材真空扩散焊接系统及方法,以解决现有技术中存在的形状特殊的靶材和法兰材料的焊接困难的技术问题。为了实现上述目的,本专利技术采用以下技术方案:第一方面,本专利技术提供一种靶材真空扩散焊接系统,其包括:靶材、法兰和施力部件;所述靶材的外周面设置有凹槽部,所述法兰的侧边缘设置有翘起部,所述法兰装配于所述靶材上,且所述翘起部与所述凹槽部对应设置,所述施力部件用于向所述翘 ...
【技术保护点】
一种靶材真空扩散焊接系统,其特征在于,包括:靶材、法兰和施力部件;所述靶材的外周面设置有凹槽部,所述法兰的侧边缘设置有翘起部,所述法兰装配于所述靶材上,且所述翘起部与所述凹槽部对应设置,所述施力部件用于向所述翘起部施加应力以使所述翘起部嵌合于所述凹槽部。
【技术特征摘要】
1.一种靶材真空扩散焊接系统,其特征在于,包括:靶材、法兰和施力部件;所述靶材的外周面设置有凹槽部,所述法兰的侧边缘设置有翘起部,所述法兰装配于所述靶材上,且所述翘起部与所述凹槽部对应设置,所述施力部件用于向所述翘起部施加应力以使所述翘起部嵌合于所述凹槽部。2.根据权利要求1所述的靶材真空扩散焊接系统,其特征在于,还包括:柱体部件,所述柱体部件的端部插入至所述靶材的内部,所述柱体部件的膨胀系数大于所述靶材的膨胀系数,所述柱体部件的外径与所述靶材的内径相同。3.根据权利要求2所述的靶材真空扩散焊接系统,其特征在于,所述柱体部件包括一体连接的插入段和封装段,所述插入段的外径与所述靶材的内径相同,所述封装段的外径大于所述插入段的外径。4.根据权利要求3所述的靶材真空扩散焊接系统,其特征在于,所述插入段在所述靶材内部的伸入距离至少能够覆盖至所述法兰的所在位置。5.根据权利要求2所述的靶材真空扩散焊接系统,其特征在于,所述柱体部件的材质为金属材质。6.根据权利要求1所述的靶材真空扩散焊接系统,其特征在于,还包括:内撑夹具...
【专利技术属性】
技术研发人员:姚力军,潘杰,王学泽,廖培君,
申请(专利权)人:宁波江丰电子材料股份有限公司,
类型:发明
国别省市:浙江,33
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