一种基于Fe制造技术

本发明专利技术属于碳膜制备技术领域，尤其涉及一种基于Fe

【技术实现步骤摘要】
一种基于Fe2+调控电沉积碳膜粒径大小的方法
本专利技术属于碳膜制备
，尤其涉及一种基于Fe2+调控电沉积碳膜粒径大小的方法。
技术介绍
碳膜是一类具有发展和应用前景的新型材料，由于其具有优良的性能受到了研究人员的广泛关注。制备碳膜的方法可以分为物理气相沉积法(physicalvapordeposition，PVD)和化学气相沉积法(chemicalvapordeposition，CVD)。磁控溅射、磁过滤电弧放电沉积、离子束溅射、脉冲高能量密度溅射等属于物理气相沉积方法，化学气相沉积方法有射频辉光放电辅助微波等离子体辅助CVD，电子回旋共振等离子体(electroncyclotronresonaoce，ECR)辅助CVD等。同样的沉积技术，采用不同的工艺条件可以获得结构、组成和性能不同的碳膜。这些传统方法很难精确控制厚度，通常适用于生长较厚、粒径较大的薄膜，并且对基体形貌特征有较高的要求。
技术实现思路
为了解决现有技术中采用液相电化学沉积碳膜的工艺中，均需要在较高的工作电压、温度下进行，操作困难并且不易调控碳膜的粒径的问题，本专利技术提供一种基于Fe2+调控电沉积碳膜粒径大小的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基于Fe

【技术特征摘要】
1.一种基于Fe2+调控电沉积碳膜粒径大小的方法，其特征在于：所述方法的具体操作步骤包括：(1)采用掺杂氟的二氧化锡导电玻璃(FTO)、氧化铟锡玻璃(ITO)或单晶硅作为电沉积碳膜的阴极，将阴极依次用去离子水、丙酮、无水乙醇、去离子水各超声清洗5～20分钟后备用；(2)采用铂片作为电沉积碳膜的阳极；(3)调整阴阳两极之间的距离为5～15毫米，以含Fe2+的醇溶液作为电解液，在阴阳两极之间施加电压进行电沉积，制得碳膜。2.如权利要求1所述的基于Fe2+调控电沉积碳膜粒径大小的方法，其特征在于：所述阳极的面积≥阴极的面积。3.如权利要求1所述的基于Fe2+调控电沉积碳膜粒径大小的方法，其特征在于：所述Fe2+的浓度为0.01～0.2m...

【专利技术属性】
技术研发人员：梁彭花，李龙珠，刘长海，王世颖，王文昌，陈智栋，
申请(专利权)人：常州大学，
类型：发明
国别省市：江苏,32