一种高耐磨高抗污薄膜及其制作工艺制造技术
A high wear resistant and high anti fouling film and its fabrication process
The invention provides a high wear-resistant high anti pollution film and its producing process, including film coated ink layer on the base film, coated in ink on the antistatic layer coated on the antistatic layer on the silicon layer, coated TiO2 photocatalytic coatings on silicone oil layer, the TiO2 photocatalytic coating mixed with nanometer anion powder. High wear resistance provided by the invention has high anti pollution film includes a base film, ink layer, antistatic layer, silicon layer, TiO2 photocatalytic coating, TiO2 photocatalytic coating mixed with nano negative ion powder, so that the high wear-resistant anti fouling film abrasion resistance, antistatic property, solvent resistance, water resistance sewage and air purification ability.
【技术实现步骤摘要】
一种高耐磨高抗污薄膜及其制作工艺
本专利技术涉及薄膜
，尤其涉及一种高耐磨高抗污薄膜及其制作工艺。
技术介绍
随着科学技术的日益发展，手机和平板电脑已经成为了人们不可或缺的日用品。随着人们生活水平的不断提高，在追求商品基本实用价值的同时，对商品的性能和应用提出了更高的要求。为了防止手机和平板电脑的显示屏幕被污染，通常会在手机和平板电脑表面贴上一层保护薄膜。但是，现有的手机和平板电脑保护薄膜存在耐磨性较差、不具有抗静电性、耐污耐溶剂性较差，薄膜表面容易被污染等缺陷。有鉴于此，有必要对现有技术中的薄膜及其制作工艺予以改进，以解决上述问题。
技术实现思路
本专利技术的目的之一在于公开一种高耐磨高抗污薄膜，用以使薄膜具有耐磨性、抗静电性、耐溶剂性、亲水抗污性以及净化空气的能力。为实现上述目的，本专利技术提供了一种高耐磨高抗污薄膜，包括基膜，涂布在基膜上的油墨层，涂布在油墨层上的抗静电层，涂布在抗静电层上的硅油层，涂布在硅油层上的TiO2光催化涂层，所述TiO2光催化涂层中混合有纳米级负离子粉。在一些实施方式中，所述油墨层的厚度为2-3μm。在一些实施方式中，所述抗静电层...
【技术保护点】
一种高耐磨高抗污薄膜，其特征在于，包括基膜，涂布在基膜上的油墨层，涂布在油墨层上的抗静电层，涂布在抗静电层上的硅油层，涂布在硅油层上的TiO2光催化涂层，所述TiO2光催化涂层中混合有纳米级负离子粉。
【技术特征摘要】
1.一种高耐磨高抗污薄膜，其特征在于，包括基膜，涂布在基膜上的油墨层，涂布在油墨层上的抗静电层，涂布在抗静电层上的硅油层，涂布在硅油层上的TiO2光催化涂层，所述TiO2光催化涂层中混合有纳米级负离子粉。2.根据权利要求1所述的高耐磨高抗污薄膜，其特征在于，所述油墨层的厚度为2-3μm。3.根据权利要求2所述的高耐磨高抗污薄膜，其特征在于，所述抗静电层的厚度为2.5-3.5μm。4.根据权利要求3所述的高耐磨高抗污薄膜，其特征在于，所述硅油层的厚度为1-2μm。5.根据权利要求4所述的高耐磨高抗污薄膜，其特征在于，所述TiO2光催化涂层的厚度为3-4μm。6.根据权利要求1所述的高耐磨高抗污薄膜，其特征在于，所述油墨层和抗静电层的交界线呈凹凸状。7.根据...
【专利技术属性】
技术研发人员：刘茂铭，吴凌峰，
申请(专利权)人：安徽明讯新材料科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽,34
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