一种偏光片光学量测系统、量测方法及量测处理设备技术方案

本发明专利技术公开了一种偏光片光学量测系统、量测方法及量测处理设备，所述量测系统包括：量测组件和控制装置；所述量测组件包括依序设置于测试光的光路上的偏光片载台和光接收器件；所述控制装置分别与所述偏光片载台和所述光接收器件连接，用于：控制所述偏光片载台进行旋转；从所述光接收器件中探测所述测试光的光谱；根据得到的光谱计算所述待测偏光片的光学参数。通过上述方法，本发明专利技术可以满足对偏光片光学参数的量测的高精度要求。

A polarizer optical measurement system, measurement method and measurement equipment

【技术实现步骤摘要】
一种偏光片光学量测系统、量测方法及量测处理设备
本专利技术涉及液晶显示领域，特别是涉及一种偏光片光学量测系统、量测方法及量测处理设备。
技术介绍
目前常用的液晶面板显示模式主要包括TN模式、VA模式、IPS模式。以VA模式为例：VA显示是一种垂直配向的常黑模式，其上下基板偏光片吸收轴垂直偏贴。VA液晶显示的原理基于液晶的透光率随其所施电压大小而变化的特性。当光通过下基板(TFT基板)偏振片后，变成线性偏振光，偏振方向与下偏振片穿透方向一致。在不加电压时，光线经过液晶不会发生偏振方向改变，经过上基板(CF基板)偏光片光线被吸收，为黑态。当加上电压以后，液晶在电场作用下沿配向方向发生偏转，当光通过液晶层时，由于受液晶折射，线性偏振光被分解为两束光，又由于这两束光传播速度不同，因而当两束光合成后，必然使偏振光的偏振方向发生变化，当入射光达到上基板(CF基板)偏振片时，与下偏振片的穿透方向平行的光线可以通过，为亮态。可知，在整个显示过程中，偏光片起到至关重要的作用，偏光片会影响液晶面板的穿透率、亮度、对比度、色度等重要参数，故需要对偏光片的各项光学参数，比如单体穿透率、平行穿透率、垂直穿透率本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种偏光片光学量测系统，其特征在于，包括：量测组件和控制装置；所述量测组件包括依序设置于测试光的光路上的偏光片载台和光接收器件；其中，所述偏光片载台用于承载待测偏光片，并响应所述控制装置的控制指令进行旋转以改变其承载的所述待测偏光片的偏振方向；所述光接收器件用于接收经过所述偏光片载台后的测试光；所述控制装置分别与所述偏光片载台和所述光接收器件连接，用于：在所述偏光片载台上未放置所述待测偏光片时，从所述光接收器件中探测所述测试光的第一光谱；在所述偏光片载台上放置所述待测偏光片时，控制所述偏光片载台以一旋转角度进行多次旋转，以得到所述待测偏光片的穿透率满足设定要求的角度范围；以小于上轮旋转的旋转角...

【技术特征摘要】
1.一种偏光片光学量测系统，其特征在于，包括：量测组件和控制装置；所述量测组件包括依序设置于测试光的光路上的偏光片载台和光接收器件；其中，所述偏光片载台用于承载待测偏光片，并响应所述控制装置的控制指令进行旋转以改变其承载的所述待测偏光片的偏振方向；所述光接收器件用于接收经过所述偏光片载台后的测试光；所述控制装置分别与所述偏光片载台和所述光接收器件连接，用于：在所述偏光片载台上未放置所述待测偏光片时，从所述光接收器件中探测所述测试光的第一光谱；在所述偏光片载台上放置所述待测偏光片时，控制所述偏光片载台以一旋转角度进行多次旋转，以得到所述待测偏光片的穿透率满足设定要求的角度范围；以小于上轮旋转的旋转角度的一角度作为新的旋转角度，控制所述偏光片载台在上轮旋转得到的角度范围内以新的旋转角度进行多次旋转，以从所述上轮旋转得到的角度范围内选择出新的所述待测偏光片的穿透率满足所述设定要求的角度范围；执行本步骤至少一次以上后，从最终轮旋转得到的角度范围中选择一角度作为参考角度；在所述偏光片载台旋转至所述参考角度时，从所述光接收器件中探测所述测试光的第二光谱，并在所述偏光片载台旋转至与所述参考角度垂直的角度时，从所述光接收器件中探测所述测试光的第三光谱；根据得到的所述第一光谱、所述第二光谱和所述第三光谱计算所述待测偏光片的光学参数。2.根据权利要求1所述的量测系统，其特征在于，所述控制装置执行控制所述偏光片载台以一旋转角度进行多次旋转，以得到所述待测偏光片的穿透率满足设定要求的角度范围，具体包括：控制所述偏光片载台以旋转角度β进行多次旋转，并从每次旋转后从所述光接收器件探测到的数据中选择所述待测偏光片的穿透率满足设定要求的一数据，确定所述选择的数据对应的所述偏光片载台的偏转角度A，得到角度范围为[A-β，A+β]。3.如权利要求1所述的量测系统，其特征在于，所述偏光片载台每轮旋转的所述旋转角度为0.01°至5°中的角度值。4.如权利要求1所述的量测系统，其特征在于，所述设定要求为当前轮旋转中探测到的数据对应的所述待测偏光片的穿透率中最低或者最高；所述控制装置具体用于根据所述第一光谱、所述第二光谱和所述第三光谱计算得到所述待测偏光片的平行穿透频谱DMD和垂直穿透频谱DTD，并由得到的穿透频谱计算出所述待测偏光片的光学参数；其中，平行穿透频谱满足公式DMD＝F3/F1,垂直穿透频谱满足公式DTD＝F2/F1，所述F1为所述第一光谱，当所述设定要求为当前轮旋转中探测到的数据对应的所述待测偏光片的穿透率中最低时，所述F2为所述第二光谱，所述F3为所述第三光谱；所述设定要求为当前轮旋转中探测到的数据对应的所述待测偏光片的穿透率中最高时，所述F2为所述第三光谱，所述F3为所述第二光谱。5.如权利要求1所述的量测系统，其特征在于，所述控制装置还用于在所述光接收器件的入光口前放置遮光板时，从所述光接收器件中探测得到所述量测装置的干扰光谱，并在根据得到的所述第一光谱、所述第二光谱和所述第三光谱计算所述待测偏光片的光学参数之前，将所述第二光谱和所述第三光谱分别减去所述干扰光谱以更新所述第二光谱和所述第三光谱。6.如权利要求1所述的量...

【专利技术属性】
技术研发人员：海博，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44