The invention relates to a soilless cultivation of watermelon planting method, watermelon seedling transplanting to the planting container with the matrix, and placed in the planting frame, from the direction of the spray container planting matrix nutrient solution, realize aeroponics through root system spray nutrient solution from under the direction of the container from the bottom of the container planting planting grow the lower part of the immersion and grow root achieve hydroponics in nutrition in the bottom of the tank through the planting frame, achieves the organic combination of soilless culture, aerosol culture and water culture of the three, provides water and nutrient and oxygen supply sufficient for the growth of watermelon. The invention can effectively promote the growth of watermelon, eliminate diseases and insect pests, and truly do not fight pesticides, and do not need to replace the planting sites every year, and solve the problem of large loss of water and nutrients and low use efficiency in traditional planting.
【技术实现步骤摘要】
无土栽培西瓜种植方法
本专利技术涉及一种西瓜种植方法,尤其涉及一种采用无土栽培技术进行西瓜种植的方法。
技术介绍
目前西瓜种植仍以传统的土壤种植为主。由于严重威胁西瓜生产的病原菌能在土壤中越冬,因此可在土壤中存活很多年,对西瓜种植危害极大。因此按照传统的土壤种植方式,通常每种植一年后就需要搬离当年种植的地方,重新选择新的地方种植,不可避免地要浪费很多的人力和物力。即便如此,种植过程中仍然避免不了要使用农药,存在对人体造成危害的风险,而且增加成本。而且,由于采用传统的适用于土壤种植的灌溉与施肥方式,水和肥料的利用率都比较低,流失明显。
技术实现思路
本专利技术旨在提供一种无土栽培西瓜种植方法,可杜绝病虫害,为西瓜生长提供足够的水、氧气和养分,且无需每年更换场地。本专利技术的主要技术方案有:一种无土栽培西瓜种植方法,包括:(1)移栽西瓜苗:向定植容器内装入基质,将经过预先消毒和杀菌的西瓜苗移栽到所述定植容器内,给定植容器内的基质浇透水,再将所述定植容器摆放在种植架上,所述种植架的下部设有营养液回收装置;(2)苗期管理:西瓜苗未长出所述定植容器之前,用位于所述定植容器上方的 ...
【技术保护点】
一种无土栽培西瓜种植方法,其特征在于,包括:(1)移栽西瓜苗:向定植容器内装入基质,将经过预先消毒和杀菌的西瓜苗移栽到所述定植容器内,给定植容器内的基质浇透水,再将所述定植容器摆放在种植架上,所述种植架的下部设有营养液回收装置;(2)苗期管理:西瓜苗未长出所述定植容器之前,用位于所述定植容器上方的喷头给西瓜苗喷淋营养液为主,用位于所述定植容器下方的喷头朝上向西瓜苗即将伸出的根部的位置喷淋营养液为辅;西瓜苗的根系长出所述定植容器之后,用位于所述定植容器下方的喷头向伸出到所述定植容器外部的根系喷淋营养液为主,用位于所述定植容器上方的喷头给西瓜苗喷淋营养液为辅;位于所述定植容器上 ...
【技术特征摘要】
1.一种无土栽培西瓜种植方法,其特征在于,包括:(1)移栽西瓜苗:向定植容器内装入基质,将经过预先消毒和杀菌的西瓜苗移栽到所述定植容器内,给定植容器内的基质浇透水,再将所述定植容器摆放在种植架上,所述种植架的下部设有营养液回收装置;(2)苗期管理:西瓜苗未长出所述定植容器之前,用位于所述定植容器上方的喷头给西瓜苗喷淋营养液为主,用位于所述定植容器下方的喷头朝上向西瓜苗即将伸出的根部的位置喷淋营养液为辅;西瓜苗的根系长出所述定植容器之后,用位于所述定植容器下方的喷头向伸出到所述定植容器外部的根系喷淋营养液为主,用位于所述定植容器上方的喷头给西瓜苗喷淋营养液为辅;位于所述定植容器上方和下方的喷头所喷出的营养液除留在西瓜苗上的部分外全部回流到所述营养液回收装置中;(3)生长期管理:待西瓜苗的根系伸展到或接近所述营养液回收装置的底部时,控制所述营养液回收装置内的营养液深度为4-6cm,使根系的底部浸泡在所述营养液回收装置的营养液中。2.如权利要求1所述的无土栽培西瓜种植方法,其特征在于:在所述苗期管理的过程中,西瓜苗未长出所述定植容器之前,控制营养液的EC值在0.8-1.0ms/cm之间,pH值在5.5-6.5之间。3.如权利要求2所述的无土栽培西瓜种植方法,其特征在于:在所述苗期管理的过程中,西瓜苗未长出所述定植容器之前,位于所述定植容器上方和下方的喷头的开启频率范围分别是每隔20-40分钟喷一次和每隔100-140分钟喷一次;西瓜苗的根系长出所述定植容器之后,位于所述定植容器上方和下方的喷头的开启频率范围分别是每隔5...
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